CN202794351U - 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统 - Google Patents

一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统 Download PDF

Info

Publication number
CN202794351U
CN202794351U CN 201220430012 CN201220430012U CN202794351U CN 202794351 U CN202794351 U CN 202794351U CN 201220430012 CN201220430012 CN 201220430012 CN 201220430012 U CN201220430012 U CN 201220430012U CN 202794351 U CN202794351 U CN 202794351U
Authority
CN
China
Prior art keywords
test bar
reference test
probe
knob
fixing device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn - After Issue
Application number
CN 201220430012
Other languages
English (en)
Inventor
姚利军
沈涛
黄建领
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Institute of Radio Metrology and Measurement
Original Assignee
Beijing Institute of Radio Metrology and Measurement
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Institute of Radio Metrology and Measurement filed Critical Beijing Institute of Radio Metrology and Measurement
Priority to CN 201220430012 priority Critical patent/CN202794351U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN202794351U publication Critical patent/CN202794351U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Withdrawn - After Issue legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,该系统包括支架(1)、示波器(2)、第一探头(3)和第二探头(4);支架(1)包括底座(11)、转轴(12)、圆拱形的第一拱衬(131)、圆拱形的第二拱衬(132)、第一测试杆(141)、第二测试杆(142)、第一旋钮(151)、第二旋钮(152)、第一探头固定装置(161)和第二探头固定装置(162);第一探头(3)固定于第一测试杆(141)上,第二探头(4)固定于第二测试杆(142)上,且第一探头(3)和第二探头(4)与示波器(2)电连接。所述系统对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置的要求低,能够快速、准确地对瞬变电磁场的场均匀性进行校准。所述系统的支架既能用于支撑和固定探头,又能用于调节探头的位置和角度。所述系统的支架对探头位置和角度的调节精度高。

