CN202964416U - 一种修整双面抛光机大盘的修盘装置 - Google Patents

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库黎明
闫志瑞
索思卓
王永涛
葛钟
叶松芳
鲁进军
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Abstract

本实用新型提供一种修整双面抛光机大盘的修盘装置，该装置包括圆形的载体，该载体的外周具有齿，该载体上设有用于承载砂轮的孔，砂轮安装在该孔中并突出该载体的表面，该砂轮由该载体带动。本实用新型结构简单，采用本实用新型可以对大盘进行整体修整，也可以对大盘进行局部修整，修整精度较高，且简单易行。

Description

一种修整双面抛光机大盘的修盘装置
技术领域
本实用新型涉及一种修整双面抛光机大盘的修盘装置。
背景技术
为了解决硅片抛光过程中因尺寸的增大而带来的平整度的问题，而使用双面抛光代替单面抛光，从而获得集成电路用大尺寸硅抛光片。双面抛光过程中硅片的运动状态完全不同于单面抛光，硅片不用固定在陶瓷板上，而是被安放在游轮片内，在中心齿轮和边缘齿轮的带动下自转和以大盘为中心公转。由于硅片是像三明治一样“悬浮”在上下大盘之间，自由度增加，抛光工艺变得更加复杂。在双面抛光过程中，抛光机的大盘平整度起到非常重要的作用，极大的影响着抛光后的硅片表面几何参数。抛光机的上下两大盘平整度越好，硅片的几何参数越好。
双面抛光机在使用一定的时间后，大盘会有一定程度的变形，这样会影响加工精度。大盘变形后一般采用铸铁修盘工具对大盘进行修整，其优点是修整效率较高，能在较快时间内完成修整，但缺点是只能大盘进行整体修整，不能根据我们的要求对大盘修成一定的所要求的形状。另外，铸铁修整工具本身的平整度不易得到保证。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种修整双面抛光机大盘的修盘装置，该装置可以对大盘进行整体修整，也可以对大盘进行局部修整，修整精度较高，且简单易行。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种修整双面抛光机大盘的修盘装置，该装置包括圆形的载体，该载体的外周具有齿，该载体上设有用于承载砂轮的孔，砂轮安装在该孔中并突出该载体的表面，该砂轮由该载体带动。
所述载体的厚度为1～50mm。
所述砂轮的厚度为1～50mm。
所述砂轮由Al2O3颗粒制作而成，其粒径为100～5000目。
本实用新型的优点在于：
本实用新型结构简单，采用本实用新型可以对大盘进行整体修整，也可以对大盘进行局部修整，修整精度较高，且简单易行。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型的分解状态示意图。
图3为本实用新型用于双面抛光机对大盘进行修整的使用状态示意图。
具体实施方式
如图1、2所示，本实用新型的修整双面抛光机大盘的修盘装置包括圆形的载体1和砂轮2，该载体1的外周具有齿，该载体上设有用于承载砂轮2的孔3，砂轮2安装在该孔3中，该砂轮2由该载体1带动。
载体1的厚度为1～50mm，由金属材料制作而成，也可以选用PVC材料制作而成。砂轮2的厚度为1～50mm，由Al2O3颗粒制作而成，其粒径为100～5000目。
如图3所示，利用本实用新型修整双面抛光机大盘时，将砂轮2安装到载体1的孔3中，在双面抛光机的边缘齿轮和太阳齿轮的带动下对大盘进行修整。

Claims (4)

1.一种修整双面抛光机大盘的修盘装置，其特征在于，该装置包括圆形的载体，该载体的外周具有齿，该载体上设有用于承载砂轮的孔，砂轮安装在该孔中并突出该载体的表面，该砂轮由该载体带动。
2.根据权利要求1所述的修整双面抛光机大盘的修盘装置，其特征在于，所述载体的厚度为1～50mm。
3.根据权利要求1所述的修整双面抛光机大盘的修盘装置，其特征在于，所述砂轮的厚度为1～50mm。
4.根据权利要求1所述的修整双面抛光机大盘的修盘装置，其特征在于，所述砂轮由Al2O3颗粒制作而成，其粒径为100～5000目。
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