CN202766617U - 衬底支撑结构、含有上述衬底支撑结构的反应腔室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种衬底支撑结构和含有上述衬底支撑结构的反应腔室，所述衬底支撑结构包括：衬底支撑盘和圆筒状旋转体，所述圆筒状旋转体竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状旋转体的顶端；所述圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽之间能够进行相对运动或所述支撑件凹槽与支撑盘突起之间能够进行相对运动，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体。本实用新型解决了放置衬底的衬底支撑盘在转动过程中容易飞出去、转动不稳定的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积(CVD)技术领域，特别涉及衬底支撑结构和含有上述衬底支撑结构的反应腔室。
背景技术
MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种化学气相外延沉积工艺。它以III族、II族元素的有机化合物和V、VI族元素的氢化物等作为晶体生长的源材料，以热分解反应方式在衬底上进行沉积工艺，生长各种III-V族、II-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。
下面对现有的化学气相沉积工艺的原理进行说明。具体地，请参考图1所示的现有的MOCVD设备的反应腔室的结构示意图。
反应腔室10内形成有相对设置的喷淋头11和衬底支撑盘12。所述喷淋头11内可以设置多个通孔，所述喷淋头11用于提供反应气体。所述衬底支撑盘12的材质通常为石墨，所述衬底支撑盘12的正面(即所述衬底支撑盘12的朝向喷淋头11一侧的表面)用于放置衬底121。所述衬底支撑盘12的背面(即所述衬底支撑盘12的远离所述喷淋头11一侧的表面)下方还形成有加热单元13，所述加热单元13对衬底支撑盘12进行加热。为了保证衬底121的受热均匀性和沉积的外延材料层的均匀性，所述衬底支撑盘12在MOCVD工艺过程中会以一定的速度进行围绕一轴线进行旋转运动，所述轴线为衬底支撑盘12的正面的中垂线。在MOCVD工艺结束后，所述衬底支撑盘12连同上方的衬底121从反应腔室10中取出。
在实际中发现，现有的衬底支撑盘在转动过程中不稳定，尤其是在转动的起始和结束阶段，衬底支撑盘容易飞出去。
实用新型内容
本实用新型实施例解决的问题是提供了衬底支撑结构，解决了放置衬底的衬底支撑盘在转动过程中容易飞出去、转动不稳定的问题。
为了解决上述问题，本实用新型提供一种衬底支撑结构，包括：衬底支撑盘和圆筒状旋转体，所述圆筒状旋转体竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状旋转体的顶端；所述圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽之间能够进行相对运动或所述支撑件凹槽与支撑盘突起之间能够进行相对运动，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体。
可选地，所述支撑件突起或支撑件凹槽包括第一支撑件突起或支撑件凹槽和第二支撑件突起或支撑件凹槽，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽可以相对所述第二支撑件突起或支撑件凹槽运动，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽相对所述第二支撑件突起或支撑件凹槽运动沿第一方向运动时，使得所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体；所述第一支撑件突起或支撑件凹槽相对所述第二支撑件突起或支撑件凹槽沿与第一方向相反的第二方向运动时，使得所述衬底支撑盘从所述圆筒状旋转体松开。
可选地，所述支撑盘凹槽或支撑盘突起固定于所述衬底支撑盘上。
可选地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成第一卡合结构，所述第一卡合结构在所述第一支撑件突起或支撑件凹槽相对所述衬底支撑盘沿第一方向运动时卡合；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述衬底支撑盘上的支撑盘凹槽或支撑盘突起构成第二卡合结构，所述第二卡合结构在所述第二支撑盘突起或支撑盘凹槽相对所述衬底支撑盘沿第二方向运动时卡合。
