CN203530417U - 蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及显示装置制备技术领域，具体涉及一种蒸镀设备。该蒸镀设备包括蒸发源、蒸汽存储机构以及喷射机构；所述蒸发源用于提供有机蒸汽；所述蒸汽存储机构用于存储所述蒸发源提供的有机蒸汽并可控的输入至所述喷射机构；所述喷射机构用于将输入的有机蒸汽喷射到基板上形成有机镀膜。本实用新型实施例所提供的蒸镀设备，通过设置蒸汽存储机构，利用蒸汽存储机构将蒸发源提供的有机蒸汽预先存储起来，而不是直接喷射至目标基板，这样，通过调整蒸汽存储机构输出有机蒸汽的流量，即可控制蒸镀的速率，因此，可以有效减少蒸镀设备对晶振片的依赖，增强了蒸镀设备的连续运作能力，为提升OLED显示器件的制备效率提供了有力的技术支持。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示装置制备技术领域，具体涉及一种蒸镀设备。
背景技术
OLED（Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管）显示装置由于具有自发光、无需背光模组、对比度以及清晰度高、视角宽、全固化、适用于挠曲性面板、温度特性好、低功耗、响应速度快以及制造成本低等一系列优异特性，已经成为新一代平面显示装置的重点发展方向之一，因此日益受到越来越多的关注。
现有技术中，OLED显示器件的基本结构包括阳极层，功能膜层以及阴极层等；上述功能膜层包括：空穴传输层、有机发光层以及电子传输层等；其中，有机发光层的成膜方法有很多种，包括蒸镀成膜法、分子束外延法、有机化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等；其中，蒸镀成膜法由于具有操作简单、膜厚容易控制、对薄膜的污染小以及易于实现掺杂等优点，现有技术中多采用蒸镀成膜法形成有机发光层等有机功能膜层，即在真空环境下，将有机材料加热使其蒸发（升华），并沉积到目标基板上形成对应的功能膜层。
传统技术中，制备OLED显示器件时通常使用点源式蒸镀设备，但是由于点源式蒸镀设备存在对有机材料的利用率低、蒸镀效率低以及基板面内膜厚分布均匀性差等问题，因此，在高世代OLED产线中，制备OLED显示器件时已经逐渐改为使用线源式蒸镀设备，从而可以提高蒸镀效率以及对有机材料的利用率。但是由于线源式蒸镀设备结构复杂，增加了控制的难度；例如，现有技术中的线源式蒸镀设备通常是将从线性蒸发源蒸发出的有机蒸汽气体直接喷射至目标基板表面，利用晶振片来控制蒸发速率，从而控制蒸镀的速率，但是晶振片使用寿命有限，这样就要求每在工作一段时间后，就必须停止生产，更换晶振片；然而，对于量产线，蒸镀设备需要能够满足稳定、持续的生产，因此，对于如何减少蒸镀设备对晶振片的依赖，提升蒸镀设备连续运作的能力是亟待解决的。
实用新型内容
（一）要解决的技术问题
本实用新型的目的在于提供一种蒸镀设备，用于减少蒸镀设备对晶振片的依赖，提升蒸镀设备的连续运作能力。
（二）技术方案
本实用新型技术方案如下：
一种蒸镀设备，包括蒸发源、蒸汽存储机构以及喷射机构；
所述蒸发源用于提供有机蒸汽；
所述蒸汽存储机构用于存储所述蒸发源提供的有机蒸汽并可控的输入至所述喷射机构；
所述喷射机构用于将输入的有机蒸汽喷射到基板上形成有机镀膜。
优选的，所述蒸发源为线性蒸发源。
优选的，所述线性蒸发源包括蒸发容器以及线性加热源。
优选的，所述蒸汽存储机构的输出端设置有用于控制所述有机蒸汽输出流量的流量控制机构。
优选的，所述流量控制机构为线性调节阀。
优选的，还包括用于将所述蒸汽存储设备内的有机蒸汽维持在预定温度范围内的控温机构。
优选的，所述喷射机构包括若干个均匀的将所述有机蒸汽喷射到基板上的喷嘴。
优选的，还包括设置在所述蒸发源与蒸汽存储机构之间的蒸汽输运泵。
优选的，还包括用于控制所述蒸镀设备整体温度的加热以及冷凝机构。
优选的，还包括用于驱动以及控制所述基板与喷射机构之间的相对运动的伺服驱动机构。
（三）有益效果
本实用新型实施例所提供的蒸镀设备，通过设置蒸汽存储机构，利用蒸汽存储机构将蒸发源提供的有机蒸汽预先存储起来，而不是直接喷射至目标基板，这样，通过调整蒸汽存储机构输出有机蒸汽的流量，即可控制蒸镀的速率，因此，可以有效减少蒸镀设备对晶振片的依赖，增强了蒸镀设备的连续运作能力，为提升OLED显示器件的制备效率提供了有力的技术支持。
附图说明
图1是本实用新型中蒸镀设备的结构示意图。
图中：11：目标基板；12：掩膜板；21：喷嘴；22：真空腔室。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式做进一步描述。以下实施例仅用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
