CN202933681U - 高压反应釜温压控制系统及包括其的高压反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种高压反应釜温压控制系统及包括其的高压反应釜，与高压反应釜配合连接，高压反应釜温压控制装置包括控温组件，与高压反应釜配合连接；控压组件，与高压反应釜配合连接；第一监控器，分别与控温组件和控压组件相连，并设置在邻近高压反应釜的第一位置；第二监控器，与第一监控器并联或串联地与控温组件和控压组件相连，并设置在远离反应釜的第二位置处的控制室内。上述高压反应釜温压控制系统通过同时设置能够并行的两套监控器，使得操作人员在邻近高压反应釜的现场，及远离高压反应釜的控制室，同时对高压反应釜中温度和压力进行监控调节，提高了操作灵活性，降低了人力成本。

Description

高压反应釜温压控制系统及包括其的高压反应釜

技术领域

本实用新型涉及化工、化学反应领域，尤其是涉及一种高压反应釜温压控制系统及包括其的高压反应釜。 

背景技术

高温高压反应釜是化工生产中用来完成对反应温度和反应压力有要求的工艺过程的反应容器。在实际应用中，不同反应过程中，由于对反应的温度、压力具有不同的要求，对所采用的反应容器的设计要求也不尽相同。反应容器在制造过程中必须严格按照相应的标准加工、检测并试运行。且在使用过程中也必须按照反应釜设计的温度和压力运行，以免造成事故。 

同时，高温高压反应釜在用于进行化学、化工反应时，需要不断测定温度和压力，然后根据测量值，调节反应所需的温度和压力，例如，通过添加惰性气体平衡反应釜和机械密封之间的压力差。 

对于比较小规模的反应釜，由于控制点较少不宜采用昂贵的DCS系统控制温度压力。目前这种小规模反应釜中控温方式包括：采用普通控制仪控制温度，配合打点记录仪记录曲线的方式；或采用PLC控制温度压力，配合无纸记录仪或触摸屏记录和显示的方式。这两种方式存在以下不足。1、打点记录仪打点间隔时间长，精度不高，且维护麻烦。2、记录纸记录信息的可读性不强。3、PLC温控方式存在编程困难。4、触摸屏或无纸记录仪反应慢，存在操作不便的问题。另外，由于控制柜通常设置在控制室内，一旦出现温度或压力出现偏差，操作人员无法立即调整，需要进入控制室进行调整，如果调整不及时很容易由于沟通问题而出现操作事故。 

实用新型内容

本实用新型目的在于克服现有技术不足，提供一种高压反应釜温压控制系统及包括其的高压反应釜，以提高高压反应釜内温度和压力的操作灵敏性。 

为此，在本实用新型中提供了一种高压反应釜温压控制系统，与高压反应釜配合连接，高压反应釜温压控制装置包括：用于感测和调整高压反应釜内部温度的控温组件，与高压反应釜配合连接；用于感测和调整高压反应釜内部压力的控压组件，与高压反应釜配合连接；用于监控高压反应釜内部温度和压力的第一监控器，分别与控温组件和控压组件相连，并设置在邻近高压反应釜的第一位置；用于监控高压反应釜内部温度和压力的第二监控器，与第一监控器并联或串联地与控温组件和控压组件相连，并设置在远离反应釜的第二位置处的控制室内。 

进一步地，上述控温组件包括：感温件，设置于高压反应釜的内部，用于采集温度信号，以及向第一监控器和第二监控器发送温度信号；控温件，设置于高压反应釜的内部，根据第一监控器或第二监控器发出的指令调整高压反应釜内部的温度。 

进一步地，上述控压组件包括：感压件，设置于高压反应釜的内部，用于采集压力信号，以及向第一监控器和第二监控器发送压力信号；控压件，与高压反应釜的内部相通，并根据第一监控器或第二监控器发出的指令调整高压反应釜内部的压力。 

进一步地，上述第一监控器包括：控制柜；智能仪表盘，设置在控制柜的内部，分别与感温件及感压件相连，并根据温度信号和压力信号显示相应温度及压力；可控硅功率模块，与智能仪表盘相对应地设置在控制柜内，分别与控温件及控压件相连，用以发出调节指令。 