可选地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽为第一支撑件突起，所述第一支撑件突起具有位于第一方向一侧的第一侧面，所述第一侧面向第一方向倾斜。
可选地，所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件突起，所述第二支撑件突起具有位于第二方向一侧的第二侧面，所述第二侧面向第二方向倾斜。
可选地，所述第一支撑件突起或第二支撑件突起的形状为三角形、菱形或梯形。
可选地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽为第一支撑件凹槽，所述第一支撑件凹槽具有位于第一方向一侧的第一侧面，所述第一侧面向第二方向倾斜。
可选地，所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件凹槽，所述第二支撑件凹槽具有位于第二方向一侧的第二侧面，所述第二侧面向第一方向倾斜。
可选地，所述第一支撑件凹槽或第二支撑件凹槽的形状为三角形、菱形或梯形。
可选地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成定位结构，所述定位结构用于限定所述第一支撑盘突起或支撑盘凹槽相对所述衬底支撑盘沿第一方向的运动；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成卡合结构，所述卡合结构在所述第二支撑件突起或支撑件凹槽相对所述衬底支撑盘沿所述第二方向运动时卡合。
可选地，所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件突起，所述第二支撑件突起具有位于第二方向一侧的侧面，所述侧面向第二方向倾斜。
可选地，所述第二支撑件突起的形状为三角形、菱形或梯形。
可选地，所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件凹槽，所述支撑件突起具有位于第一方向一侧的侧面，所述侧面向第二方向倾斜。
可选地，所述支撑件凹槽的形状为三角形、菱形或梯形。
可选地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽为第一支撑件突起，所述第一支撑件突起的形状矩形或柱状。
可选地，所述圆筒状旋转体包括第一圆筒状旋转体和与之配合的第二圆筒状旋转体，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽设置在所述第一圆筒状旋转体；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽设置在所述第二圆筒状旋转体。
可选地，所述第一圆筒状旋转体嵌套于第二圆筒状旋转体。
可选地，所述第一圆筒状旋转体能够相对所述第二圆筒状旋转体转动。
可选地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述第一圆筒状旋转体一体成型；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述第二圆筒状旋转体一体成型。
可选地，本实用新型还提供一种化学气相沉积设备的反应腔室，包括所述的衬底支撑结构。
与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：
本实用新型的圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，通过与所述支撑件突起或支撑件凹槽配合的支撑盘凹槽或支撑盘突起，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体上，从而与现有技术利用支撑柱将衬底支撑盘固定、衬底支撑盘不稳定相比，支撑件突起与支撑盘凹槽的相互运动或支撑件凹槽与支撑盘突起的相互运动，使得衬底支撑盘与圆筒状旋转体的位置关系更加稳定，并且由于衬底支撑盘中部的下方没有了原先的支撑柱，可以改善衬底支撑盘中部的加热的均匀度；
进一步优化地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成定位结构，所述定位结构用于限定所述第一支撑盘突起或支撑盘凹槽相对所述衬底支撑盘沿第一方向的运动；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成卡合结构，所述卡合结构在所述第二支撑件突起或支撑件凹槽相对所述衬底支撑盘沿所述第二方向运动时卡合。所述圆筒状旋转体包括第一圆筒状旋转体和第二圆筒状旋转体，通过调整第一圆筒状旋转体上的第一突起和第二圆筒状旋转体上的第二突起之间的相对位置关系，使得圆筒状旋转体分别能够位于放松位置和锁定位置，在放松位置时，能够灵活的将衬底支撑盘放置于支撑结构上或将衬底支撑盘与支圆筒状旋转体松开(以便于将转盘与支撑结构分离)，在锁定位置时，能够将衬底支撑盘固定在圆筒状旋转体上，从而对衬底支撑盘的固定更加牢固，进一步减小了在衬底支撑盘转动过程中不稳定的可能性。