本实施例中所提供的蒸镀设备如图1中所示；该蒸镀设备包括蒸发源、蒸汽存储机构以及喷射机构；其中，蒸发源用于提供有机蒸汽；蒸汽存储机构用于存储蒸发源提供的有机蒸汽并可控的输入至喷射机构；喷射机构用于将输入的有机蒸汽喷射到基板上形成有机镀膜。该蒸镀设备中，利用蒸汽存储机构将蒸发源提供的有机蒸汽预先存储起来，而不是直接喷射至目标基板11，这样，通过调整蒸汽存储机构输出有机蒸汽的流量，即可控制蒸镀的速率，因此，可以有效减少蒸镀设备对晶振片的依赖，增强了蒸镀设备的连续运作能力，为提升OLED显示器件的制备效率提供了有力的技术支持。
为了提高蒸镀效率以及对有机材料的利用率，本实施例中，上述蒸发源优选为线性蒸发源；例如，该线性蒸发源包括蒸发容器以及线性加热源，所谓线性就是蒸发容器在线性加热源提供热能的情况下能够产生线性的有机气体，实现有机材料的线性蒸发；其中，蒸发容器可以为坩埚，一般由不锈钢材料制作，在其内部容纳有既定的有机材料；线性加热源可以由若干线圈组成，利用设置在蒸发容器外部的交流电源对该线圈施加预定频率的交流电压，可以准确地控制加热温度，从而保证有机材料能够均匀受热。
进一步的，蒸汽存储机构的输出端设置有用于流量控制机构，通过流量控制机构可以精确的控制有机蒸汽输出的流量，从而精确的控制蒸镀的速率；流量控制机构可以有多种实现方式，例如本实施例中的流量控制机构为线性调节阀，即调节阀的阀门开度越大则输出流量越大；由于线性调节阀具有控制精确且稳定、调节方便等优点，因此，可以方便对蒸镀速率的控制以及提升对蒸镀速率控制的精度。
在蒸汽存储机构中有机蒸汽的压强高到一定的程度时，蒸发源向蒸汽存储机构输入有机蒸汽的速率将变的很低，甚至无法进行进一步的输入；因此，本实施例中还在蒸发源与蒸汽存储机构之间设置了蒸汽输运泵，利用蒸汽输运泵快速的将蒸发源提供的有机蒸汽输运至蒸汽存储机构，并且能够在达到上述压强时，仍然可以进一步的向蒸汽存储机构中输入有机蒸汽，将蒸汽存储机构中有机蒸汽的压强维持在较高的水平，保证蒸汽存储机构中有充足的有机蒸汽，从而增大对蒸镀速率调整的范围。
由于有机蒸汽在进入蒸汽存储机构之后仍然需要维持在预定的温度范围内，以防止有机蒸汽状态的改变，从而影响到蒸镀效率；因此，本实施例中还设置了控温机构，通过控温机构将蒸汽存储设备内的有机蒸汽维持在预定温度范围内；控温机构可以设置在蒸汽存储机构的内部，直接对有机蒸汽进行加热，也可以设置在蒸汽存储机构的外部，通过蒸汽存储机构进行热量的传递。
本实施例中，喷射机构包括若干个均匀的将有机蒸汽喷射到基板上的喷嘴21，例如，所有喷嘴21均匀排列，并且为了保证喷射的均一性，需要根据距离有机蒸汽输入端（流量控制机构）距离的不同，设置各个喷嘴21的大小；喷射机构设置在真空腔室22中，真空腔室22中还设置有用于驱动以及控制目标基板11与喷射机构之间的相对运动的伺服驱动机构，在目标基板11带镀膜的一面上设置有具有预设图案的掩膜板12；伺服驱动机构驱动目标基板11保持一定的速度在喷射机构上方运动，从而使整个目标基板11都能均匀沉积上有机材料，形成与掩膜板12图案对应的有机膜层图案；通过目标基板11与喷射机构之间的相对运动，可以使蒸镀设备更加适用于大面积基板和器件的大批量生产，并且提高了成膜速度；当然，也可以是喷射机构保持一定的速度移动，例如喷淋机构采用来回扫描式进行移动等，并不局限于上述实现方式。
最后，由于有机材料的蒸镀需要在特定的温度环境下进行，因此本实施例还包括设置了加热以及冷凝机构，通过加热以及冷凝机构控制蒸镀设备的整体温度，保证蒸镀过程的正常进行。
本实施例中还提供了一种利用上述蒸镀设备实现的蒸镀方法；例如，依次包括以下步骤：
S1.通过线性加热源对蒸发容器进行加热，从而蒸发出有机蒸汽；
S2.关闭线性调节阀，通过蒸汽输运泵将从蒸发容器蒸发出的有机蒸汽输运至蒸汽存储机构，直至蒸汽存储机构中的有机蒸汽压强达到预设压强值；
S3.当需要进行蒸镀时，打开并控制线性调节阀，使有机蒸汽按照指定的流量输入至喷射机构，再通过喷射机构以稳定的速率蒸镀到目标基板11上；
S4.通过伺服驱动机构驱动目标基板11保持一定的速度在喷射机构上方往复运动；
S5.在需要进行蒸镀速率的调整时，通过线性调节阀控制蒸汽存储机构输出有机蒸汽的流量，即可实现对蒸镀速率调整。
以上实施方式仅用于说明本实用新型，而并非对本实用新型的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的保护范畴。
Claims (10)
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括蒸发源、蒸汽存储机构以及喷射机构；
所述蒸发源用于提供有机蒸汽；
所述蒸汽存储机构用于存储所述蒸发源提供的有机蒸汽并可控的输入至所述喷射机构；
所述喷射机构用于将输入的有机蒸汽喷射到基板上形成有机镀膜。
