CN203011172U - 真空炉专用自清洁式观察装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属真空炉设备领域，尤其涉及一种真空炉专用自清洁式观察装置，它包括腔体（1）、观察玻璃（2）、固定清洁组件（5）及推拉密封组件（6）；所述观察玻璃（2）固定嵌于腔体（1）的观察孔内；所述固定清洁组件（5）位于腔体（1）内；所述固定清洁组件（5）的清洁工作端与观察玻璃（2）滑动相接；所述推拉密封组件（6）的推拉工作端与固定清洁组件（5）的一端固定相接；所述固定清洁组件（5）经滑动组件（4）与腔体（1）的内壁滑动相接，以实现固定清洁组件（5）的清洁工作端沿观察玻璃（2）的纵向往复移动。本实用新型使用方便，安全可靠，在不影响炉内真空环境的前提下，可对观察窗玻璃进行频繁清洁作业。

Description

真空炉专用自清洁式观察装置

技术领域

本实用新型属真空炉设备领域，尤其涉及一种真空炉专用自清洁式观察装置。

背景技术

真空感应熔炼炉和凝壳炉等冶金设备一般由炉盖、炉体、炉门构成，炉中有感应线圈，炉外有真空系统等，盛有原料的坩埚置于感应线圈中，通过感应发热，在工作中，炉门紧闭，炉内根据工艺抽真空，炉盖、炉体、炉门由金属制作，有循环水冷却，在炉盖、炉体或炉门的适当位置安装有观察窗，操作者通过观察窗可随时观察炉内情况。

在实际操作中，有些原材料在的特定工艺的阶段会产生大量的挥发物，部分挥发物会附在观察窗玻璃内侧壁上，对于真空设备在冶金过程中不允许破真空或频繁破真空，所以不可以开炉门清理观察玻璃上的附着物，观察窗此时已失效。以往采用的处理方式通常为在观察玻璃下方加挡屏。如果挥发物产生时间非常短且此时间段不需要观察炉内状况，则可以在观察玻璃正下方设置可旋转的挡屏，在挥发物挥发的时间段用挡屏挡住观察玻璃，挥发结束需观察时将挡屏旋开，这样可以避免观察玻璃的污染。如果挥发阶段比较长，在挥发物存在的阶段需要观察，前述的挡屏就已不适用，简单工艺的设备中可以采用多位透明旋转挡屏来处理，当挡屏污染后，迅速旋开已污染的挡屏，换置干净的挡屏，透过观察玻璃和挡屏玻璃可以实现观察，这种观察窗可做到四旋位或五旋位，旋位越多窗体越大。随着特殊材料的增多，新型工艺的增多，单纯的依靠扩大观察窗窗体来增加更多旋位这种方法是不可取的。由于感应设备中存在复杂的交变磁场，我们从安全性的角度不建议使用利用电磁场清洁观察玻璃的方法。气体吹扫法是现今比较常用的方法，可以从一定程度上实现清洁，但观察玻璃上附着比较牢固的污染物时吹扫的方法就失效了。

实用新型内容

本实用新型旨在克服现有技术的不足之处而提供一种使用方便，安全可靠，在不影响炉内真空环境的前提下，可对观察窗玻璃进行频繁清洁作业的真空炉专用自清洁式观察装置。

为解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的。

真空炉专用自清洁式观察装置，它包括腔体、观察玻璃、固定清洁组件及推拉密封组件；所述观察玻璃固定嵌于腔体的观察孔内；所述固定清洁组件位于腔体内；所述固定清洁组件的清洁工作端与观察玻璃滑动相接；所述推拉密封组件的推拉工作端与固定清洁组件的一端固定相接；所述固定清洁组件经滑动组件与腔体的内壁滑动相接，以实现固定清洁组件的清洁工作端沿观察玻璃的纵向往复移动。

作为一种优选方案，本实用新型还设有观察玻璃密封机构；所述观察玻璃经观察玻璃密封机构与腔体封接。

作为另一种优选方案，本实用新型所述观察玻璃密封机构包括圆形压盖、位于观察玻璃与腔体结合部的密封垫圈及紧定压盖螺钉；所述观察玻璃经圆形压盖及紧定压盖螺钉与腔体固定相接。

进一步地，本实用新型所述固定清洁组件包括固定架、胶质清洁片及金属清洁片；所述金属清洁片及胶质清洁片与固定架固定相接；所述金属清洁片靠近观察玻璃一侧的高度低于胶质清洁片。