附图说明
图1是现有的MOCVD设备的反应腔室的结构示意图；
图2是现有的衬底支撑盘及其支撑柱的结构示意图；
图3是本实用新型一个实施例的衬底支撑结构的结构示意图；
图4图3所示的圆筒状旋转体的结构示意图；
图5是图4所示的第一圆筒状支撑体的第一突起的结构示意图；
图6是图4所示的第二圆筒状支撑体的第二突起的结构示意图。
具体实施方式
现有的衬底支撑盘在转动过程中不稳定，容易飞出去。经过发明人研究发现，由于现有的衬底支撑盘的下方通常设置支撑柱，利用该支撑柱带动衬底支撑盘进行转动。具体地，请结合图2所示的现有技术的衬底支撑盘及其支撑柱的结构示意图。衬底支撑盘12下方具有支撑柱14，所述支撑柱14的面积小于衬底支撑盘12的背面的面积。支撑柱14将衬底支撑盘12固定，并且衬底支撑盘12能够在衬底支撑盘14的带动下进行转动，所述转动围绕衬底支撑盘12和支撑柱14的相接触的表面的中垂线进行。在转动过程中衬底支撑盘容易摇晃不稳，并且在转动的起始阶段和结束阶段，容易造成衬底支撑盘飞出的情况。并且由于支撑柱的存在也影响了对衬底支撑盘的加热的均匀性。
为了解决上述问题，本实用新型提出一种衬底支撑结构，包括：衬底支撑盘和圆筒状旋转体，所述圆筒状旋转体竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状旋转体的顶端；所述圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽之间能够进行相对运动或所述支撑件凹槽与支撑盘突起之间能够进行相对运动，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体。本实用新型所述的衬底支撑结构用于在半导体设备的反应腔室中，所述半导体设备可以为沉积设备、刻蚀设备等，所述沉积设备可以为化学气相沉积设备。本实用新型将以衬底支撑结构应用于MOCVD设备的反应腔室为例进行说明。
为了更好地说明本实用新型的技术方案，请参考图3所示的本实用新型一个实施例的衬底支撑结构的结构示意图。衬底支撑结构包括衬底支撑盘100和圆筒状旋转体200，所述圆筒状旋转体200用于支撑所述衬底支撑盘100，并且将衬底支撑盘100锁紧。
作为一个实施例，所述圆筒状旋转体200包括第一圆筒状旋转体201和与之配合的第二圆筒状旋转体202。所述第一圆筒状旋转体201嵌套于所述第二圆筒状旋转体202内。所述第一圆筒状旋转体201能够相对于所述第二圆筒状旋转体202进行转动。
为了能够将衬底支撑盘100锁紧，第一圆筒状旋转体201和/或第二圆筒状旋转体202的顶部设置有支撑件突起或支撑件凹槽。
作为本实用新型的一个实施例，所述第一圆筒状旋转体201和第二圆筒状旋转体202的顶部均设置有支撑件突起，所述支撑件突起可以与对应的所述第一圆筒状旋转体201或所述第二圆筒状旋转体202一体成型或两者可以相互分离。作为本实用新型的又一实施例，所述第一圆筒状旋转体201和第二圆筒状旋转体202的顶部均设置有支撑件凹槽，所述支撑件凹槽与对应的所述第一圆筒状旋转体201和第二圆筒状旋转体202一体成型或两者可以相互分离。作为本实用新型的再一实施例，所述第一圆筒状旋转体201和第二圆筒状旋转体202中的一个上设置有支撑件突起，另一个上设置有支撑件凹槽，该支撑件突起或支撑件凹槽可以与对应的圆筒状旋转体结合为一体或两者可以相互分离。
仍然参考图3并且结合图4，图4为图3所示的圆筒状旋转体的结构示意图。作为本实用新型的一个实施例，所述第一圆筒状旋转体201的顶部设置有第一支撑件突起2011，两者结合为一体；所述第二圆筒状旋转体202的顶部设置有第二支撑件突起2021，两者结合为一体。通过第一圆筒状旋转体201和第二圆筒状旋转体202之间的旋转运动，使得所述第一支撑件突起2011能够相对第二支撑件突起2021进行运动。当所述第一支撑件突起2011相对于第二支撑件突起2021沿所述第一方向运动时，能够将衬底支撑盘100锁紧于圆筒状旋转体200上；当所述第一支撑件突起2011相对于第二支撑件突起2021沿所述第二方向运动时，使得所述衬底支撑盘100与所述圆筒状旋转体200松开，以便于将衬底支撑盘100与所述圆筒状旋转体200分离。
