CN203417725U - 一种研磨分散轮 - Google Patents
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Abstract
本实用新型适用于研磨技术领域。本实用新型公开一种研磨分散轮,该研磨分散轮包括设有中心通孔的本体,在本体两侧分别均匀设有分布在中心通孔周围的轴向孔,该轴向孔与均匀分布于本体径向的径向盲孔形成轴向通道;在相邻的径向盲孔之间设有一个连通本体径向外侧和内侧的径向通孔形成的径向通道。由于该本体设有由的轴向孔与径向盲孔形成轴向通道和间隔分布的径向通道。工作时,研磨球和物料在研磨轮轴向通道形成轴向环流和径向通道形成径向环流,研磨球在切线方向运动的同时还有一定的自转速度,使研磨球之间产生切向扭力,增加捕获研磨物料的机率和物料接触时间,提高提高研磨效率。同时可以使研磨设备内部的压力布均匀,减少研磨球聚集。
Description
技术领域
本实用新型涉研磨技术领域,特别涉及一种采用湿法研磨超细粒子的研磨分散轮。
背景技术
研磨设备中通常通过分散盘或分散轮带动研磨球高速运动,研磨球之间相互挤压使研磨物料破碎,实现对颗粒研磨。
现有的研磨分散轮在工作时,只能使研磨球在一个方向运动,使得研磨球容易在研磨设备内形成聚集,研磨球物料之间的接触机率不大,研磨的效率较低。同时研磨时能量密度分布也不均匀,使得研磨设备内部的压力布不均。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种研磨分散轮,该研磨分散轮可以使研磨球在多个方面运动,增加研磨球捕获研磨物料机率,达到提高研磨效率技术效果,同时可以使研磨设备内部的压力布均匀,减少研磨球聚集。
为了解决上述问题,本实用新型提供一种研磨分散轮,该研磨分散轮包括:设有中心通孔的本体,在本体两侧分别均匀设有分布在中心通孔周围的轴向孔,该轴向孔与均匀分布于本体径向的径向盲孔形成轴向通道;在相邻的径向盲孔之间设有一个连通本体径向外侧和内侧的径向通孔形成的径向通道。
进一步地说,所述本体包括隔离片和设于隔离片至少一侧的分散片,其中所述分散片与隔离片配合的一侧均匀设有呈V型导向条,该V型导向条的内侧底部与轴向通孔连通,相邻的两导向条之间设有导槽。
进一步地说,所述V型导向条呈弧形离散分布,位于两V型导向条之间的径向导槽也呈弧形离散分布。
进一步地说,所述隔离片和分散片对应位置均匀设有固定孔。
进一步地说,所述轴向孔呈螺旋状。
进一步地说,所述分散片沿其中轴向截面呈梯形结构,所述轴向孔位于其腰部。
本实用新型研磨分散轮,包括设有中心通孔的本体,在本体两侧分别均匀设有分布在中心通孔周围的轴向孔,该轴向孔与均匀分布于本体径向的径向盲孔形成轴向通道;在相邻的径向盲孔之间设有一个连通本体径向外侧和内侧的径向通孔形成的径向通道。由于该本体设有由的轴向孔与径向盲孔形成轴向通道和间隔分布的径向通道。工作时,研磨球和研磨物料在本体的轴向通道形成轴向环流和径向通道形成径向环流,可以研磨球在切线方向运动的同时还有一定的自转速度,使研磨球之间产生切向扭力,增加捕获研磨物料的机率和物料接触时间,提高提高研磨效率。同时可以使研磨设备内部的压力布均匀,减少研磨球聚集。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,而描述中的附图是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来说,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图。
图1是本实用新型研磨分散轮实施例结构示意图。
图2是本实用新型研磨分散轮另一实施例结构示意图。
图3是图2中沿A-A方向结构剖视示意图。
下面结合实施例,并参照附图,对本实用新型目的的实现、功能特点及优点作进一步说明。
具体实施方式
为了使要实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1和图2所示,本实用新型提供一种研磨分散轮实施例。