更进一步地，本实用新型所述推拉密封组件包括推拉杆、手柄及动密封箱；所述推拉杆的一端置于腔体内，且与固定架固定相接；所述推拉杆的另一端经动密封箱与手柄固定相接。

进一步地，本实用新型所述滑动组件采用平行滚珠滑轨结构，其包括外部轨道及内部轨道；所述外部轨道固定于腔体的内壁；所述内部轨道与固定架固定相接；所述内部轨道置于外部轨道内侧；所述外部轨道及内部轨道的上下面均带有凹槽；外部轨道与内部轨道之间，于所述凹槽内设有滚珠及滚珠限位板；在所述外部轨道及内部轨道的两端均设有限位挡板。

另外，本实用新型所述腔体两侧可设有铰链及旋紧手柄，以实现腔体的开合。

本实用新型通过采用观察玻璃密封系统、平行滚珠滑轨组件、固定清洁组件及推拉密封组件等组合结构，实现了在不影响炉内真空环境的前提下，对观察窗玻璃进行频繁清洁作业的目的。外力作用于推拉密封组件，带动固定清洁组件往复运动，在平行滚珠滑轨组件的限位下，清洁组件均匀清除观察玻璃内壁附着物，腔体内部与外部密封良好，清洁过程不会影响内部真空环境。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明。

图1为本实用新型剖面结构示意图。

图2为本实用新型剖面结构示意图。

图3为本实用新型观察装置的俯视图。

图中：1、腔体；2、观察玻璃；3、观察玻璃密封机构；4、滑动组件；5、固定清洁组件；6、推拉密封组件；7、铰链；8、旋紧手柄；9、推拉杆；10、手柄；11、圆形压盖；12、密封垫圈；13、紧定压盖螺钉；14、外部轨道；15、内部轨道；16、滚珠；17、滚珠限位板；18、固定架；19、胶质清洁片；20、金属清洁片；21、动密封箱。

具体实施方式

如图1及图2所示，真空炉专用自清洁式观察装置，它包括腔体1、观察玻璃2、固定清洁组件5及推拉密封组件6；所述观察玻璃2固定嵌于腔体1的观察孔内；所述固定清洁组件5位于腔体1内；所述固定清洁组件5的清洁工作端与观察玻璃2滑动相接；所述推拉密封组件6的推拉工作端与固定清洁组件5的一端固定相接；所述固定清洁组件5经滑动组件4与腔体1的内壁滑动相接，以实现固定清洁组件5的清洁工作端沿观察玻璃2的纵向往复移动。

本实用新型还可设有观察玻璃密封机构3；所述观察玻璃2经观察玻璃密封机构3与腔体1封接。

在具体设计时，本实用新型所述观察玻璃密封机构3可包括圆形压盖11、位于观察玻璃2与腔体1结合部的密封垫圈12及紧定压盖螺钉13；所述观察玻璃2经圆形压盖11及紧定压盖螺钉13与腔体1固定相接。

本实用新型所述固定清洁组件5可包括固定架18、胶质清洁片19及金属清洁片20；所述金属清洁片20及胶质清洁片19与固定架18固定相接；所述金属清洁片20靠近观察玻璃2一侧的高度低于胶质清洁片19。

本实用新型所述推拉密封组件6可包括推拉杆9、手柄10及动密封箱21；所述推拉杆9的一端置于腔体1内，且与固定架18固定相接；所述推拉杆9的另一端经动密封箱21与手柄10固定相接。

本实用新型所述滑动组件4采用平行滚珠滑轨结构，其包括外部轨道14及内部轨道15；所述外部轨道14固定设于腔体1的内壁；所述内部轨道15与固定架18固定相接；所述内部轨道15置于外部轨道14内侧；所述外部轨道14及内部轨道15的上下面均带有凹槽；外部轨道14与内部轨道15之间，于所述凹槽内设有滚珠16及滚珠限位板17；在所述外部轨道14及内部轨道15的两端均设有限位挡板。

