CN203320120U - 真空磁控溅射用旋转阴极靶 - Google Patents

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CN203320120U CN2013203027740U CN201320302774U CN203320120U CN 203320120 U CN203320120 U CN 203320120U CN 2013203027740 U CN2013203027740 U CN 2013203027740U CN 201320302774 U CN201320302774 U CN 201320302774U CN 203320120 U CN203320120 U CN 203320120U
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肖世文
黄建威
肖盛荣
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UV TECH MATERIAL Co Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶,包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材,所述衬管外壁上设有外螺纹,所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。本实用新型衬管外壁设有外螺纹,靶材内壁设有内螺纹,两者通过螺纹连接后,使得靶材的安装非常方便,而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时,亦容易从衬管中分离以回收利用,未使用的靶材也就能旋入衬管中使用,使得衬管可以重复利用,大大节省了材料的损耗,节省了成本。本实用新型可应用于真空磁控溅射。

Description

真空磁控溅射用旋转阴极靶
技术领域
本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶。
背景技术
目前最常用的制备薄膜的方法是真空磁控溅射法。真空磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加几百K的直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。
典型的溅射用旋转阴极包括一圆柱状旋转管,该旋转管的外表面涂覆有一层靶材料层。在这种旋转阴极的制造过程中,靶材料一般通过喷射而涂覆在旋转管上,因此旋转管与靶材料可以看成是一体的,当靶材料耗竭后旋转管也就失去了作用,若是在旋转管上重新喷射靶材料其加工成本也是相当的昂贵。
实用新型内容
为了克服上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种拆装方便、有利于降低成本的真空磁控溅射用旋转阴极靶。
本实用新型所采用的技术方案是:
一种真空磁控溅射用旋转阴极靶,包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材,所述衬管外壁上设有外螺纹,所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。
作为上述技术方案的进一步改进,所述靶材的材质为纯度不小于99.9%的银。
作为上述技术方案的进一步改进,所述衬管的材质为不锈钢304或不锈钢316。
作为上述技术方案的进一步改进,所述衬管两端的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽,所述凹槽呈环状。
作为上述技术方案的进一步改进,所述靶材的外径为110mm~190mm,所述靶材的内径为90mm~170mm。
作为上述技术方案的进一步改进,所述衬管的外径为90mm~170mm,所述衬管的内径为70mm~150mm。
本实用新型的有益效果是:本实用新型衬管外壁设有外螺纹,靶材内壁设有内螺纹,两者通过螺纹连接后,使得靶材的安装非常方便,而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时,亦容易从衬管中分离以回收利用,未使用的靶材也就能旋出衬管再加工使用,也使得衬管可以重复利用,大大节省了材料的损耗,节省了成本。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是图1中A部分的放大示意图。
具体实施方式
如图1和图2所示,一种真空磁控溅射用旋转阴极靶,包括管状的衬管1和套设在衬管1外壁上并随衬管1旋转的靶材2。衬管1包括两个端部和一个中间部,在两个端部的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽3,凹槽3呈环状,外置的卡簧经连接动力头夹紧凹槽3带动衬管1旋转。在衬管1中间部外壁上设有外螺纹,靶材2内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹,较好的是用梯形螺纹连接,当然,三角螺纹连接也是可以采纳的方式。
衬管1的材质为不锈钢304或不锈钢316,具有较高的结构强度,同时也能满足磁场的要求。
较优的,靶材2的外径为110mm~190mm,最优的为160mm;靶材2的内径为90mm~170mm,最优的为133mm;衬管1的外径应与靶材2的内径相同,而衬管1的内径范围为70mm~150mm,最优的为125mm。
在本实施例中,靶材2的材质为纯度不小于99.9%的银。
本实施例中的真空磁控溅射用阴极靶的加工方法如下:将纯度≥99.99%的银料熔炼、浇铸成锭,将铸锭挤压成管状坯,进行分割,或者锻、轧成管状坯,再内螺纹加工与衬管1(外螺纹)进行连接;或者将铸锭挤压成管状直接内螺纹加工与衬管1(外螺纹)进行连接。
由于平面银靶利用率只有30%左右,而本实施例中的旋转阴极银靶则有70%以上的靶材利用率,大大节约了原料的成本。而且本实施例中靶材直接由银料熔炼、浇铸、挤压成型,其同质均匀更好,由于靶材与衬管采用的螺纹连接的方式,靶材安装更方便,回收拆分更简便,衬管还可以多次使用。
以上所述只是本实用新型优选的实施方式,其并不构成对本实用新型保护范围的限制。

Claims (6)

1.一种真空磁控溅射用旋转阴极靶,其特征在于:包括管状的衬管(1)和套设在衬管(1)外壁上并随衬管(1)旋转的靶材(2),所述衬管(1)外壁上设有外螺纹,所述靶材(2)内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶,其特征在于:所述靶材(2)的材质为纯度不小于99.9%的银。
3.根据权利要求1或2所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶,其特征在于:所述衬管(1)的材质为不锈钢304或不锈钢316。
4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶,其特征在于:所述衬管(1)两端的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽(3),所述凹槽(3)呈环状。
5.根据权利要求1所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶,其特征在于:所述靶材(2)的外径为110mm~190mm,所述靶材(2)的内径为90mm~170mm。
6.根据权利要求1或5所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶,其特征在于:所述衬管(1)的外径为90mm~170mm,所述衬管(1)的内径为70mm~150mm。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105463392A (zh) * 2015-12-03 2016-04-06 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 一种组合式旋转银靶材

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