Description

一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统
技术领域
本实用新型涉及电磁场的场均匀性的校准技术领域,特别涉及一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统。
背景技术
对于射频电磁场,IEC61000系列标准给出了两种电磁场的场均匀性的校准方法,即恒定场强校准法和恒定功率校准法。恒定场强校准法是通过调整前向输出功率建立一个场强恒定的均匀场,然后用一个经校准的场强探头以指定的步长在每个频段对待测区域内的各个点进行测量。恒定功率校准法与之不同的是测量时保持前向输出功率恒定。
对于瞬变电磁场,MIL-STD-461F标准采用了上述恒定场强校准法。但是,恒定场强校准法存在以下不足:
(1)瞬变电磁场由脉冲信号源触发的单脉冲信号产生,为了获得恒定的电磁场,需要反复调节脉冲信号源的输出功率,因此必须既可以准确监测所用脉冲信号源的输出功率,又可以对所用脉冲信号源的输出功率进行微调,对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置的要求高;
(2)通常需要用高压探头监测脉冲信号源的输出功率,在实际应用中有时很难实现;
(3)校准时间较长,使用不方便。
对于瞬变电磁场,如果采用恒定功率校准法,也存在以下问题:
(1)需要脉冲信号源多次触发输出多个单脉冲信号,各个单脉冲信号的幅度很难完全保持一致,即存在脉冲信号源输出的各个单脉冲信号不稳定的问题,导致瞬变电磁场均匀性校准的准确度降低;
(2)对脉冲信号源输出稳定性的要求导致瞬变电磁场产生装置的成本较高。
用于校准瞬变电磁场的场均匀性的系统通常需要测试多个位置。校准瞬变电磁场的场均匀性时,不但需要支架支撑和固定测试探头,而且需要通过支架调节测试探头的位置和角度。具体地,校准瞬变电磁场的场均匀性时,通常需要通过调节支架来改变固定有探头的测试杆的角度和长度,甚至需要通过调节支架实现测试杆绕固定轴的转动。现有技术中的支架都不能直接实现上述功能,因此在用于校准瞬变电磁场的场均匀性时非常不便。
目前,非常需要一种对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置要求低、快速、准确且低成本的瞬变电磁场的场均匀性的校准系统。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统。
本实用新型提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统包括支架、示波器、第一探头和第二探头;
所述支架包括底座、转轴、圆拱形的第一拱衬、圆拱形的第二拱衬、第一测试杆、第二测试杆、第一旋钮、第二旋钮、第一探头固定装置和第二探头固定装置;
所述第一探头固定于所述第一测试杆上,所述第二探头固定于所述第二测试杆上,且所述第一探头和所述第二探头与所述示波器电连接;
所述底座的上表面设有凸起,所述转轴固定于所述凸起上,所述第一拱衬和所述第二拱衬设于所述底座的上表面,且所述凸起和所述转轴穿过所述第一拱衬和所述第二拱衬的中空部分,所述第一拱衬所在的平面和所述第二拱衬所在的平面分别与所述底座的上表面垂直;
所述第一测试杆和所述第二测试杆的底端分别呈“h”字形,所述第一测试杆和所述第二测试杆的底端分别与所述转轴铰接,且所述第一测试杆和所述第二测试杆分别能够绕所述转轴转动,所述第一拱衬被设置为穿过所述第一测试杆的底端的缺口,所述第二拱衬被设置为穿过所述第二测试杆的底端的缺口;
所述第一拱衬上设有圆拱形的第一凹槽,所述第一旋钮上设有螺纹,所述第一测试杆底端的第二侧板上设有与所述第一旋钮配合的螺纹,所述第一旋钮穿过所述第一测试杆底端的第一侧板和所述第一凹槽与所述第一测试杆底端的第二侧板配合,通过旋紧所述第一旋钮能够使所述第一测试杆的位置固定;
所述第二拱衬上设有圆拱形的第二凹槽,所述第二旋钮上设有螺纹,所述第二测试杆底端的第四侧板上设有与所述第二旋钮配合的螺纹,所述第二旋钮穿过所述第二测试杆底端的第三侧板和所述第二凹槽与所述第二测试杆底端的第四侧板配合,通过旋紧所述第二旋钮能够使所述第二测试杆的位置固定;
所述第一探头固定装置设于所述第一测试杆上;所述第二探头固定装置设于所述第二测试杆上,所述第一探头固定装置能够沿所述第一测试杆自由滑动,所述第二探头固定装置能够沿所述第二测试杆自由滑动,所述第一探头固定装置上设有第三旋钮,所述第二探头固定装置上设有第四旋钮,通过旋紧所述第三旋钮能够使所述第一探头固定装置的位置固定,通过旋紧所述第四旋钮能够使所述第二探头固定装置的位置固定。
优选地,所述第一拱衬和所述第二拱衬上分别设有角度刻度。
优选地,所述第一测试杆的底端设有第一角度观察窗,所述第二测试杆的底端设有第二角度观察窗。
优选地,所述第一测试杆和所述第二测试杆上分别设有长度刻度。
优选地,所述第一探头固定装置上设有第一长度观察窗,所述第二探头固定装置上设有第二长度观察窗。
优选地,所述凸起呈圆拱形。
本实用新型具有如下有益效果:
(1)所述系统对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置的要求低,能够快速、准确地对瞬变电磁场的场均匀性进行校准;
(2)所述系统的支架不仅能够用于支撑和固定探头,而且能够用于调节探头的位置和角度;
(3)所述系统的支架对探头的位置和角度的调节精度高;
(4)所述系统制作成本低,使用方便。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统的示意图;
图2为本实用新型实施例的支架1的第一拱衬的示意图;
图3为本实用新型实施例的支架1的第二拱衬的示意图;
图4为本实用新型实施例的支架1的第一测试杆的侧视图;
图5为本实用新型实施例的支架1的第一测试杆的正视图;
图6为本实用新型实施例的支架1的第二测试杆的侧视图;
图7为本实用新型实施例的支架1的第二测试杆的正视图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型的内容作进一步的描述。
本实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统包括支架1、示波器2、第一探头3和第二探头4,如图1所示。支架1包括底座11、转轴12、圆拱形的第一拱衬131、圆拱形的第二拱衬132、第一测试杆141、第二测试杆142、第一旋钮151、第二旋钮152、第一探头固定装置161和第二探头固定装置162。第一探头3固定于第一测试杆141上,第二探头4固定于第二测试杆142上,且第一探头3和第二探头4与示波器2电连接,如图1所示。
底座11的上表面设有凸起17,转轴12固定于凸起17上,如图1所示。在本实施例中,凸起17呈例如圆拱形。第一拱衬131和第二拱衬132设于底座11的上表面,且凸起17和转轴12穿过第一拱衬131和第二拱衬132的中空部分,第一拱衬131所在的平面和第二拱衬132所在的平面分别与底座11的上表面垂直。第一测试杆141和第二测试杆142的底端分别呈“h”字形,如图4和图6所示。第一测试杆141和第二测试杆142的底端分别与转轴12铰接,且第一测试杆141和第二测试杆142分别能够绕转轴12转动。第一拱衬131被设置为穿过例如第一测试杆141的底端的缺口1412;第二拱衬132被设置为穿过例如第二测试杆142的底端的缺口1422。第一拱衬131上设有圆拱形的第一凹槽1311,如图1和图2所示。第一旋钮151上设有螺纹,第一测试杆141底端的第二侧板1414上设有与第一旋钮151配合的螺纹。第一旋钮151穿过第一测试杆141底端的第一侧板1413和第一凹槽1311与第一测试杆41底端的第二侧板414配合,通过旋紧第一旋钮51能够使第一测试杆41的位置固定。第二拱衬132上设有圆拱形的第二凹槽1321,如图1和图3所示。第二旋钮152上设有螺纹,第二测试杆142底端的第四侧板1424上设有与第二旋钮152配合的螺纹。第二旋钮152穿过第二测试杆142底端的第三侧板1423和第二凹槽1321与第二测试杆142底端的第四侧板1424配合,通过旋紧第二旋钮152能够使第二测试杆142的位置固定。
第一探头固定装置161设于第一测试杆141上;第二探头固定装置162设于第二测试杆142上,如图1所示。第一探头固定装置161能够沿第一测试杆141自由滑动;第二探头固定装置162能够沿第二测试杆142自由滑动。第一探头固定装置161上设有例如第三旋钮1611;第二探头固定装置162上设有例如第四旋钮1621,如图5和图7所示。通过旋紧第三旋钮1611能够使第一探头固定装置161的位置固定;通过旋紧第四旋钮1621能够使第二探头固定装置162的位置固定。在本实施例中,第一探头固定装置161用于固定例如测试探头181,第二探头固定装置162用于固定例如参考探头182。
在本实施例中,第一拱衬131和第二拱衬132上分别设有角度刻度。如图5和图7所示,第一测试杆141的底端设有例如第一角度观察窗1411,第二测试杆142的底端设有例如第二角度观察窗1421,用于观察角度刻度值。第一测试杆141和第二测试杆142上分别设有长度刻度。第一探头固定装置161上设有第一长度观察窗1612,第二探头固定装置162上设有第二长度观察窗1622,用于观察长度刻度。
在本实施例中,第一探头3和第二探头4都通过例如光纤与示波器2电连接。第一探头3和第二探头4用于感测电磁场的场强。示波器2用于测量第一探头3和/或第二探头4的输出以计算场强值。
所述系统对包括脉冲信号源在内的瞬变电磁场产生装置的要求低,能够快速、准确地对瞬变电磁场的场均匀性进行校准;所述系统的支架不仅能够用于支撑和固定探头,而且能够用于调节探头的位置和角度;所述系统的支架对探头的位置和角度的调节精度高;所述系统制作成本低,使用方便。
应当理解,以上借助优选实施例对本实用新型的技术方案进行的详细说明是示意性的而非限制性的。本领域的普通技术人员在阅读本实用新型说明书的基础上可以对实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (6)