进一步地，上述第二监控器为PLC温度压力工控机，PLC温度压力工控机分别与控温组件和控压组件相连，根据温度信号和压力信号显示并记录各时间段的温度及压力，并发出调节高压反应釜中温度和/或压力的调节指令。 

进一步地，上述第二监控器通过第一监控器连接至控温组件和控压组件。 

进一步地，上述第二监控器与第一监控器间通过RS-485总线连接。 

进一步地，上述控制系统还包括设置在高压反应釜上的温度计和压力表。 

进一步地，上述温度计为双金属温度计，压力表为弹簧管压力表。 

同时，在本实用新型中还提供了一种高压反应釜，包括温压控制系统，温压控制系统为上述高压反应釜温压控制系统。 

本实用新型的有益效果：上述高压反应釜温压控制系统通过同时设置能够并行的两套监控器，使得操作人员在邻近高压反应釜的现场，及远离高压反应釜的控制室，同时对高压反应釜中温度和压力进行监控调节，一方面通过控制第一控制器便于现场直接对高温反应釜中温度和压力进行调节，提高了操作灵活性，另一方面通过控制第二控制器便于集中管理反应现场各反应装置，降低人力成本。进一步地，并行的两套监控器的同时使用还可提高了温度、压力控制的精度高，以及高压反应釜的安全系数。 

除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本实用新型作进一步详细的说明。 

附图说明

附图构成本说明书的一部分、用于进一步理解本实用新型，附图示出了本实用新型的优选实施例，并与说明书一起用来说明本实用新型的原理。图中： 

图1示出了根据本实用新型高压反应釜温压控制系统的结构示意图。 

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型的实施例中的技术方案进行详细的说明，但如下实施例以及附图仅是用以理解本实用新型，而不能限制本实用新型，本实用新型可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。 

在本实用新型的一种实施例中，提供了一种高压反应釜温压控制系统，该高压反应釜温压控制装置包括：用于感测和调整高压反应釜内部温度的控温组件20、用于感测和调整高压反应釜内部压力的控压组件30、用于监控高压反应釜内部温度和压力的第一监控器40和第一监控器50。其中控温组件20和控压组件30分别与高压反应釜10配合连接。第一监控器40和第二监控器50并联或串联地与控温组件20和控压组件30分别相连。第一监控器40设置在邻近高压反应釜10的第一位置，第二监控器50设置在远离高压反应釜10的第二位置处的控制室内。 

上述高压反应釜温压控制系统通过同时设置能够并行的两套监控器，使得操作人员在邻近高压反应釜的现场，及远离高压反应釜的控制室，同时对高压反应釜中温度和压力进行监控调节，一方面通过控制第一控制器40便于现场直接对高压反应釜40中温度和压力进行调节，提高了操作灵活性，另一方面通过控制第二控制器50便于集中管理反应现场各反应装置，降低人力成本。进一步地，并行的两套监控器的同时使用还可提高了温度、压力控制的精度高，以及高压反应釜10的安全系数。 

优选地，在上述高压反应釜温压控制系统中控温组件20进一步包括：感温件21和控温件22。感温件21设置于高压反应釜10的内部，用于采集温度信号，以及向第一监控器40和第二监控器50发送温度信号；这种感温件21采用目前常用的零部件即可，例如热电阻。控温件22设置于高压反应釜10的内部，根据第一监控器40或第二监控器50发出的调节指令调整高压反应釜10内部的温度。该控温件22采用采用目前常用的零部件即可，例如设置电加热管以增加温度，又例如设置换热器以降低温度。具体操作可根据实际情况进行实际组合操作。 

在上述结构中将控温组件20分为感温件21和控温件22两部分，分别对高压反应釜10中温度进行采集与调节的步骤。实际操作中，感温件21将采集到的温度信号发送至第一、第二监控器40、50，第一、第二监控器40、50根据温度信号发出调节指示，控温件22进一步根据调节指令调节高压反应釜10内部的温度。其中，第一、第二监控器40、50所发出的调节指令可以是操作人员根据第一、第二监控器显示的温度数值，手动操作所发出的调节指令，也可以是第一、第二监控器40、50根据预存入的温度控制信息，进行自动调节所发出的调节指令。 

