CN202876816U - 一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构 - Google Patents
一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构，所述涡旋隔离机构设置在反应釜体的内胆内；所述涡旋隔离机构包括多片蝶形叶片、中心柱和上层隔离筛；所述多片蝶形叶片按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱上；所述中心柱底部与上层隔离筛固定；所述上层隔离筛固定在反应釜体的内壁下端。本实用新型设置在在反应釜中，其蝶形叶片能形成涡旋环境，从而加速反应的进行，有助于反应物的反应完全性，为纳米粒子的有序结构创造了良好的反应环境，因而极大地提升了转化率，缩短了诱导时间，降低了生产成本，提高了反应物的循环利用率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种反应釜合成装置，特别涉及一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构。
背景技术
纳米三氧化二铝在橡胶、玻璃、陶瓷、塑料、涂料、耐火材料、远红外发射、高压纳灯、集成电路基板、电池，以及化纤产品等领域有惊人的作用，其应用前景巨大。在制备时需要用到反应釜合成装置。现有的反应釜为水热合成反应釜，又称聚合反应釜，是一种能分解难溶物质的密闭容器，是用于铝水反应的水热合成反应釜。它能承载反应物，收集气体，还能让纳米材料的前驱体生长。但现有的水热合成装置容易使固体反应物堆积在釜底，随着反应的进行，所形成的絮状物沉淀在反应物之上，越积越厚，如果用排料的动力拉动，则使新老生成物一起涌出。由此，因过热而引起物料碳化、产物颜色变深、金属钝化、反应衰减甚至过早终止。不仅造成了物料的浪费，还使生成物成分不均匀，结晶不好。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决现有技术存在的问题，提供一种结构简单、能加速反应的进行、提升转化率、缩短诱导时间、降低生产成本、提高反应物的循环利用率的涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构。
实现本实用新型目的的技术方案是一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构，所述涡旋隔离机构设置在反应釜体的内胆内；所述涡旋隔离机构包括多片蝶形叶片、中心柱和上层隔离筛；所述多片蝶形叶片按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱上；所述中心柱底部与上层隔离筛固定；所述上层隔离筛固定在反应釜体的内壁下端。
进一步的，还包括设置在上层隔离筛下方，且与内胆固定的下层隔离筛。
所述上层隔离筛固定在内胆的垂直壁下端的十分之一处；所述下层隔离筛固定在内胆的垂直壁与圆弧底部连接处。
所述上层隔离筛和下层隔离筛均为不锈钢材质，其上皆均匀分布小孔；所述上层隔离筛上的小孔的孔径大于下层隔离筛上的孔径，且二者孔径比例为5∶3。
采用了上述技术方案，本实用新型具有以下的有益效果：(1)本实用新型设置在在反应釜中，其蝶形叶片能形成涡旋环境，从而加速反应的进行，有助于反应物的反应完全性，为纳米粒子的有序结构创造了良好的反应环境，因而极大地提升了转化率，缩短了诱导时间，降低了生产成本，提高了反应物的循环利用率。
(2)本实用新型的上、下两层隔离筛将下沉物按反应的先后顺序分隔成三层，动静有序，热冷相宜。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
图1为本实用新型的结构示意图。
附图中的标号为：
反应釜体1、外壳11、内胆12、夹层13、蝶形叶片2、中心柱3、上层隔离筛4、下层隔离筛5、进料装置6、排料阀7。
具体实施方式
见图1，本实施例的涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构设置在反应釜体1的内胆12内，包括5片蝶形叶片2、中心柱3、上层隔离筛4和下层隔离筛5。5片蝶形叶片2按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱3上；中心柱3底部与上层隔离筛4固定；上层隔离筛4固定在反应釜体1的内胆12的内壁下端。下层隔离筛5设置在上层隔离筛4下方，且与内胆12固定。上层隔离筛4固定在内胆12的垂直壁下端的十分之一处；下层隔离筛5固定在内胆12的垂直壁与圆弧底部连接处。上层隔离筛4和下层隔离筛5均采用用高强度的不锈钢(ss314)制成，其上皆均匀分布小孔；上层隔离筛4上的小孔的孔径大于下层隔离筛5上的孔径，且二者孔径比例为5∶3。
反应釜体1采用316L型不锈钢制成，包括外壳11、内胆12、进料口和出料口。外壳11和内胆12之间形成夹层13。反应釜体1的外壳11和内胆12均由依次相连的圆弧顶部、垂直壁和圆弧底部组成。进料口和出料口分别设置在反应釜体1顶部和底部。进料口处设置进料装置6。出料口处设置排料阀7。
反应升腾物会顺着蝶形叶片2升流的方向旋转上升，升腾上升到顶点后，即会向四周回流，沿着蝶形叶片2反方向下沉，与升流各行其道；上、下两层隔离筛将下沉物按反应的先后顺序分隔成三层，动静有序，热冷相宜，有助于调控材料的结构与活性，使 生成的纳米颗粒有序结构。
以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构，其特征在于：所述涡旋隔离机构设置在反应釜体(1)的内胆(12)内；所述涡旋隔离机构包括多片蝶形叶片(2)、中心柱(3)和上层隔离筛(4)；所述多片蝶形叶片(2)按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱(3)上；所述中心柱(3)底部与上层隔离筛(4)固定；所述上层隔离筛(4)固定在反应釜体(1)的内壁下端。
2.根据权利要求1所述的一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构，其特征在于：还包括设置在上层隔离筛(4)下方，且与内胆(12)固定的下层隔离筛(5)。
3.根据权利要求2所述的一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构，其特征在于：所述上层隔离筛(4)固定在内胆(12)的垂直壁下端的十分之一处；所述下层隔离筛(5)固定在内胆(12)的垂直壁与圆弧底部连接处。
4.根据权利要求3所述的一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构，其特征在于：所述上层隔离筛(4)和下层隔离筛(5)均为不锈钢材质，其上皆均匀分布小孔；所述上层隔离筛(4)上的小孔的孔径大于下层隔离筛(5)上的孔径，且二者孔径比例为5∶3。
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| CN 201220592221 CN202876816U (zh) | 2012-11-12 | 2012-11-12 | 一种涡旋反应釜合成装置的涡旋隔离机构 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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| CN202876816U true CN202876816U (zh) | 2013-04-17 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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2012
- 2012-11-12 CN CN 201220592221 patent/CN202876816U/zh not_active Expired - Lifetime
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