CN203307431U - 用于真空镀膜设备的真空阀 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种用于真空镀膜设备的真空阀，属真空镀膜设备的控制阀领域。该真空阀包括：阀体、气缸和阀盖；阀体内为中空结构，阀体上设有真空容器连接口、低真空泵连接口和高真空泵连接口，真空容器连接口经阀体内与低真空泵连接口、高真空泵连接口连通；阀体上设置气缸，气缸与阀体连接处密封连接；气缸的气缸轴伸入到阀体内，气缸轴设有阀盖，阀盖朝向高真空泵连接口，能在气缸轴驱动下关闭或打开高真空泵连接口。该真空阀可同时连接低真空泵和高真空泵，可控制所连接的高真空泵通路的开通与关闭，以高真空泵来增大抽真空的抽速，从而对阀体所连接的真空镀膜设备的真空容器更快的抽真空，使其能更快的达到高真空状态。

Description

用于真空镀膜设备的真空阀

技术领域

本实用新型涉及真空设备使用的控制阀领域，特别是涉及一种用于真空镀膜设备中的真空阀。

背景技术

在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料，也可以利用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料，这就是真空镀膜技术。真空镀膜设备由真空室、机架、真空系统和控制系统组成。把真空获得设备（各种泵）、管道、维持真空状态的操作元件（真空阀门）等联接起来，形成一个整体叫真空系统。不同的应用设备，对真空系统提出了不同的要求，有要求抽速较快的，真空度要求并不甚高，而有的需要很高的真空度来完成较高的镀膜工艺。阀门是真空系统中重要的一种元件，种类很多。高真空阀即是用在高真空泵和真空容器之间，用以控制二者接通与切断的控制阀。而目前的阀不能解决高真空镀膜设备的高真空度与抽速低之间矛盾的问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于真空镀膜设备的真空阀，能够连接由两个高真空泵各自组成的真空系统以达到增大抽速，可尽快达到完成高真空镀膜的前期真空度准备工作，从而解决高真空镀膜设备的高真空度与抽速较慢的矛盾的问题。

解决上述技术问题的技术方案如下：

本实用新型提供一种用于真空镀膜设备的真空阀，包括：

阀体、气缸和阀盖；

所述阀体内为中空结构，阀体上设有真空容器连接口、低真空泵连接口和高真空泵连接口，所述真空容器连接口经所述阀体内与所述低真空泵连接口、高真空泵连接口连通；

所述阀体上设置所述气缸，气缸与所述阀体连接处密封连接；

所述气缸的气缸轴伸入到所述阀体内，气缸轴设有阀盖，所述阀盖朝向所述高真空泵连接口，能在所述气缸轴驱动下关闭或打开所述高真空泵连接口。

本实用新型的有益效果为：可同时连接低真空泵和高真空泵，可控制所连接的高真空泵的通路的开通与关闭，以高真空泵来增大抽真空的抽速，从而对阀体所连接的真空镀膜设备的真空容器更快的抽真空，使其能更快的达到高真空状态。具有结构简单，操作方便的优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。

图1为本实用新型实施例提供的真空阀结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的真空阀侧视示意图；

图中各标号为：1－阀体；11－真空容器连接口；12－低真空泵连接口；13－高真空泵连接口；2－密封圈；3－气缸；4－连接法兰；5－球头；6－卡环；7－阀盖；8－环型密封圈。

具体实施方式

下面对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。

下面对本实用新型实施例作进一步地详细描述。

本实用新型实施例提供一种用于真空镀膜设备的真空阀，如图1、2所示，该连接阀包括：阀体1、气缸3和阀盖7；

其中，阀体1内为中空结构，阀体1上设有真空容器连接口11、低真空泵连接口12和高真空泵连接口13，真空容器连接口11经阀体1内与低真空泵连接口12、高真空泵连接口13连通；阀体1上设置气缸3，气缸3与阀体1连接处密封连接；气缸3的气缸轴伸入到阀体1内，气缸轴上设有阀盖7，阀盖7朝向所述高真空泵连接口13，能在气缸轴驱动下关闭或打开高真空泵连接口13。具体的：真空容器连接口11设置在阀体1的一侧（即图1中所示的阀体1的左侧），低真空泵连接口12设置在真空容器连接口11相对侧的阀体1上（即图1中所示的阀体1的右侧）；高真空泵连接口13设置在真空容器连接口11与低真空泵连接口12之间的阀体1一侧上；气缸3设置在高真空泵连接口13相对侧的阀体1上。

