CN203498268U - 抓取式西瓦淋釉装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种抓取式西瓦淋釉装置，包括有间距平行布设的西瓦输入输送带、西瓦输出输送带以及淋釉区，若干西瓦夹头沿着输送带布设，第一气缸驱动第一转轴带动西瓦夹头上下摆动，第一转轴安装在升降架上，第一电机和曲柄连杆机构驱动升降架上下滑动，升降架安装在横移架上，横移架架设在一组轨道横梁上，横移架由同步轮和同步带驱动往复移动，对应输入输送带上西瓦的前端设前挡板，前挡板固定在升降板，升降板固定在立杆上，立杆与曲臂铰接，曲臂由连杆和第二气缸驱动往复摆动，西瓦的非夹持侧设有侧挡板，侧挡板上下摆动地固定在第二转轴上，第二转轴安装在机架上，第三气缸驱动第二转轴带动侧挡板上下摆动，实现了机械化自动淋釉功能。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种对西瓦进行淋釉的装置。
背景技术
西瓦淋釉时需要垂直淋釉，淋釉后需要有一定的滴淋时间以保证釉面均匀。传统工艺使用人工抓取西瓦浸入淋釉池内，淋釉后放到一倾斜的机构上。传统工艺存在劳动强度大，工作效率低等问题。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种可减少劳动强度，提高生产效率的抓取式西瓦淋釉装置。
为解决上述技术问题所采用的技术方案：一种抓取式西瓦淋釉装置，其特征在于：包括有间距平行布设的西瓦输入输送带、西瓦输出输送带以及淋釉区，设有沿着输送带布设的若干西瓦夹头，西瓦夹头均固定在第一转轴上，第一转轴安装在一升降架上，第一转轴和升降架之间安装有用以驱动第一转轴往复转动从而带动夹头上下摆动的第一气缸，升降架上下滑动地安装在一横移架上，横移架上安装有用以驱动升降架升降的第一电机以及曲柄连杆机构，横移架于输入输送带和输出输送带和淋釉区上方之间往复移动地架设在一组轨道横梁上，轨道横梁分别固定在机架相对的两侧，横移架的架设端安装有同步轮，同步轮通过两侧的张紧轮与同步带配合安装，同步带固定在轨道横梁的两端，横移架上安装有用以驱动同步轮转动的第二电机，对应输入输送带上的夹头夹持的西瓦的前端均设一前挡板，前挡板均固定在一升降板上，升降板固定在至少两根立杆上，对应每根立杆分别设一与机架枢接的同步摆动的曲臂，每根立杆的下端分别与同步摆动的曲臂的横向端铰接，曲臂的下端之间铰接有连杆，曲臂和连杆构成的同步机构与机架之间安装有用以驱动同步机构往复摆动的第二气缸，设一可挡在输入输送带上的西瓦的非夹持侧的侧挡板，侧挡板上下摆动地固定在第二转轴上，第二转轴安装在机架上，第二转轴和机架之间安装有用以驱动第二转轴往复转动从而带动侧挡板上下摆动的第三气缸。
在上述基础上，在输出输送带和淋釉区之间设有滴釉区，对应滴釉区和淋釉区的下方固定有滴釉槽。
采用本实用新型所带来的有益效果：本实用新型可成排地夹取西瓦移至淋釉区，向下翻转90度成垂直状态后淋釉，同时瓦下部的浸釉，西瓦完成上釉后再移送到输出输送带输送到下一工序。采用本实用新型后，可对西瓦进行精准排列，确保夹头顺利抓取西瓦，经一系列的升降、平移、翻转动作，完成西瓦的淋釉到送出，实现了机械化自动淋釉功能，减少了劳动强度，有效提高生产效率。
附图说明
图1为本实用新型抓取式西瓦淋釉装置的主视图；
图2为图1的A-A剖视图；
图3为图1的B-B剖视图。
具体实施方式
如图1-3所示，一种抓取式西瓦淋釉装置，包括有间距平行布设的西瓦输入输送带1、西瓦输出输送带2以及淋釉区3。设有沿着输送带布设的若干西瓦夹头4，西瓦夹头4均固定在第一转轴5上，第一转轴5安装在一升降架6上，第一转轴5和升降架6之间安装有用以驱动第一转轴5往复转动从而带动夹头4上下摆动的第一气缸7，具体的，可在第一转轴5的两端分别设有同步动作的第一气缸7，以保证整排夹头4翻转平稳。
升降架6上下滑动地安装在一横移架8上，横移架8上安装有用以驱动升降架6升降的第一电机9以及曲柄连杆机构10，具体的，升降架6的两端分别与横移架8的两端滑动配合安装，且两端分别设置一套曲柄连杆机构10，连杆与升降架6的端部通过支轴枢接，第一电机9设在横移架8的顶部中间，两侧曲柄连杆机构10的曲轴分别用一根传动轴连接到第一电机9的主轴箱。
横移架8于输入输送带1和输出输送带2和淋釉区3的上方之间往复移动地架设在一组轨道横梁11上，轨道横梁11分别固定在机架12相对的两侧，横移架8的架设端安装有同步轮13，同步轮13通过两侧的张紧轮14与同步带15配合安装，同步带15固定在轨道横梁11的两端，横移架8上安装有用以驱动同步轮13转动的第二电机16，具体的，同步带15绕装在同步轮13上，利用两侧的张紧轮14把同步带15压紧，同步带15的两端分别固定在轨道横梁11的两端。
对应输入输送带1上的夹头4夹持的西瓦17的前端均设一前挡板18，前挡板18均固定在一升降板19上，升降板19固定在至少两根立杆20上，对应每根立杆分别设一与机架12枢接的同步摆动的曲臂21，每根立杆20的下端分别与曲臂21的横向端铰接，曲臂21的下端之间铰接有连杆22，曲臂21和连杆22构成的同步机构与机架12之间安装有用以驱动同步机构往复摆动的第二气缸23，同步机构的往复摆动可令所有曲臂21的横向端上下摆动，从而驱动升降板19带动前挡板18上下升降。
设一可挡在输入输送带1上的西瓦17的非夹持侧的侧挡板24，侧挡板24上下摆动地固定在第二转轴25上，第二转轴25安装在机架12上，第二转轴25和机架12之间安装有用以驱动第二转轴25往复转动从而带动侧挡板24上下摆动的第三气缸26。
