CN202805176U - 用于非晶硅电池画线的激光刻画设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及太阳能领域，尤其涉及用于非晶硅电池画线的激光刻画设备。本实用新型采取如下技术方案：包含操作台，操作台上有支架导轨以及其上的支架，操作台上有沿着支架导轨分布的电磁铁轨道，支架下方有磁体。所述支架导轨下方有磁体为永磁铁。采用如上技术方案的本实用新型，具有如下有益效果：采用类似于磁悬浮轨道的磁力来驱动装置的运行，稳定可靠，控制精度高，刻画的精度可以达到千分之一毫米，大大降低了次品率。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能领域，尤其涉及用于非晶硅电池画线的激光刻画设备。
背景技术
传统的非晶硅电池画线的激光刻画设备精度不高，难以实现精确控制，而精确控制对于太阳能电池板的生产非常关键，尤其在太阳能行业大力发展的今天，高精度的太阳能生产设备可以大大节省人力，提高太阳能利用率，促进太阳能这一绿色能源的广泛应用。
实用新型内容
实用新型的目的：为了提供一种刻画精度高，控制精确的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备。
为了达到如上目的，本实用新型采取如下技术方案：包含操作台，操作台上有支架导轨以及其上的支架，操作台上有沿着支架导轨分布的电磁铁轨道，支架下方有磁体。
本实用新型进一步技术方案在于，所述支架导轨下方的磁体为永磁铁。
本实用新型进一步技术方案在于，还包含位置高于支架的激光切割系统，所述激光切割系统包含激光发生器安装架及安装于其上的激光发生器，其上还安装有朝下的激光切割头，所述激光切割头可在垂直于支架导轨的方向上往返移动。
本实用新型进一步技术方案在于，所述激光发生器安装架可在高于支架的垂直于支架导轨的激光导轨上往返移动。
本实用新型进一步技术方案在于，还包含平行于激光导轨的激光电磁轨道，激光发生器安装架下方有磁体。
本实用新型进一步技术方案在于，所述磁体为永磁体。
本实用新型进一步技术方案在于，所述支架导轨为平行的两条。
采用如上技术方案的本实用新型，具有如下有益效果：采用类似于磁悬浮轨道的磁力来驱动装置的运行，稳定可靠，控制精度高，刻画的精度可以达到千分之一毫米，大大降低了次品率。
附图说明
为了进一步说明本实用新型，下面结合附图进一步进行说明：
附图为本实用新型的结构示意图；
其中：1.操作台；2.运送支架；3.支架导轨；4.电磁轨道；5.激光切割头；6.激光导轨；7.激光电磁轨道；8.激光发生器安装架。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的实施例进行说明，实施例不构成对本实用新型的限制：
为了达到如上目的，本实用新型采取如下技术方案：包含操作台1，操作台1上有支架导轨3以及其上的支架，操作台1上有沿着支架导轨3分布的电磁铁轨道4，支架下方有磁体。
电磁铁轨道4形成交互的磁极，根据电流大小来控制力度，从而和磁体相互作用，进而实现装置的运行，精确有效。
所述支架导轨3下方的磁体为永磁铁。
还包含位置高于支架的激光切割系统，所述激光切割系统包含激光发生器安装架8及安装于其上的激光发生器，其上还安装有朝下的激光切割头5，所述激光切割头5可在垂直于支架导轨3的方向上往返移动。
所述激光发生器安装架8可在高于支架的垂直于支架导轨3的激光导轨6上往返移动。
还包含平行于激光导轨6的激光电磁轨道7，激光发生器安装架8下方有磁体。所述磁体为永磁体。所述支架导轨3为平行的两条。
本处的磁体可以是永磁体，当然也可以是电磁铁。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本领域的技术人员应该了解本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的范围内。
Claims (7)
1.用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，包含操作台（1），操作台（1）上有支架导轨（3）以及其上的支架，操作台（1）上有沿着支架导轨（3）分布的电磁铁轨道（4），支架下方有磁体。
2.如权利要求1所述的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，所述支架导轨（3）下方的磁体为永磁铁。
3.如权利要求1所述的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，还包含位置高于支架的激光切割系统，所述激光切割系统包含激光发生器安装架（8）及安装于其上的激光发生器，其上还安装有朝下的激光切割头（5），所述激光切割头（5）可在垂直于支架导轨（3）的方向上往返移动。
4.如权利要求3所述的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，所述激光发生器安装架（8）可在高于支架的垂直于支架导轨（3）的激光导轨（6）上往返移动。
5.如权利要求3所述的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，还包含平行于激光导轨（6）的激光电磁轨道（7），激光发生器安装架（8）下方有磁体。
6.如权利要求5所述的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，所述磁体为永磁体。
7.如权利要求1所述的用于非晶硅电池画线的激光刻画设备，其特征在于，所述支架导轨（3）为平行的两条。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN 201220535531 CN202805176U (zh) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | 用于非晶硅电池画线的激光刻画设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201220535531 CN202805176U (zh) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | 用于非晶硅电池画线的激光刻画设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202805176U true CN202805176U (zh) | 2013-03-20 |
Family
ID=47864118
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN105856437A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-08-17 | 肇庆市宏华电子科技有限公司 | 一种片式电子元件高速智能切割机 |
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2012
- 2012-10-19 CN CN 201220535531 patent/CN202805176U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN105856437A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-08-17 | 肇庆市宏华电子科技有限公司 | 一种片式电子元件高速智能切割机 |
| CN105856437B (zh) * | 2016-05-25 | 2018-05-04 | 肇庆市宏华电子科技有限公司 | 一种片式电子元件高速智能切割机 |
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Legal Events
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