下面请参考图4并结合图5，图5为图4所示第一圆筒状支撑体的第一突起的结构示意图。所述第一支撑件突起2011具有位于第二方向的第一侧面2012，且所述第一侧面2012朝向所述第一方向倾斜。本实施例中，所述第一支撑件突起2011的形状为菱形。在其他的实施例中，所述第一支撑件突起2011的形状还可以为梯形、长方形、三角形等。
请参考图4并结合图6，图6为图4所示的第二圆筒状支撑体的第二突起的结构示意图。所述第二支撑件突起2021具有位于第二方向的第二侧面2022，且所述第二侧面2022朝向第二方向倾斜。本实施例中，所述第二支撑件突起2021的形状为菱形。在其他的实施例中，所述第一支撑件突起2011的形状还可以为梯形、长方形、三角形等。
图4～图6中详细示出了圆筒状旋转体200的结构，为了实现将衬底支撑盘锁定于圆筒状旋转体200上，还需要在衬底支撑盘上对应设置支撑盘凹槽或支撑盘突起。
下面将对衬底支撑盘及其支撑盘凹槽或支撑盘突起的结构进行说明。具体地，请参考图3，衬底支撑盘100的上表面用于放置衬底，所述衬底支撑盘100的上方还具有与之对应的喷淋头(图中未示出)，所述喷淋头用于向所述衬底支撑盘100提供气体。所述衬底支撑盘100的下表面(图中未标出)具有环状凸缘102。作为一个实施例，所述环状凸缘102环绕所述衬底支撑盘100的下表面的外侧一周。所述环状凸缘102可以与衬底支撑盘100一体成型或两者可以相互松开。本实施例中，所述环状凸缘102与所述衬底支撑盘100一体成型。
所述环状凸缘102朝向圆筒状旋转体200的一侧设置有支撑盘凹槽或支撑盘突起。所述支撑盘凹槽或支撑盘突起固定于环状凸缘102上。作为本实用新型的一个实施例，所述环状凸缘102上设置有支撑盘凹槽1021，该支撑盘凹槽1021的形状和尺寸与圆筒状旋转体200上的支撑件突起的形状对应，两者配合将衬底支撑盘100固定于圆筒状旋转体200上。本实施例中，所述支撑盘凹槽1021的形状为等腰梯形。所述支撑盘凹槽1021与第一支撑件突起2011和第二支撑件突起2021配合，所述第一支撑件突起2011与支撑盘凹槽1021构成第一卡合结构，所述第二支撑件突起2021与支撑盘凹槽1021构成第二卡合结构，第一支撑件突起2011与第二支撑件突起2021之间以及两者与支撑盘凹槽1021相对运动。当所述第一支撑件突起2011相对所述衬底支撑盘100沿第一方向运动时，所述第一卡合机构卡合，反之，当所述第一支撑件突起2011相对所述衬底支撑盘100沿第二方向运动时，所述第一卡和机构松开；当所述第二支撑件突起2021相对所述衬底支撑盘100沿第二方向运动时，所述第二卡合机构卡合；反之，当所述第二支撑件2021相对所述衬底支撑盘100沿第一方向运动时，所述第二卡合机构松开。当所述第一卡和机构和第二结构均卡合时，所述衬底支撑盘100锁紧于所述圆筒状旋转体200上；当所述第一卡合机构和第二卡合机构中有一个松开时，所述衬底支撑盘100从所述圆筒状旋转体200上松开，从而能够实现衬底支撑盘100与所述圆筒状旋转体200的分离。
在本实用新型的其他实施例中，圆筒状旋转体上包括第一支撑件突起和第二支撑件突起，衬底支撑盘上设置有支撑件凹槽，所述第一支撑件突起还可以与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成定位结构，所述定位结构用于限定所述第一支撑盘突起相对所述衬底支撑盘沿第一方向的运动；所述第二支撑件突起与所述支撑盘凹槽构成卡合结构，所述卡合结构在所述第二支撑件突起相对所述衬底支撑盘沿所述第二方向运动时卡合。所述第一支撑件突起可以为柱状结构。
本实用新型利用在衬底支撑盘与圆筒状旋转体之间的突起与凹槽之间配合，将衬底支撑盘锁紧与圆筒状旋转体，图3仅以圆筒状旋旋转体上形成第一支撑件突起和第二支撑件突起、衬底支撑盘上对应形成有支撑盘凹槽为例进行说明，在实际中，只要能够保证衬底支撑盘上的支撑盘突起或支撑盘凹槽在圆筒状旋转体上具有对应的支撑件凹槽或支撑件突起的情况下，衬底支撑盘上也可以形成支撑盘突起或同时形成有支撑盘突起和支撑盘凹槽，圆筒状旋转体上可以形成支撑件凹槽或同时形成有支撑件凹槽和支撑件突起，本领域技术人员可以进行灵活的选择。并且，支撑件凹槽或支撑件突起的形状、位置和分布可以其他的选择，在此不作一一列举。
综上，本实用新型的圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，通过与所述支撑件突起或支撑件凹槽配合的支撑盘凹槽或支撑盘突起，将所述支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体上，从而与现有技术利用支撑柱将衬底支撑盘固定、衬底支撑盘不稳定相比，支撑件突起与支撑盘凹槽的相互运动或支撑件凹槽与支撑盘突起的相互运动，使得衬底支撑盘与圆筒状旋转体的位置关系更加稳定，并且由于衬底支撑盘中部的下方没有了原先的支撑柱，可以改善衬底支撑盘中部的加热的均匀度；
