CN203320120U - 真空磁控溅射用旋转阴极靶 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材，所述衬管外壁上设有外螺纹，所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。本实用新型衬管外壁设有外螺纹，靶材内壁设有内螺纹，两者通过螺纹连接后，使得靶材的安装非常方便，而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时，亦容易从衬管中分离以回收利用，未使用的靶材也就能旋入衬管中使用，使得衬管可以重复利用，大大节省了材料的损耗，节省了成本。本实用新型可应用于真空磁控溅射。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶。
背景技术
目前最常用的制备薄膜的方法是真空磁控溅射法。真空磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K的直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。
典型的溅射用旋转阴极包括一圆柱状旋转管，该旋转管的外表面涂覆有一层靶材料层。在这种旋转阴极的制造过程中，靶材料一般通过喷射而涂覆在旋转管上，因此旋转管与靶材料可以看成是一体的，当靶材料耗竭后旋转管也就失去了作用，若是在旋转管上重新喷射靶材料其加工成本也是相当的昂贵。
实用新型内容
为了克服上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种拆装方便、有利于降低成本的真空磁控溅射用旋转阴极靶。
本实用新型所采用的技术方案是：
一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材，所述衬管外壁上设有外螺纹，所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。
作为上述技术方案的进一步改进，所述靶材的材质为纯度不小于99.9%的银。
作为上述技术方案的进一步改进，所述衬管的材质为不锈钢304或不锈钢316。
作为上述技术方案的进一步改进，所述衬管两端的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽，所述凹槽呈环状。
作为上述技术方案的进一步改进，所述靶材的外径为110mm～190mm，所述靶材的内径为90mm～170mm。
作为上述技术方案的进一步改进，所述衬管的外径为90mm～170mm，所述衬管的内径为70mm～150mm。
本实用新型的有益效果是：本实用新型衬管外壁设有外螺纹，靶材内壁设有内螺纹，两者通过螺纹连接后，使得靶材的安装非常方便，而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时，亦容易从衬管中分离以回收利用，未使用的靶材也就能旋出衬管再加工使用，也使得衬管可以重复利用，大大节省了材料的损耗，节省了成本。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是图1中A部分的放大示意图。
具体实施方式
如图1和图2所示，一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管1和套设在衬管1外壁上并随衬管1旋转的靶材2。衬管1包括两个端部和一个中间部，在两个端部的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽3，凹槽3呈环状，外置的卡簧经连接动力头夹紧凹槽3带动衬管1旋转。在衬管1中间部外壁上设有外螺纹，靶材2内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹，较好的是用梯形螺纹连接，当然，三角螺纹连接也是可以采纳的方式。
衬管1的材质为不锈钢304或不锈钢316，具有较高的结构强度，同时也能满足磁场的要求。
较优的，靶材2的外径为110mm～190mm，最优的为160mm；靶材2的内径为90mm～170mm，最优的为133mm；衬管1的外径应与靶材2的内径相同，而衬管1的内径范围为70mm～150mm，最优的为125mm。
在本实施例中，靶材2的材质为纯度不小于99.9%的银。
本实施例中的真空磁控溅射用阴极靶的加工方法如下：将纯度≥99.99%的银料熔炼、浇铸成锭，将铸锭挤压成管状坯，进行分割，或者锻、轧成管状坯，再内螺纹加工与衬管1（外螺纹）进行连接；或者将铸锭挤压成管状直接内螺纹加工与衬管1（外螺纹）进行连接。
由于平面银靶利用率只有30%左右，而本实施例中的旋转阴极银靶则有70%以上的靶材利用率，大大节约了原料的成本。而且本实施例中靶材直接由银料熔炼、浇铸、挤压成型，其同质均匀更好，由于靶材与衬管采用的螺纹连接的方式，靶材安装更方便，回收拆分更简便，衬管还可以多次使用。
以上所述只是本实用新型优选的实施方式，其并不构成对本实用新型保护范围的限制。
Claims (6)
1.一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：包括管状的衬管(1)和套设在衬管(1)外壁上并随衬管(1)旋转的靶材(2)，所述衬管(1)外壁上设有外螺纹，所述靶材(2)内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：所述靶材(2)的材质为纯度不小于99.9%的银。
3.根据权利要求1或2所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：所述衬管(1)的材质为不锈钢304或不锈钢316。
4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：所述衬管(1)两端的外壁上分别设有用于容纳卡簧的凹槽(3)，所述凹槽(3)呈环状。
5.根据权利要求1所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：所述靶材(2)的外径为110mm～190mm，所述靶材(2)的内径为90mm～170mm。
6.根据权利要求1或5所述的真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：所述衬管(1)的外径为90mm～170mm，所述衬管(1)的内径为70mm～150mm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2013203027740U CN203320120U (zh) | 2013-05-29 | 2013-05-29 | 真空磁控溅射用旋转阴极靶 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2013203027740U CN203320120U (zh) | 2013-05-29 | 2013-05-29 | 真空磁控溅射用旋转阴极靶 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203320120U true CN203320120U (zh) | 2013-12-04 |
Family
ID=49659489
Family Applications (1)
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| CN2013203027740U Expired - Lifetime CN203320120U (zh) | 2013-05-29 | 2013-05-29 | 真空磁控溅射用旋转阴极靶 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203320120U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105463392A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-04-06 | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 | 一种组合式旋转银靶材 |
-
2013
- 2013-05-29 CN CN2013203027740U patent/CN203320120U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN105463392A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-04-06 | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 | 一种组合式旋转银靶材 |
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