2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸发源为线性蒸发源。
3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述线性蒸发源包括蒸发容器以及线性加热源。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸汽存储机构的输出端设置有用于控制所述有机蒸汽输出流量的流量控制机构。
5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述流量控制机构为线性调节阀。
6.根据权利要求1-3或5任意一项所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括用于将所述蒸汽存储设备内的有机蒸汽维持在预定温度范围内的控温机构。
7.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述喷射机构包括若干个均匀的将所述有机蒸汽喷射到基板上的喷嘴。
8.根据权利要求1-3、5或7任意一项所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括设置在所述蒸发源与蒸汽存储机构之间的蒸汽输运泵。
9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括用于控制所述蒸镀设备整体温度的加热以及冷凝机构。
10.根据权利要求1-3、5、7或9任意一项所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括用于驱动以及控制所述基板与喷射机构之间的相对运动的伺服驱动机构。
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
| CN104762600A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-07-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚和蒸镀装置 |
| CN108060392A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-05-22 | 深圳先进技术研究院 | 一种可控线性蒸发装置及镀膜方法 |
| CN108103452A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-06-01 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种l型oled蒸镀线源 |
| WO2018196113A1 (zh) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 武汉华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置 |
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104762600A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-07-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚和蒸镀装置 |
| US10260144B2 (en) | 2015-04-20 | 2019-04-16 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Evaporation crucible and evaporation device |
| WO2018196113A1 (zh) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 武汉华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置 |
| CN108060392A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-05-22 | 深圳先进技术研究院 | 一种可控线性蒸发装置及镀膜方法 |
| CN108103452A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-06-01 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种l型oled蒸镀线源 |
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