上述真空阀中，真空容器连接口11、低真空泵连接口12和高真空泵连接口13均为设置在阀体1外的连接法兰。其中，作为低真空泵连接口12和高真空泵连接口13的连接法兰采用便于连接真空泵管路的卡钳法兰。

上述真空阀中，高真空泵连接口13为两个，这样方便连接两个高真空泵，可以提高抽真空的抽速。

上述真空阀中，气缸3可通过连接法兰4和螺钉与阀体1连接，气缸3与阀体1连接处可通过O型圈密封和碗型密封圈密封。

上述真空阀中，气缸轴的前端设有球头5和卡环6，阀盖7通过螺钉连接在球头5上，能在球头5向多个方向活动，这样在气缸轴压紧阀盖7时，能使阀盖7更好的与高真空泵连接口13所在平面接触。在阀盖7外沿可设置环形密封圈8，从而可实现更好的密封关闭高真空泵连接口13。

下面结合附图和具体实施例，对上述真空阀作进一步说明。

本实用新型的真空阀如图1、2所示，主要由阀体1、密封圈2、气缸3、连接法兰4、球头5、卡环6、阀盖7、环形密封圈8组成，可使用螺栓与真空容器连接使用，连接处以密封圈保证密封，阀体右侧为作为低真空泵连接口的φ100卡钳法兰，可与低真空泵的φ100管路连接，阀体下部为两个高真空泵连接口，可使用卡钳垫块及螺栓与高真空泵连接。

气缸3通过连接法兰4经螺钉与阀体1连接，为了保证密封性，连接法兰4与阀体1之间安装O型密封圈，气缸3与连接法兰4之间安装碗型圈，阀体1内气缸3通过球头5、卡环6使用螺钉与阀盖7连接，阀盖7外沿安装有环形密封圈8。阀体1左侧设有连接真空容器的真空容器连接口，使用时阀体1左侧的真空容器连接口连接真空容器，真空容器连接口上可设置密封圈2，阀体1右侧的低真空泵连接口与低真空泵的真空管路相连，阀体1的高真空泵连接口与高真空泵相连接。使用中，在气缸轴带动阀盖向下运动将下部的高真空泵连接口关闭时，可通过右侧的低真空泵连接口连接的低真空泵对真空容器抽低真空，当气缸轴带动阀盖向上运动将下部的高真空泵连接口打开时，可通过下部连接的高真空泵对真空容器抽高真空，而由两台高真空泵同时工作，可增大抽速。

实际中，阀体下部的高真空泵连接口与阀体右侧卡钳法兰可根据自己的实际需要设置，阀盖与环形密封圈的尺寸也可以根据需要设置。

本实用新型实施例的真空阀，结构简单、操作方便，连接两个高真空泵所组成的真空系统以达到增大抽速，使真空镀膜设备尽快达到高真空镀膜的前期真空度准备工作。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种用于真空镀膜设备的真空阀，其特征在于，包括：

阀体、气缸和阀盖；

所述阀体内为中空结构，阀体上设有真空容器连接口、低真空泵连接口和高真空泵连接口，所述真空容器连接口经所述阀体内与所述低真空泵连接口、高真空泵连接口连通；

所述阀体上设置所述气缸，气缸与所述阀体连接处密封连接；

所述气缸的气缸轴伸入到所述阀体内，气缸轴设有阀盖，所述阀盖朝向所述高真空泵连接口，能在所述气缸轴驱动下关闭或打开所述高真空泵连接口。

2.如权利要求1所述的真空阀，其特征在于，所述真空容器连接口设置在所述阀体的一侧，所述低真空泵连接口设置在所述真空容器连接口相对侧的所述阀体上；

所述高真空泵连接口设置在所述真空容器连接口与低真空泵连接口之间的阀体一侧上；所述气缸设置在所述高真空泵连接口相对侧的阀体上。

3.如权利要求1或2所述的真空阀，其特征在于，所述真空容器连接口、低真空泵连接口和高真空泵连接口均为设置在阀体外的连接法兰。

4.如权利要求1或2所述的真空阀，其特征在于，作为所述低真空泵连接口和高真空泵连接口的连接法兰采用便于连接真空泵管路的卡钳法兰。

5.如权利要求1或2所述的真空阀，其特征在于，所述高真空泵连接口为两个。

6.如权利要求1或2所述的真空阀，其特征在于，所述气缸通过连接法兰和螺钉与所述阀体连接，气缸与所述阀体连接处通过密封圈密封。

7.如权利要求1所述的真空阀，其特征在于，所述气缸轴的前端设有球头和卡环，所述阀盖通过螺钉连接在所述球头上。

8.如权利要求1或7所述的真空阀，其特征在于，所述阀盖外沿设有环形密封圈。

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