该研磨分散轮包括:设有中心通孔的本体,在本体两侧分别均匀设有分布在中心通孔11周围的轴向孔16,该轴向孔16与均匀分布于本体径向的径向盲孔15连通形成轴向通道;在相邻的径向盲孔15之间设有一个连通本体径向外侧和内侧的径向通孔14形成的径向通道。
具体地说,所述本体包括隔离片2和设于隔离片2两侧的分散片3,其中所述分散片3与隔离片2配合的一侧设有呈均匀分布的V型导向条13,该V型导向条13内侧未端与轴向孔16连通,所述V型导向条13与隔离片2配合时形成轴向通道。即所述V型导向条13隔离片2配合时形成径向盲孔15,该径向盲孔15的未端与轴向孔16连通形成轴向通道。在相邻的两个V型导向条13之间设有径向导槽25,该径向导槽25与隔离片2配合时形成连通外侧和内侧的径向通道。工作时,分散轮沿F方向转动,研磨球和研磨物料在轴向孔16与径向盲孔15形成轴向通道向外运动,形成研磨环流;在相邻的两个径向盲孔15之间设有连通中心通孔和本体径向外侧的径向通孔14形成的径向通道,使得进入中心通孔的未研磨的物料和研磨球从径向通道再次回到研磨环流中进行研磨。在径向通道移动形成的研磨环流时可以使研磨球在运动时产生自转,使研磨球在前进方向和切线方向都能与物料产生接触研磨,增加捕获研磨物料的机率和物料接触时间,提高提高研磨效率。同时可以使研磨设备内部的压力布均匀,减少研磨球聚集。
同时由于在研磨球与物料在本体外侧形成轴向环流,在物料输出路径上形成一个密实的研磨球体分布,物料只有通过密实分布的研磨球分布区域才能运动到出料口,物料在密实的研磨球区域研磨的效率更高。
在本实施例中,所述轴向孔16呈螺旋状,可以减少研磨球和研磨物料进入径向研磨环流时速度的损失,使研磨球和研磨物料离开本体时的速度最大,增加研磨球捕获研磨物料的机率,从而提高研磨的效率。
所述V型导向条13呈弧形离散分布,位于两V型导向条13之间的径向导槽25也呈弧形离散分布,使得研磨球和研磨物料进入通道时的速度损失最少,离开本体时的速度最大,增加研磨球捕获研磨物料的机率,从而提高研磨的效率。
所述本体轴向环形均匀设有固定孔12,方便将其与驱动机构或将多个本体相固定。所述分散片3沿其中轴向截面呈梯形结构,所述轴向孔16位于其腰部,如图3所示。
以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,而这些修改或替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (6)
1.研磨分散轮,包括设有中心通孔的本体,其特征在于:
在本体两侧分别均匀设有分布在中心通孔周围的轴向孔,该轴向孔与均匀分布于本体径向的径向盲孔连通形成轴向通道;在相邻的径向盲孔之间设有一个连通本体径向外侧和内侧的径向通孔形成的径向通道。
2.根据权利要求1所述的研磨分散轮,其特征在于:
所述本体包括隔离片和设于隔离片至少一侧的分散片,其中所述分散片与隔离片配合的一侧均匀设有呈V型导向条,该V型导向条的内侧底部与轴向通孔连通,相邻的两导向条之间设有导槽。
3.根据权利要求1或2所述的研磨分散轮,其特征在于:
所述V型导向条呈弧形离散分布,位于两V型导向条之间的径向导槽也呈弧形离散分布。
4.根据权利要求1或2所述的研磨分散轮,其特征在于:
所述隔离片和分散片对应位置均匀设有固定孔。
5.根据权利要求1或2所述的研磨分散轮,其特征在于:
所述轴向孔呈螺旋状。
6.根据权利要求1或2所述的研磨分散轮,其特征在于:
所述分散片沿其中轴向截面呈梯形结构,所述轴向孔位于其腰部。
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- 2013-08-13 CN CN201320513106.2U patent/CN203417725U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
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