CN203155622U - 清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了清洗装置,包括清洗部件和能量发生部分,其特征在于:所述能量发生部分包括电机和超声波发生装置,所述清洗部件包括上盖、清洗本体、清洗槽和待清洗工件置放处,所述清洗本体设于清洗槽外围,所述待清洗工件置放处设于清洗槽内,所述清洗本体内设有固定块,所述清洗槽活动设于固定块上,所述清洗槽底部设有超声波换能器,所述超声波换能器连接超声波发生装置,所述清洗槽上设有加热片,所述待清洗工件置放处为网格状,所述待清洗工件置放处上放置有待清洗工件,所述清洗本体的间隙小于待清洗工件的体积。本实用新型的优点是:设有加热设备,加上超声波清洗,使得效果达到最佳状态,整体结构简单,操作方便,便于推广。
Description
技术领域
本实用新型涉及清洗设备领域,尤其涉及一种清洗装置。
背景技术
随着制造技术的日益发展,各式各样的工件在机械加工过程中被使用,那么工件的清洗设备的使用也显得尤为的重要。现有技术中的工件清洗加工设备大多采用超声波清洗器,但是只有清洗池底部设置有超声波换能器,清洗效率不高,不能实现最佳的清洗效果。
因此,急需一种改进的技术来解决现有技术中所存在的这一问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种清洗装置。
本实用新型采用的技术方案是:
清洗装置,包括清洗部件和能量发生部分,所述能量发生部分包括电机和超声波发生装置,所述清洗部件包括上盖、清洗本体、清洗槽和待清洗工件置放处,所述清洗本体设于清洗槽外围,所述待清洗工件置放处设于清洗槽内,所述清洗本体内设有固定块,所述清洗槽活动设于固定块上,所述清洗槽底部设有超声波换能器,所述超声波换能器连接超声波发生装置,所述清洗槽上设有加热片,所述待清洗工件置放处为网格状,所述待清洗工件置放处上放置有待清洗工件,所述清洗本体的间隙小于待清洗工件的体积。
所述清洗槽顶部周边设有溢流槽。
所述溢流槽连接设于清洗本体上的溢流出口,所述溢流出口上设有阀门。
所述清洗槽上设有过热保护装置。
所述加热片为半导体加热片。
本实用新型的优点是:设有加热设备,加上超声波清洗,使得效果达到最佳状态,整体结构简单,操作方便,便于推广。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
图1为本实用新型的结构示意图。
其中:1、电机,2、超声波发生装置,3、上盖,4、清洗本体,5、清洗槽,6、待清洗工件置放处,7、固定块,8、超声波换能器,9、加热片,10、待清洗工件,11、溢流槽,12、溢流出口,13、阀门,14、过热保护装置。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型的清洗装置,包括清洗部件和能量发生部分,所述能量发生部分包括电机1和超声波发生装置2,所述清洗部件包括上盖3、清洗本体4、清洗槽5和待清洗工件置放处6,所述清洗本体4设于清洗槽5外围,所述待清洗工件置放处6设于清洗槽5内,所述清洗本体4内设有固定块7,所述清洗槽5活动设于固定块7上,所述清洗槽5底部设有超声波换能器8,所述超声波换能器8连接超声波发生装置2,所述清洗槽5上设有加热片9,所述待清洗工件置放处6为网格状,所述待清洗工件置放处6上放置有待清洗工件10,所述清洗本体4的间隙小于待清洗工件10的体积,所述清洗槽5顶部周边设有溢流槽11,所述溢流槽11连接设于清洗本体4上的溢流出口12,所述溢流出口12上设有阀门13,所述清洗槽5上设有过热保护装置14,所述加热片9为半导体加热片,设有加热设备,加上超声波清洗,使得效果达到最佳状态,整体结构简单,操作方便,便于推广。
Claims (5)
1.清洗装置,包括清洗部件和能量发生部分,其特征在于:所述能量发生部分包括电机和超声波发生装置,所述清洗部件包括上盖、清洗本体、清洗槽和待清洗工件置放处,所述清洗本体设于清洗槽外围,所述待清洗工件置放处设于清洗槽内,所述清洗本体内设有固定块,所述清洗槽活动设于固定块上,所述清洗槽底部设有超声波换能器,所述超声波换能器连接超声波发生装置,所述清洗槽上设有加热片,所述待清洗工件置放处为网格状,所述待清洗工件置放处上放置有待清洗工件,所述清洗本体的间隙小于待清洗工件的体积。
2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于:所述清洗槽顶部周边设有溢流槽。
3.根据权利要求2所述的清洗装置,其特征在于:所述溢流槽连接设于清洗本体上的溢流出口,所述溢流出口上设有阀门。
4.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于:所述清洗槽上设有过热保护装置。
5.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于:所述加热片为半导体加热片。
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Legal Events
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130828 Termination date: 20140328 |