1.用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,其特征在于,
该系统包括支架(1)、示波器(2)、第一探头(3)和第二探头(4);
所述支架(1)包括底座(11)、转轴(12)、圆拱形的第一拱衬(131)、圆拱形的第二拱衬(132)、第一测试杆(141)、第二测试杆(142)、第一旋钮(151)、第二旋钮(152)、第一探头固定装置(161)和第二探头固定装置(162);
所述第一探头(3)固定于所述第一测试杆(141)上,所述第二探头(4)固定于所述第二测试杆(142)上,且所述第一探头(3)和所述第二探头(4)与所述示波器(2)电连接;
所述底座(11)的上表面设有凸起(17),所述转轴(12)固定于所述凸起(17)上,所述第一拱衬(131)和所述第二拱衬(132)设于所述底座(11)的上表面,且所述凸起(17)和所述转轴(12)穿过所述第一拱衬(131)和所述第二拱衬(132)的中空部分,所述第一拱衬(131)所在的平面和所述第二拱衬(132)所在的平面分别与所述底座(11)的上表面垂直;
所述第一测试杆(141)和所述第二测试杆(142)的底端分别呈“h”字形,所述第一测试杆(141)和所述第二测试杆(142)的底端分别与所述转轴(12)铰接,且所述第一测试杆(141)和所述第二测试杆(142)分别能够绕所述转轴(12)转动,所述第一拱衬(131)被设置为穿过所述第一测试杆(141)的底端的缺口(1412),所述第二拱衬(132)被设置为穿过所述第二测试杆(142)的底端的缺口(1422);
所述第一拱衬(131)上设有圆拱形的第一凹槽(1311),所述第一旋钮(151)上设有螺纹,所述第一测试杆(141)底端的第二侧板(1414)上设有与所述第一旋钮(151)配合的螺纹,所述第一旋钮(151)穿过所述第一测试杆(141)底端的第一侧板(1413)和所述第一凹槽(1311)与所述第一测试杆(141)底端的第二侧板(1414)配合,通过旋紧所述第一旋钮(151)能够使所述第一测试杆(141)的位置固定;
所述第二拱衬(132)上设有圆拱形的第二凹槽(1321),所述第二旋钮(152)上设有螺纹,所述第二测试杆(142)底端的第四侧板(1424)上设有与所述第二旋钮(152)配合的螺纹,所述第二旋钮(152)穿过所述第二测试杆(142)底端的第三侧板(1423)和所述第二凹槽(1321)与所述第二测试杆(142)底端的第四侧板(1424)配合,通过旋紧所述第二旋钮(152)能够使所述第二测试杆(142)的位置固定;
所述第一探头固定装置(161)设于所述第一测试杆(141)上;所述第二探头固定装置(162)设于所述第二测试杆(142)上,所述第一探头固定装置(161)能够沿所述第一测试杆(141)自由滑动,所述第二探头固定装置(162)能够沿所述第二测试杆(142)自由滑动,所述第一探头固定装置(161)上设有第三旋钮(1611),所述第二探头固定装置(162)上设有第四旋钮(1621),通过旋紧所述第三旋钮(1611)能够使所述第一探头固定装置(161)的位置固定,通过旋紧所述第四旋钮(1621)能够使所述第二探头固定装置(162)的位置固定。
2.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,其特征在于,所述第一拱衬(131)和所述第二拱衬(132)上分别设有角度刻度。
3.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,其特征在于,所述第一测试杆(141)的底端设有第一角度观察窗(1411),所述第二测试杆(142)的底端设有第二角度观察窗(1421)。
4.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,其特征在于,所述第一测试杆(141)和所述第二测试杆(142)上分别设有长度刻度。
5.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,其特征在于,所述第一探头固定装置(161)上设有第一长度观察窗(1612),所述第二探头固定装置(162)上设有第二长度观察窗(1622)。
6.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统,其特征在于,所述凸起(17)呈圆拱形。
CN 201220430012 2012-08-27 2012-08-27 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统 Withdrawn - After Issue CN202794351U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201220430012 CN202794351U (zh) 2012-08-27 2012-08-27 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201220430012 CN202794351U (zh) 2012-08-27 2012-08-27 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN202794351U true CN202794351U (zh) 2013-03-13