在输出输送带2和淋釉区3之间设有滴釉区27，对应滴釉区27和淋釉区3的下方固定有滴釉槽28，经淋釉后的西瓦17可移至滴釉区27静置片刻，让多余的釉滴落到滴釉槽28内，并且西瓦下部需要浸釉的，可在滴釉槽28浸釉。
工作时，整排西瓦17被输送到输入输送带1上，此时，所有前挡板18升起，挡在每一块西瓦17的前端，同时侧挡板24上摆动至西瓦17的侧部，把西瓦17排列整齐。接着，驱动夹头4夹持西瓦17，然后驱动升降架6升起，横移架8横移，把西瓦17移送至淋釉区3，夹头4向下翻转，把西瓦翻转成垂直状态，通过釉泵29抽取釉缸30内的釉，从喷釉嘴31喷出，把釉淋到西瓦17上。完成淋釉后的西瓦17移至滴釉区27滴釉，完成滴釉的西瓦17再翻转成平置状态移送至输出输送带2上，输送到下一工序。
Claims (2)
1.一种抓取式西瓦淋釉装置，其特征在于：包括有间距平行布设的西瓦输入输送带、西瓦输出输送带以及淋釉区，设有沿着输送带布设的若干西瓦夹头，西瓦夹头均固定在第一转轴上，第一转轴安装在一升降架上，第一转轴和升降架之间安装有用以驱动第一转轴往复转动从而带动夹头上下摆动的第一气缸，升降架上下滑动地安装在一横移架上，横移架上安装有用以驱动升降架升降的第一电机以及曲柄连杆机构，横移架于输入输送带和输出输送带和淋釉区上方之间往复移动地架设在一组轨道横梁上，轨道横梁分别固定在机架相对的两侧，横移架的架设端安装有同步轮，同步轮通过两侧的张紧轮与同步带配合安装，同步带固定在轨道横梁的两端，横移架上安装有用以驱动同步轮转动的第二电机，对应输入输送带上的夹头夹持的西瓦的前端均设一前挡板，前挡板均固定在一升降板上，升降板固定在至少两根立杆上，对应每根立杆分别设一与机架枢接的同步摆动的曲臂，每根立杆的下端分别与同步摆动的曲臂的横向端铰接，曲臂的下端之间铰接有连杆，曲臂和连杆构成的同步机构与机架之间安装有用以驱动同步机构往复摆动的第二气缸，设一可挡在输入输送带上的西瓦的非夹持侧的侧挡板，侧挡板上下摆动地固定在第二转轴上，第二转轴安装在机架上，第二转轴和机架之间安装有用以驱动第二转轴往复转动从而带动侧挡板上下摆动的第三气缸。
2.根据权利要求1所述的抓取式西瓦淋釉装置，其特征在于：在输出输送带和淋釉区之间设有滴釉区，对应滴釉区和淋釉区的下方固定有滴釉槽。
Priority Applications (1)
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| CN201320577093.5U CN203498268U (zh) | 2013-09-17 | 2013-09-17 | 抓取式西瓦淋釉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| CN201320577093.5U CN203498268U (zh) | 2013-09-17 | 2013-09-17 | 抓取式西瓦淋釉装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| CN203498268U true CN203498268U (zh) | 2014-03-26 |
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ID=50329265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201320577093.5U Withdrawn - After Issue CN203498268U (zh) | 2013-09-17 | 2013-09-17 | 抓取式西瓦淋釉装置 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103467138A (zh) * | 2013-09-17 | 2013-12-25 | 广东摩德娜科技股份有限公司 | 抓取式西瓦淋釉装置 |
-
2013
- 2013-09-17 CN CN201320577093.5U patent/CN203498268U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (2)
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| CN103467138A (zh) * | 2013-09-17 | 2013-12-25 | 广东摩德娜科技股份有限公司 | 抓取式西瓦淋釉装置 |
| CN103467138B (zh) * | 2013-09-17 | 2014-12-10 | 广东摩德娜科技股份有限公司 | 抓取式西瓦淋釉装置 |
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Legal Events
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20140326 Effective date of abandoning: 20141210 |
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| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20140326 Effective date of abandoning: 20141210 |
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| RGAV | Abandon patent right to avoid regrant |