优选地，在高压反应釜温压控制系统中控压组件30进一步包括感压件31和控压件32。感压件31设置于高压反应釜10的内部，用于采集压力信号，以及向第一监控器40和第二监控器50发送压力信号；该感压件31采用常规部件即可，例如可以采用压力变送器。控压件32与高压反应釜10的内部相通，并根据第一监控器40或第二监控器50发出的指令调整高压反应釜10内部的压力。该控压件32也采用常规的部件即可，例如抽真空装置、惰性气体供应装置。具体操作可根据实际情况进行实际组合操作。 

在上述结构中将控温组件30分为感压件31和控压件32两部分，分别对高压反应釜10中压力进行采集与调节的步骤。实际操作中，感压件31将采集到的压力信号发送至第一、第二监控器40、50，第一、第二监控器40、50根据压力信号发出调节指示，控压件32进一步根据调节指令调节高温反应釜10内部的温度。其中，第一、第二监控器40、50所发出的调节指令可以是操作人员根据第一、第二监控器40、50显示的温度数值，手动操作所发出的调节指令，也可以是第一、第二监控器40、50根据预存入的温度控制信息，进行自动调节所发出的调节指令。 

优选地，在上述高压反应釜温压控制系统中，第一监控器40进一步包括控制柜41、智能仪表盘42、以及可控硅功率模块43。控制柜41邻近高压反应釜10设置；智能仪表盘42设置在控制柜41的内部，分别与感温件21及感压件31相连，并根据温度信号和压力信号显示相应温度及压力；可控硅功率模块43与智能仪表盘42相对应地设置在控制柜41内，分别与控温件22及控压件32相连，用以发出调节指令。 

在上述结构中将第一控制器40设置在邻近高压反应釜10的位置，减少了高压反应釜10与第一控制器40之间的距离，节省了大量的昂贵的控制电缆，节约了设备成本。在该高压反应釜温压控制系统中第一控制器可以设置为人工操作系统，操作人员在进行现场巡查时，一旦发现高压反应釜10中温度或压力不符合要求，可现场直接通过控制可控硅功率模块43对高压反应釜10内容温度和压力进行调节，提高了操作的灵活性，节省了返回控制室调节的时间，避免了因采用通讯设备与位于控制室内容人员沟通所产生的误传现象导致误差及安全隐患，保证了高压反应釜内10的反应有效性，提高了控制精度。 

优选地，在上述高压反应釜温压控制系统中，第二监控器50为PLC温度压力工控机，PLC温度压力工控机分别控温组件20和控压组件30相连，根据温度信号和压力信号显示并记录各时间段的温度及压力，并发出调节高压反应福10中温度和/或压力的调节指令。 

在上述结构中将第二监控器50设置在远离高压反应釜10的控制室内，操作人员可直接在操作室内对反应现场各反应设备进行总体监控，减少了操作人员现场巡查的次数，降低了人员成本，提高了操作灵活性。另一方面，将第二监控器为PLC温度压力工控机，可智能的控制控温组件和控压组件的调节功能，并记录下个时间段温度和压力的变化，方便操作人员查阅历史记录及各种报表并打印。 

优选地，在上述高压反应釜温压控制系统中，第二监控器50通过第一监控器40联结至控温组件20和控压组件30。进一步地，第二监控器50和第一监控器40间通过RS-485总线连接。 

将第二监控器50通过第一监控器40与控温组件20和控压组件30相连，一方面可以简化连接线路，另一方面有利于第一监控器与第二监控器之间相互校对核实。将第二监控器50和第一监控器40间通过RS-485总线连接，在有利于信号的良好传输的同时，提高传输总线的使用寿命。 

在本实用新型的另一种实施例中，上述高压反应釜温压控制系统中进一步包括设置在反应釜上的温度计60，以及设置在反应釜上的压力表70。优选地，温度计60可以采用双金属 温度计、压力表70可采用弹簧管压力表。 

