CN202752263U - 一体式高压水清洗系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种一体式高压水清洗系统，包括机架，机架上装置动力机构，动力机构连接高压泵，机架上还装置储水箱，储水箱的出水口通过管道与所述高压泵的进水口相连接，在机架上还装置变频控制器，变频控制器与动力机构连接。本实用新型结构精简，安装操作方便，具有占用面积小，能耗低的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及水清洗设备，尤其涉及一种一体式高压水清洗系统。
背景技术
现有技术中，半导体封装后在其表面会残留一种注胶残余体，需要通过手工清理或用高压水来进行清洗，如若采用人工方式用手清洗的话，费时费力，增加人力成本。利用高压水来进行清洗就需要用到高压水清晰装置，传统的高压水清晰装置在外部还接有独立的水箱，由水箱利用增压泵将水打到过滤器后通过高压泵来提升压力，在操作过程中还需要人工来调节高压泵的压力，费时费力，并且多个系统组件占用面积大，能耗高，大大提高了清洗成本。
实用新型内容
本申请人针对上述现有生产中这些缺点，提供一种结构精简，安装操作方便的一体式高压水清洗系统，具有占用面积小，能耗低的优点。
本实用新型所采用的技术方案如下：
一种一体式高压水清洗系统,包括机架，机架上装置动力机构，动力机构连接高压泵，机架上还装置储水箱，储水箱的出水口通过管道与所述高压泵的进水口相连接，在机架上还装置变频控制器，变频控制器与动力机构连接。
其进一步特征在于：
于底板的下端四个角部还装置减震器；
所述水箱的出水口高于高压泵的进水口。
本实用新型的有益效果如下：
本实用新型通过将各系统部件组合，整合安装于机架内，大大降低了整体式设备的占用空间，同时在机架上还增设了减震器，降低了本实用新型在工作时产生的机械动能及共振传导，有效的提高了设备的使用寿命，同时通过变频控制器控制马达转速频率，马达的转速频率决定了高压泵的水压，通过带自控能力的压力显示表能准确的显示压力数值，使操作人员清楚直观的进行控制，同时大大提高了工作效率，通过增设变频控制器也解决了以往需要人工来调节高压泵压力的问题，省时省力。
附图说明
图1为本实用新型的主视图。
图2为图1的左视图。
图3为图1的右视图。
图4为图1的俯视图。
图5为本实用新型的立体结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图，说明本实用新型的具体实施方式。
如图1至图5所示，本实用新型包括机架2，机架2为一矩形框架体，位于两机架2之间连接底板7，于底板7上装置动力机构4，动力机构为马达4。如图2、图3所示，马达4通过联轴器13连接高压泵3，高压泵3上装置压力显示器1，位于马达4的一侧，在底板7上还装置储水箱10，储水箱10上装置过滤器11，储水箱10的出水口9通过输送管道8与高压泵3的进水口相连接，高压泵3的出水口与外部喷嘴或喷枪连接，如图2所示，水箱10的出水口低于高压泵3的进水口，防止水流动时有空气进入。在一侧机架2上还装置变频控制器5，变频控制器5与马达4连接。于两机架2之间还装置盖板12，盖板12保护内部零部件并防止灰尘进入。如图1、图2所示，位于底板7下端面的四个角部还装置减震器6，降低了各部件在工作时产生的机械动能及共振传导，。
本实用新型的具体工作过程如下：
于上述过滤器11的进水端连接水管（图中未示出），水进入水管后进入到过滤器，过滤器11负责过滤水中的杂质，以满足高压水的标准。经过过滤后的水进入到储水箱10内，储水箱10的内部通过液位浮球控制水位，当水位低于浮球液位时，会自动进水以达到水位标准。储水箱10的出水管通过输送管道与高压泵3的进水口连接，此时水进入高压泵3中，变频控制器5工作，控制马达4转速来控制水压力的输出，马达4通过联轴器控制高压泵3的转动，即马达的输出频率与高压泵内对水的压力形成正比，操作人员通过观察安装于高压泵3出水口上的压力显示器1里的数值，由此得知水压的高低；压力显示器上设有高压报警及低压报警显示功能，当压力设定完毕后，在高压泵出水口处外接喷嘴或喷枪，然后即可射出设有固定压力值的高压水，来进行清洗工作。
本实用新型通过将各系统部件组合，整合安装于机架内，大大降低了整体式设备的占用空间，同时在机架上还增设了减震器，降低了本实用新型在工作时产生的机械动能及共振传导，有效的提高了设备的使用寿命，同时通过变频控制器能控制水压，通过压力显示表能准确的显示压力数值，使操作人员清楚直观的进行控制，同时大大提高了工作效率，通过增设变频控制器也解决了以往需要人工来调节高压泵压力的问题，省时省力。
以上描述是对本实用新型的解释，不是对实用新型的限定，本实用新型所限定的范围参见权利要求，在不违背本实用新型的基本结构的情况下，本实用新型可以作任何形式的修改。
Claims (3)
1.一种一体式高压水清洗系统，其特征在于：包括机架（2），机架（2）上装置动力机构，动力机构连接高压泵（3），机架（2）上还装置储水箱（10），储水箱（10）的出水口通过管道与所述高压泵（3）的进水口相连接，在机架（2）上还装置变频控制器（5），变频控制器（5）与动力机构连接。
2.如权利要求1所述的一体式高压水清洗系统，其特征在于：于底板的下端四个角部还装置减震器（6）。
3.如权利要求1所述的一体式高压水清洗系统，其特征在于：所述水箱（10）的出水口高于高压泵（3）的进水口。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201220415241.9U CN202752263U (zh) | 2012-08-21 | 2012-08-21 | 一体式高压水清洗系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201220415241.9U CN202752263U (zh) | 2012-08-21 | 2012-08-21 | 一体式高压水清洗系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202752263U true CN202752263U (zh) | 2013-02-27 |
Family
ID=47731458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201220415241.9U Expired - Lifetime CN202752263U (zh) | 2012-08-21 | 2012-08-21 | 一体式高压水清洗系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN202752263U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104801522A (zh) * | 2015-04-14 | 2015-07-29 | 青岛永合创信电子科技有限公司 | 自动调整清洗压力的全自动玻璃器皿清洗机 |
-
2012
- 2012-08-21 CN CN201220415241.9U patent/CN202752263U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104801522A (zh) * | 2015-04-14 | 2015-07-29 | 青岛永合创信电子科技有限公司 | 自动调整清洗压力的全自动玻璃器皿清洗机 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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| GR01 | Patent grant | ||
| C53 | Correction of patent of invention or patent application | ||
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Owner name: SHANGHAI WELNEW MICRO-ELECTRONICS CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: SHANGHAI HUAYOU GILDING MICROELECTRONICS CO., LTD. |
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| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Xiao di Inventor after: Li Qiang Inventor after: Zhang Tianwei Inventor before: Xiao Di Inventor before: Li Qiang |
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Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: XIAO DI LI QIANG TO: XIAO DI LI QIANG ZHANG TIANWEI |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 201700, No. 6666 Ying Tung Road, Qingpu District, Shanghai Patentee after: SHANGHAI WELNEW MICRO-ELECTRONICS Co.,Ltd. Address before: 201700, No. 6666 Ying Tung Road, Qingpu District, Shanghai Patentee before: Shanghai Welnew Micro-electronics Co.,Ltd. |
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| CX01 | Expiry of patent term | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20130227 |