当然，为实现固定清洁组件5的纵向往复移动，根据实际设计需要，本实用新型也可采用其它结构形式的滑动组件。

参见图3所示，本实用新型所述腔体1两侧设有铰链7及旋紧手柄8，以实现腔体1的开合。

在具体设计时，本实用新型包括：腔体1、观察玻璃2、观察玻璃密封机构3、滑动组件4、固定清洁组件5及推拉密封组件6。腔体1可采用不锈钢材料，长方形腔体，上表面开有阶梯正方形孔，下表面开有圆形孔，方形孔设置密封槽，此处与观察玻璃2配合，圆形孔与方形孔同心，腔体1两侧设有铰链7和旋紧手柄8，用于限定腔体的开合。观察玻璃密封机构3包括圆形压盖11、作用于观察玻璃2上下的两个密封垫圈12及紧定压盖螺钉13，压盖中心上表面圆孔，下表面方孔，方孔与观察玻璃2配合。滑动组件4可采用平行滚珠滑轨结构，其包括带凹槽的外部轨道14和内部轨道15，外部轨道14固定于腔体1的内壁，内部轨道15置于外轨轨道14内侧，两轨之间设有滚珠16及滚珠限位板17，外部轨道14和内部轨道15的两端部均有限位挡板，参见图3，外部轨道14的A端限位挡板用于限定滚珠限位板17在A方向的滑动，外部轨道14的B端限位挡板用于限定内部轨道15在外部轨道内沿B方向的滑动, 内部轨道15的A端限位挡板用于限定自身在外部轨道14内沿A方向的滑动及滚珠限位板17在A方向的滑动，内部轨道15的B端限位挡板用于限定滚珠限位板17 在B方向的滑动。内部轨道15与固定架18用螺栓连接，固定架18可上下微调高度。固定清洁组件5包括固定架18、胶质清洁片19及金属清洁片20；金属清洁片20靠近观察玻璃2一侧的高度低于胶质清洁片19（2～3mm）, 金属清洁片20及胶质清洁片19被固定架18夹紧，当推拉杆9运动，金属清洁片20和胶质清洁片19可多次清理表面污染物。推拉密封组件6包括推拉杆9、手柄10及动密封箱21。推拉杆9一部分置于腔体1中，一部分置于腔体1外，腔体1内一端与固定架18相连，内外之间通过动密封箱21保证腔体1内真空度。腔体1上板长于下板，推拉杆9和手柄10在自然状态时隐藏在上板之下。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于，包括腔体（1）、观察玻璃（2）、固定清洁组件（5）及推拉密封组件（6）；所述观察玻璃（2）固定嵌于腔体（1）的观察孔内；所述固定清洁组件（5）位于腔体（1）内；所述固定清洁组件（5）的清洁工作端与观察玻璃（2）滑动相接；所述推拉密封组件（6）的推拉工作端与固定清洁组件（5）的一端固定相接；所述固定清洁组件（5）经滑动组件（4）与腔体（1）的内壁滑动相接，以实现固定清洁组件（5）的清洁工作端沿观察玻璃（2）的纵向往复移动。

2.根据权利要求1所述的真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于：还设有观察玻璃密封机构（3）；所述观察玻璃（2）经观察玻璃密封机构（3）与腔体（1）封接。

3.根据权利要求2所述的真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于：所述观察玻璃密封机构（3）包括圆形压盖（11）、位于观察玻璃（2）与腔体（1）结合部的密封垫圈（12）及紧定压盖螺钉（13）；所述观察玻璃（2）经圆形压盖（11）及紧定压盖螺钉（13）与腔体（1）固定相接。

4.根据权利要求3所述的真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于：所述固定清洁组件（5）包括固定架（18）、胶质清洁片（19）及金属清洁片（20）；所述金属清洁片（20）及胶质清洁片（19）与固定架（18）固定相接；所述金属清洁片（20）靠近观察玻璃（2）一侧的高度低于胶质清洁片（19）。

5.根据权利要求4所述的真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于：所述推拉密封组件（6）包括推拉杆（9）、手柄（10）及动密封箱（21）；所述推拉杆（9）的一端置于腔体（1）内，且与固定架（18）固定相接；所述推拉杆（9）的另一端经动密封箱（21）与手柄（10）固定相接。

6.根据权利要求4或5所述的真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于：所述滑动组件（4）采用平行滚珠滑轨结构，其包括外部轨道（14）及内部轨道（15）；所述外部轨道（14）固定于腔体（1）的内壁；所述内部轨道（15）与固定架（18）固定相接；所述内部轨道（15）置于外部轨道（14）内侧；所述外部轨道（14）及内部轨道（15）的上下面均带有凹槽；外部轨道（14）与内部轨道（15）之间，于所述凹槽内设有滚珠（16）及滚珠限位板（17）；在所述外部轨道（14）及内部轨道（15）的两端均设有限位挡板。

7.根据权利要求6所述的真空炉专用自清洁式观察装置，其特征在于：所述腔体（1）两侧设有铰链（7）及旋紧手柄（8），以实现腔体（1）的开合。

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