CN202816895U

CN202816895U - 传送部件

Info

Publication number: CN202816895U
Application number: CN 201220494444
Authority: CN
Inventors: 许亮
Original assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Current assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Priority date: 2012-09-25
Filing date: 2012-09-25
Publication date: 2013-03-20
Anticipated expiration: 2022-09-25

Abstract

本实用新型提供一种传送部件，至少包括多个圆台防滑栓、传送部件本体和固定盘，其中，所述传送部件本体包括一平板部、开设于所述平板部上用于容置机械手的凹槽部、以及设置在所述凹槽部外平板部中的与所述圆台防滑栓相匹配的多个通槽，且所述通槽的深度略小于该圆台防滑栓的高度。与现有的传送部件相比较，本实用新型传送部件中发挥防滑作用的为圆台防滑栓，该圆台防滑栓略高于传送部件本体表面，用于直接与已对准的晶圆相接触，在传送部件频繁上下移动中，在防止晶圆在传送部件上相对位移的同时，有效避免了圆台防滑栓从传送部件本体的上表面弹出的现象，降低了圆台防滑栓与晶圆碰撞而损伤晶圆的几率，保证了化学气相沉积设备的正常运转。

Description

传送部件

技术领域

本实用新型属于集成电路制造技术领域，涉及一种具有反应腔的沉积设备，特别是涉及一种设置于该沉积设备的反应腔外且用于传送晶圆至反应腔中的传送部件。

背景技术

在集成电路制造工艺中，对于小图形，其分辨率受晶圆表面的条件影响很大，随着特征图形尺寸减小到亚微米级，芯片制造工艺对低缺陷密度的要求越来越迫切，对晶圆上沉积薄膜的质量要求也越来越高，其厚度的均匀性不仅会影响到后续工艺的正常进行，也会影响到器件的电性能和机械性能，并进而影响到器件的成品率及产量。

薄膜沉积的方法主要分为物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）和化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）两大类。其中，化学气相沉积(Chemical vapor deposition，CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。化学气相沉积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相沉积因其工艺较为简单，不需要高真空、便于制备复合产物、沉积速率高，以及沉积的各种薄膜具有良好的阶梯覆盖性能等优点，在半导体器件的制造中被广泛采用。

化学气相沉积设备中设置有反应腔，在反应腔外且紧邻所述反应腔的缓冲仓中设置有传送部件，借助一机械手先将经过对准后的晶圆转移至传送部件上，而后经过所述传送部件上下移动并借助另一机械手将该晶圆转移至所述反应腔中。在上述转移过程中，为了保证已对准的晶圆在传送部件上不产生相对位移，现有的传送部件中往往会设置多个直接与已对准的晶圆相接触并略高于传送部件本体表面的圆柱体陶瓷钉，以防止已对准的晶圆在传送部件上的相对滑动。

不过，现有的传送部件在不断的上下移动中会对该陶瓷钉产生震动，甚至将其弹出传送部件本体上表面，造成陶瓷钉与晶圆的碰撞而损伤晶圆，导致晶圆无法正常传送至反应腔中，影响化学气相沉积设备的正常运转。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种传送部件，用于解决现有技术中传送部件防止已对准的晶圆在其上相对位移的同时却造成晶圆损伤的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种传送部件，所述传送部件至少包括：

多个圆台防滑栓，其上表面用于与晶圆相贴合；

传送部件本体，包括一平板部、开设于所述平板部上用于容置机械手的凹槽部、以及设置在所述凹槽部外的平板部中的多个通槽，其中，所述通槽与所述圆台防滑栓相匹配且供所述圆台防滑栓从平板部下表面嵌入，且所述通槽的深度略小于该圆台防滑栓的高度；

固定盘，固定贴合于所述传送部件本体的平板部的下表面，且同时与所述圆台防滑栓的下表面相贴合。

可选地，所述凹槽部的深度大于所述机械手的厚度。

可选地，所述通槽对称分布于所述凹槽部外的两侧。

可选地，所述圆台防滑栓的个数为6个。

可选地，所述传送部件本体的平板部与所述固定盘通过穿设于所述固定盘且旋紧于所述平板部的紧固件固定连接。

可选地，所述紧固件为螺钉。

可选地，所述圆台防滑栓的材料为陶瓷。

可选地，所述传送部件本体的材料为铝，所述固定盘材料为铝。

如上所述，本实用新型的传送部件，具有以下有益效果：与现有的传送部件相比较，本实用新型传送部件中发挥防滑作用的为圆台防滑栓，该圆台防滑栓略高于传送部件本体表面，用于直接与已对准的晶圆相接触。传送部件频繁上下移动中，在防止已对准的晶圆在传送部件上相对位移的同时，有效避免了圆台防滑栓从传送部件本体的上表面弹出的现象，降低了圆台防滑栓与晶圆碰撞而损伤晶圆的几率，保证了化学气相沉积设备的正常运转。