进一步优化地，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成定位结构，所述定位结构用于限定所述第一支撑盘突起或支撑盘凹槽相对所述衬底支撑盘沿第一方向的运动；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成卡合结构，所述卡合结构在所述第二支撑件突起或支撑件凹槽相对所述衬底支撑盘沿所述第二方向运动时卡合。所述支撑结构包括第一圆筒状旋转体和第二圆筒状旋转体，通过调整第一圆筒状旋转体上的第一突起和第二圆筒状旋转体上的第二突起之间的相对位置关系，使得支撑结构分别能够位于放松位置和锁定位置，在放松位置时，能够灵活的将转盘放置于支撑结构上或将转盘与支撑结构松开，在锁定位置时，能够将转盘固定在支撑结构上。
虽然本实用新型已以较佳实施例披露如上，但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
Claims (21)
1.一种衬底支撑结构，包括：衬底支撑盘和圆筒状旋转体，所述圆筒状旋转体竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状旋转体的顶端；其特征在于：所述圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽之间能够进行相对运动或所述支撑件凹槽与支撑盘突起之间能够进行相对运动，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体。
2.如权利要求1所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述支撑件突起或支撑件凹槽包括第一支撑件突起或支撑件凹槽和第二支撑件突起或支撑件凹槽，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽可以相对所述第二支撑件突起或支撑件凹槽运动，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽相对所述第二支撑件突起或支撑件凹槽运动沿第一方向运动时，使得所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体；所述第一支撑件突起或支撑件凹槽相对所述第二支撑件突起或支撑件凹槽沿与第一方向相反的第二方向运动时，使得所述衬底支撑盘从所述圆筒状旋转体松开。
3.如权利要求2所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述支撑盘凹槽或支撑盘突起固定于所述衬底支撑盘上。
4.如权利要求2所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成第一卡合结构，所述第一卡合结构在所述第一支撑件突起或支撑件凹槽相对所述衬底支撑盘沿第一方向运动时卡合；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述衬底支撑盘上的支撑盘凹槽或支撑盘突起构成第二卡合结构，所述第二卡合结构在所述第二支撑盘突起或支撑盘凹槽相对所述衬底支撑盘沿第二方向运动时卡合。
5.如权利要求4所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或支撑件凹槽为第一支撑件突起，所述第一支撑件突起具有位于第一方向一侧的第一侧面，所述第一侧面向第一方向倾斜。
6.如权利要求4所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件突起，所述第二支撑件突起具有位于第二方向一侧的第二侧面，所述第二侧面向第二方向倾斜。
7.如权利要求5或6所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或第二支撑件突起的形状为三角形、菱形或梯形。
8.如权利要求4所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或支撑件凹槽为第一支撑件凹槽，所述第一支撑件凹槽具有位于第一方向一侧的第一侧面，所述第一侧面向第二方向倾斜。
9.如权利要求4所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件凹槽，所述第二支撑件凹槽具有位于第二方向一侧的第二侧面，所述第二侧面向第一方向倾斜。
10.如权利要求8或9所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件凹槽或第二支撑件凹槽的形状为三角形、菱形或梯形。
