CN203196939U - 一种用于晶片的超声波清洗装置 - Google Patents

一种用于晶片的超声波清洗装置 Download PDF

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崔景涛
梁浩
方建雄
李呼相
吴鲁
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Abstract

本实用新型公开了一种用于晶片的超声波清洗装置，包括超声波清洗槽和固定在清洗槽上的提拉转片装置，所述提拉转片装置包括与清洗槽两侧固定连接的纵向导向柱、提升支架和片盒，所述提升支架两侧穿设在纵向导向柱上，所述片盒固定在提升支架下端，片盒下方还设有转轴。该清洗装置能同时上下提拉和转动蓝宝石晶片，使晶片相对于超声波波源和片盒做相对运动，有效解决因驻波和晶片表面清洗死角产生的晶片表面色差问题。

Description

一种用于晶片的超声波清洗装置
技术领域
本实用新型涉及一种超声波清洗装置，尤其涉及一种用于晶片的超声波清洗装置。 
背景技术
超声波清洗机原理主要是换能器将功率超声频源的声能转换成机械振动并通过清洗槽壁向槽子中的清洗液辐射超声波，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。当声压或者声强受到压力到达一定程度时候，气泡就会迅速膨胀，然后又突然闭合。在这段过程中，气泡闭合的瞬间产生冲击波，使气泡周围产生1012-1013Pa的压力及局调温，这种超声波空化所产生的巨大压力能破坏不溶性污物而使他们分化于溶液中，蒸汽型空化对污垢的直接反复冲击。一方面破坏污物与清洗件表面的吸附，另一方面能引起污物层的疲劳破坏而被驳离从而达到清洗物件表面的目的。 
在现有蓝宝石晶片超声波清洗清洗设备中，多数为独立单槽清洗，在清洗过程中，晶片与超声波声源无相对运动，而且因为超声波本身存在驻波（两列振幅相同的相干波在同一直线上沿相反方向传播时互相叠加而成的波，称为驻波），在清洗晶片时，驻波对晶片表面不同区域清洗能力不一，导致晶片清洗后表面产生色差。另一方面，在清洗时，由于晶片与片盒之间接触面接触紧密，接触面属于超声死角，超声波对接触面的作用相对较弱，也会导致超声清洗时，晶片表面产生色差。在蓝宝石晶片的后道加工中，晶片表面色差最终会导致晶片生产出的光学元件转换效率偏低，降低产品质量。 
实用新型内容
发明目的：本实用新型的目的是为了解决现有技术的不足，提供一种用于晶片的超声波清洗装置，解决蓝宝石晶片清洗后易存在表面色拆而影响后续加工生产的问题。 
技术方案：为了实现以上目的，本实用新型所述的一种用于晶片的超声波清洗装置，包括超声波清洗槽和固定在清洗槽上的提拉转片装置，其特征在于：所述提拉转片装置包括与清洗槽两侧固定连接的纵向导向柱、提升支架和片盒，所述提升支架两侧穿设在纵向导向柱上，所述片盒固定在提升支架下端，片盒下方还设有转轴。 
在本实用新型的一个实施例中，所述纵向导向柱顶端设有升降驱动电机，升降驱动电机连接滚珠丝杆驱动提升支架上下运动。 
在本实用新型的另一个实施例中，所述提升支架上端设有旋转驱动电机，旋转驱动电机通过传动带驱动转轴旋转。 
有益效果：本实用新型提供的清洗装置能同时上下提拉和转动蓝宝石晶片，使晶片相对于超声波波源和片盒做相对运动，有效解决因驻波和晶片表面清洗死角产生的晶片表面色差问题。 
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图； 
图2为本实用新型的结构侧视图； 
图3为本实用新型提升支架上升后状态示意图； 
图4为蓝宝石晶片相对超声波波源和片盒的相对运动示意图。 
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本实用新型。 
如图1及图2所示，用于晶片的超声波清洗装置，包括超声波清洗槽1，超声波波源10通常设置在清洗槽1的底部，在超声波清洗槽1上设有提拉转片装置，提拉转片装置用于提升、下降待清洗的蓝宝石晶片11，同时使蓝宝石晶片11做旋转运动。该提拉转片装置包括与超声波清洗槽1两侧固定连接的纵向导向柱2、提升支架3和片盒4。提升支架3两侧穿设在纵向导向柱2上，纵向导向柱2的顶端设有升降驱动电机6，升降驱动电机6连接滚珠丝杆7，如图3所示，提升支架3与滚珠丝杆7配合在升降驱动电机6驱动下，沿纵向导向柱2进行上下的提拉与下降运动。提升支架3的上端设置旋转驱动电机8，用于安放待清洗蓝宝石晶片11的片盒4固定在提升支架3下端，片盒4下方还设有转轴5，旋转驱动电机8通过传动带9驱动转轴5旋转。如图4所示，待清洗的蓝宝石晶片防置在片盒4内后，蓝宝石晶片11下部边缘与转轴5接触，当旋转驱动电机8驱动转轴5转动时，蓝宝石晶片11也跟随转轴5一起转动，因此采用该清洗装置后，待清洗的蓝宝石晶片11相对于超声波波源10和片盒4都能做相对运动，有效解决因驻波和晶片表面清洗死角产生的晶片表面色差问题。 
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的是让熟悉该技术领域的技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此来限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作出的等同变换或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。 

Claims (3)

1.一种用于晶片的超声波清洗装置，包括超声波清洗槽(1)和固定在超声波清洗槽(1)上的提拉转片装置，其特征在于：所述提拉转片装置包括与超声波清洗槽(1)两侧固定连接的纵向导向柱(2)、提升支架(3)和片盒(4)，所述提升支架(3)两侧穿设在纵向导向柱(2)上，所述片盒(4)固定在提升支架(3)下端，片盒(4)下方还设有转轴(5)。
2.根据权利要求1所述的用于晶片的超声波清洗装置，其特征在于：所述纵向导向柱(2)顶端设有升降驱动电机(6)，升降驱动电机(6)连接滚珠丝杆(7)驱动提升支架(3)上下运动。
3.根据权利要求1所述的用于晶片的超声波清洗装置，其特征在于：所述提升支架(3)上端设有旋转驱动电机(8)，旋转驱动电机(8)通过传动带(9)驱动转轴(5)旋转。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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