附图说明

图1显示为本实用新型的传送部件的俯视图，其中，同时显示了机械手与传送部件的相对位置。

图2显示为图1沿A-A方向的截面示意图。

图3显示为图1沿B-B方向的截面示意图。

图4显示为本实用新型传送部件的仰视图。

图5显示为本实用新型的传送部件的俯视图，其中，同时显示了机械手与传送部件的相对位置以及在传送部件上加载的已对准的晶圆与传送部件的相对位置。

图6显示为图5沿A-A方向的截面示意图。

元件标号说明

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图1至图6。须知，本实用新型的传送部件说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

现有技术中，为了保证已对准的晶圆在化学气相沉积设备的传送部件上不产生相对位移，该传送部件中往往会设置多个直接与已对准的晶圆相接触并略高于传送部件本体表面的圆柱体陶瓷钉，以防止已对准的晶圆在传送部件上的相对滑动。不过，现有的传送部件在不断的上下移动中会对该陶瓷钉产生震动，甚至将其弹出传送部件本体上表面，造成陶瓷钉与晶圆的碰撞而损伤晶圆，导致已对准的晶圆无法正常传送至反应腔中，影响化学气相沉积设备的正常运转。

有鉴于此，本实用新型提供了一种传送部件，该传送部件中发挥防滑作用的为圆台防滑栓，该圆台防滑栓略高于传送部件本体表面，用于直接与已对准的晶圆相接触。在传送部件频繁上下移动中，在防止已对准的晶圆在传送部件上相对位移的同时，有效避免了圆台防滑栓从传送部件本体的上表面弹出的现象，降低了圆台防滑栓与晶圆碰撞而损伤晶圆的几率，保证了化学气相沉积设备的正常运转。以下将详细阐述本实用新型的传送部件实施方式，使本领域技术人员不需要创造性劳动即可理解本实用新型的传送部件。

如图1至图6所示，本实用新型提供一种传送部件1，所述传送部件1设置于反应腔外且紧邻所述反应腔的缓冲仓中，所述传送部件1至少包括：圆台防滑栓11、传送部件本体12、及固定盘13。

如图1至图3、图5和图6所示，所述圆台防滑栓11为多个，且其平整上表面用于与已对准的晶圆2相贴合，发挥所述圆台防滑栓11的防滑作用，以防止已对准的晶圆2与所述传送部件1产生相对位移，所述圆台防滑栓11的材料为陶瓷，在本实施例中所述圆台防滑栓11的个数为6个。

如图3所示，所述传送部件本体12包括一平板部121、一凹槽部122及多个通槽（未标示），所述传送部件本体12的材料为铝。

其中，所述平板部121为厚度一致的平板，且具有上下平整表面。

所述凹槽部122开设于所述平板部121上且用于容置机械手3，优选的，所述凹槽部122的深度大于所述机械手的厚度，从而当借助机械手3将已对准的晶圆2贴合于传送部件1的所述圆台防滑栓11上时，保证位于所述已对准的晶圆2下表面的所述机械手3可在所述传送部件本体12的凹槽部122中移动，其中，所述机械手3夹持并移动所述已对准的晶圆2将其放置于或移离所述传送部件1。

所述通槽设置在所述凹槽部122外的平板部121中，在本实施例中，优选的，所述通槽对称分布于凹槽部122外的两侧的平板部121中；所述通槽与所述圆台防滑栓11在数量和形状均相匹配，保证所述圆台防滑栓11从平板部121下表面通过所述通槽嵌入至传送部件本体12中，在本实施例中，优选的，所述通槽的个数为6个；同时，所述通槽的深度略小于该圆台防滑栓的高度，以使所述圆台防滑栓11高出传送部件本体12上表面（如图2、图3、图6所示），从而保证所述圆台防滑栓11嵌入至所述传送部件本体12的通槽中后，且已对准的晶圆2放置在传送部件1上时（如图5、图6所示），已对准的晶圆2可直接与所述圆台防滑栓11的上表面相贴合（如图5、图6所示），从而防止已对准的晶圆2与所述传送部件1产生相对位移，即所述圆台防滑栓11发挥其防滑的作用。