Family

ID=47821593

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201220430012 Withdrawn - After Issue CN202794351U (zh) 2012-08-27 2012-08-27 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN202794351U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102830290A (zh) * 2012-08-27 2012-12-19 北京无线电计量测试研究所 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102830290A (zh) * 2012-08-27 2012-12-19 北京无线电计量测试研究所 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102841263B (zh) 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的装置
CN103117444B (zh) 场强天线弧形导轨角度调整测试架
CN104006949A (zh) 一种透过率检测设备
CN102830290B (zh) 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统
CN202794351U (zh) 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的带支架的系统
CN102865854A (zh) 一种倾斜角度测量装置
CN202794354U (zh) 用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的新型系统
CN102830289B (zh) 用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的新型系统
CN105783847B (zh) 一种角位移传感器校准装置
CN102830293A (zh) 快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法及系统
CN202794352U (zh) 一种用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的系统
CN202794350U (zh) 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的装置
CN103308230A (zh) 测量装置
CN202794349U (zh) 用于校准瞬变电磁场场均匀性的系统
CN102840427A (zh) 一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架
CN205037855U (zh) 筒体棱角度测量装置
CN102830292B (zh) 一种用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的系统
CN209895619U (zh) 一种基于容栅传感器的智能化杨氏模量实验仪
CN104569893A (zh) 一种电磁辐射计校准装置及方法
CN102830291B (zh) 用于校准瞬变电磁场场均匀性的系统
CN103278122A (zh) 新型纱线毛羽测试装置
CN208937486U (zh) 用于陶瓷砖胶粘剂的检测装置以及材料检测系统
CN204405049U (zh) 一种角位移传感器校准装置
CN205209531U (zh) 一种高精度胶囊检测器
CN202648915U (zh) 显示模组视角测量仪

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
AV01 Patent right actively abandoned

Granted publication date: 20130313

Effective date of abandoning: 20140625

RGAV Abandon patent right to avoid regrant