温度计60和压力表70的设置有利于对高压反应釜10的进一步监控。一方面，在类似于停电等特殊情况下，第一监控器40和第二监控器50都处于瘫痪状态，操作人员可以借助现场高压反应釜10上的温度计60和压力表70进行手动操作，避免危险情况发生。另一方面，温度计60和压力表70的设置，可以用于与第一监控器40和第二监控器50中所显示的温度和压力数据互相验证，避免因一台仪表突然失灵而引发的故障。 

在本实用新型的一种实施例中，提供了一种高压反应釜，这种高温反应釜中包括上述高压反应釜温压控制系统。这种高压反应釜通过设置上述高压反应釜温压控制系统能够提高高压反应釜控制温度和压力的精确性，提高高压反应釜内的反应转化率。 

上述高压反应釜温压控制系统可以用于任何需要控制温度和压力的化工、化学反应设备。本领域技术人员根据本实用新型的教导下，有能力合理地应用本实用新型所提供的高压反应釜温压控制系统，这些都属于本实用新型的保护范围。 

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。 

Claims (10)

1.一种高压反应釜温压控制系统，与所述高压反应釜（10）配合连接，其特征在于，所述高压反应釜温压控制装置包括： 

用于感测和调整所述高压反应釜内部温度的控温组件（20），与所述高压反应釜（10）配合连接； 

用于感测和调整所述高压反应釜内部压力的控压组件（30），与所述高压反应釜（10）配合连接； 

用于监控所述高压反应釜内部温度和压力的第一监控器（40），分别与所述控温组件（20）和所述控压组件（30）相连，并设置在邻近所述高压反应釜（10）的第一位置； 

用于监控所述高压反应釜（10）内部温度和压力的第二监控器（50），与所述第一监控器并联或串联地与所述控温组件（20）和所述控压组件（30）相连，并设置在远离所述反应釜（10）的第二位置处的控制室内。 

2.根据权利要求1所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述控温组件（20）包括： 

感温件（21），设置于所述高压反应釜（10）的内部，用于采集温度信号，以及向所述第一监控器（40）和第二监控器（50）发送温度信号； 

控温件（22），设置于所述高压反应釜（10）的内部，根据所述第一监控器（40）或第二监控器（50）发出的指令调整所述高压反应釜（10）内部的温度。 

3.根据权利要求2所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述控压组件（30）包括： 

感压件（31），设置于所述高压反应釜（10）的内部，用于采集压力信号，以及向所述第一监控器（40）和第二监控器（50）发送压力信号； 

控压件（32），与所述高压反应釜（10）的内部相通，并根据所述第一监控器（40）或第二监控器（50）发出的指令调整所述高压反应釜（10）内部的压力。 

4.根据权利要求3所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述第一监控器（40）包括： 

控制柜（41）； 

智能仪表盘（42），设置在所述控制柜（41）的内部，分别与感温件（21）及所述感压件（31）相连，并根据所述温度信号和所述压力信号显示相应温度及压力； 

可控硅功率模块（43），与所述智能仪表盘（42）相对应地设置在所述控制柜内，分别与所述控温件（22）及控压件（32）相连，用以发出调节指令。 

5.根据权利要求3所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述第二监控器（50）为PLC温度压力工控机，所述PLC温度压力工控机分别与所述控温组件和所述控压组件相 连，根据所述温度信号和所述压力信号显示并记录各时间段的温度及压力，并发出调节所述高压反应釜（10）中温度和/或压力的调节指令。 

6.根据权利要求1至5中任一项所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述第二监控器（50）通过所述第一监控器（40）连接至所述控温组件（20）和所述控压组件（30）。 

7.根据权利要求6所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述第二监控器（50）与所述第一监控器（40）间通过RS-485总线连接。 

8.根据权利要求1至5中任一项所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述控制系统还包括设置在所述高压反应釜（10）上的温度计（60）和压力表（70）。 

9.根据权利要求8所述的高压反应釜温压控制系统，其特征在于，所述温度计（60）为双金属温度计，所述压力表（70）为弹簧管压力表。 

10.一种高压反应釜，包括温压控制系统，其特征在于，所述温压控制系统为权利要求1至9中任一项所述的高压反应釜温压控制系统。 

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