需要说明的是，为了使所述的传送部件本体12与固定盘13相连接，所述传送部件本体12还包括开设于其下表面且具有内螺纹的盲孔（未标示），所述传送部件本体12与固定盘13的具体连接方式请参考固定盘的相关说明。

需要特别说明的是，由于所述圆台防滑栓11为圆台形，其中，垂直于圆台上下底面的截面为梯形，因此其嵌入至传送部件本体12中后，在传送部件1工作时频繁上下移动中，有效避免了圆台防滑栓11从传送部件本体12的上表面弹出的现象，降低了所述圆台防滑栓11与晶圆碰撞而损伤晶圆的几率，保证了化学气相沉积设备的正常运转。

如图2至图4所示，所述固定盘13为铝材料，其固定贴合于所述传送部件本体12的平板部121的下表面，且所述固定盘13同时与所述圆台防滑栓11的下表面相贴合，以使所述圆台防滑栓11固定至所述传送部件本体12的通槽中，防止所述圆台防滑栓11从通槽中滑落，同时保证所述圆台防滑栓11高出所述传送部件本体12的上表面从而发挥所述圆台防滑栓11的防滑作用。所述传送部件本体12的平板部121与所述固定盘13通过穿设于所述固定盘13且旋紧于所述平板部121的紧固件14固定连接。

在本实施例中，请参阅图4，所述传送部件本体12与固定盘13的具体连接方式为：所述传送部件本体12还包括开设于其下表面且具有内螺纹的盲孔，且所述固定盘13还包括穿设于所述固定盘13且与所述传送部件本体12中的盲孔数量和位置相对应的通孔（未标示），同时，所述紧固件14为与所述盲孔和通孔相匹配螺钉，以使紧固件14（螺钉）能够穿设于所述固定盘13且旋紧于所述平板部121中，达到所述传送部件本体12与固定盘13相固定贴合连接的目的。

为使本领域技术人员进一步理解本实用新型的实施方式，以下将详细说明本实用新型的传送部件1连接步骤：

1）通过所述通槽从所述传送部件本体12的平板部121下表面，将所述圆台防滑栓11嵌入至传送部件本体12中；

2）将固定盘13贴合至嵌有所述圆台防滑栓11的所述传送部件本体12的背面，并借助紧固件14（螺钉）穿设于所述固定盘13且旋紧于所述传送部件本体12平板部121，使所述传送部件本体12与固定盘13相固定贴合连接。

经过以上步骤，整个传送部件1就形成了。

综上所述，与现有的传送部件相比较，本实用新型的传送部件中发挥防滑作用的为圆台防滑栓，该圆台防滑栓略高于传送部件本体表面，用于直接与已对准的晶圆相接触。在传送部件频繁上下移动中，在防止已对准的晶圆在传送部件上相对位移的同时，有效避免了圆台防滑栓从传送部件本体的上表面弹出的现象，降低了圆台防滑栓与晶圆碰撞而损伤晶圆的几率，保证了化学气相沉积设备的正常运转。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims

1.一种传送部件，其特征在于，所述传送部件至少包括：

多个圆台防滑栓，其上表面用于与晶圆相贴合；

2.根据权利要求1所述的传送部件，其特征在于：所述凹槽部的深度大于所述机械手的厚度。

3.根据权利要求1或2所述的传送部件，其特征在于：所述通槽对称分布于所述凹槽部外的两侧。

4.根据权利要求1或2所述的传送部件，其特征在于：所述圆台防滑栓的个数为6个。

5.根据权利要求1或2所述的传送部件，其特征在于：所述传送部件本体的平板部与所述固定盘通过穿设于所述固定盘且旋紧于所述平板部的紧固件固定连接。

6.根据权利要求5所述的传送部件，其特征在于：所述紧固件为螺钉。

7.根据权利要求1或2所述的传送部件，其特征在于：所述圆台防滑栓的材料为陶瓷。

8.根据权利要求1或2所述的传送部件，其特征在于：所述传送部件本体的材料为铝，所述固定盘材料为铝。