11.如权利要求2所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成定位结构，所述定位结构用于限定所述第一支撑盘突起或支撑盘凹槽相对所述衬底支撑盘沿第一方向的运动；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述支撑盘凹槽或支撑盘突起构成卡合结构，所述卡合结构在所述第二支撑件突起或支撑件凹槽相对所述衬底支撑盘沿所述第二方向运动时卡合。
12.如权利要求11所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件突起，所述第二支撑件突起具有位于第二方向一侧的侧面，所述侧面向第二方向倾斜。
13.如权利要求12所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第二支撑件突起的形状为三角形、菱形或梯形。
14.如权利要求11所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第二支撑件突起或支撑件凹槽为第二支撑件凹槽，所述支撑件突起具有位于第一方向一侧的侧面，所述侧面向第二方向倾斜。
15.如权利要求14所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述支撑件凹槽的形状为三角形、菱形或梯形。
16.如权利要求11所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或支撑件凹槽为第一支撑件突起，所述第一支撑件突起的形状矩形或柱状。
17.如权利要求2至6、8至9、和11至16中任一项所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述圆筒状旋转体包括第一圆筒状旋转体和与之配合的第二圆筒状旋转体，所述第一支撑件突起或支撑件凹槽设置在所述第一圆筒状旋转体；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽设置在所述第二圆筒状旋转体。
18.如权利要求17所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一圆筒状旋转体嵌套于第二圆筒状旋转体。
19.如权利要求18所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一圆筒状旋转体能够相对所述第二圆筒状旋转体转动。
20.如权利要求17所述的衬底支撑结构，其特征在于：所述第一支撑件突起或支撑件凹槽与所述第一圆筒状旋转体一体成型；所述第二支撑件突起或支撑件凹槽与所述第二圆筒状旋转体一体成型。
21.一种化学气相沉积设备的反应腔室，其特征在于，包括如权利要求1所述的衬底支撑结构。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104046961A (zh) * | 2013-03-11 | 2014-09-17 | 灿美工程股份有限公司 | 衬底支撑器以及包含所述衬底支撑器的衬底处理设备 |
| CN105814243A (zh) * | 2013-12-19 | 2016-07-27 | Lpe公司 | 具有在基底支撑件上的弯曲的同心凹槽的衬托器 |
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2012
- 2012-08-28 CN CN 201220429481 patent/CN202766617U/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN104046961A (zh) * | 2013-03-11 | 2014-09-17 | 灿美工程股份有限公司 | 衬底支撑器以及包含所述衬底支撑器的衬底处理设备 |
| CN104046961B (zh) * | 2013-03-11 | 2016-11-23 | 灿美工程股份有限公司 | 衬底支撑器以及包含所述衬底支撑器的衬底处理设备 |
| CN105814243A (zh) * | 2013-12-19 | 2016-07-27 | Lpe公司 | 具有在基底支撑件上的弯曲的同心凹槽的衬托器 |
| CN105814243B (zh) * | 2013-12-19 | 2019-09-13 | Lpe公司 | 具有在基底支撑件上的弯曲的同心凹槽的衬托器 |
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