CN202701611U - 一种真空吸盘 - Google Patents

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CN202701611U CN 201220274025 CN201220274025U CN202701611U CN 202701611 U CN202701611 U CN 202701611U CN 201220274025 CN201220274025 CN 201220274025 CN 201220274025 U CN201220274025 U CN 201220274025U CN 202701611 U CN202701611 U CN 202701611U
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Inventor
李志刚
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Wuhan DR Llaser Technology Corp Ltd
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Wuhan DR Llaser Technology Corp Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种真空吸盘,其包括:吸盘体,所述吸盘体上具有贯穿吸盘的孔洞,所述孔洞数量为至少16个,所述孔洞外接吸尘装置。所述孔洞可为圆形、方形。本实用新型在吸盘的吸附表面设有贯穿的孔洞,外接真空吸尘装置,能够将产品被加工时产生的颗粒通过气流和贯穿的孔洞排除。使用时,产品紧密贴附在真空吸盘表面,不会因杂物承起导致应力集中而破损,能够降低被加工产品的破损率。且吸盘上具有若干大孔,减轻了吸盘的重量。

Description

一种真空吸盘
技术领域
本实用新型涉及气动生产设备领域,具体涉及一种真空吸盘。
背景技术
太阳能作为可再生的环保能源已经越来越受到人们的关注,太阳能电池近几年的世界销售额年增长率超过40%,与其相关的生产设备技术也得到迅猛的发展。在国家倡导节能的宏观政策推动下,中国的太阳能光伏产业也得到迅猛发展,在行业内已跃居世界第三位,仅次于日本和德国。
在太阳能硅片加工过程中的多个工序中,比如激光打孔工序,均需要将太阳能硅片吸附在真空吸盘上。并且,在太阳能硅片生产过程中会出现大量的硅片颗粒。当这些颗粒落在真空吸盘吸附面时,太阳能硅片容易在空气吸力的作用下破损。同样的技术问题也存在于其他产品的生产环节。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种能自动排除尘粒、降低产品破损率、提高生产效率的真空吸盘。
为实现上述目的,本实用新型所采用技术方案如下:
一种真空吸盘,其包括:吸盘体,所述吸盘体上具有贯穿吸盘的孔洞。
所述孔洞数量为至少16个。
所述孔洞外接吸尘装置。
所述孔洞可为圆形、方形。
本实用新型所述真空吸盘,其有益效果是:
在吸盘的吸附表面设有贯穿的孔洞,外接真空吸尘装置,能够将产品被加工时产生的颗粒通过气流和贯穿的孔洞排除。使用时,产品紧密贴附在真空吸盘表面,不会因杂物承起导致应力集中而破损,能够降低被加工产品的破损率。且吸盘上具有若干大孔,减轻了吸盘的重量。
附图说明
此附图说明所提供的图片用来辅助对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,并不构成对本实用新型的不当限定,在附图中:
附图1为本实用新型真空吸盘的主视结构示意图。
附图2为本实用新型真空吸盘的俯视结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图以及具体实施方法来详细说明本实用新型,在本实用新型的示意性实施及说明用来解释本实用新型,但并不作为对本实用新型的限定。 
如附图1和附图2所示,本实用新型公开了一种真空吸盘,其包括:方
形吸盘体01,吸盘体01上具有若干垂直贯穿吸盘的孔洞02,孔洞数量为至少16个,也可以更多,可均匀分布在吸盘上。孔洞的形状不限,可为圆形、方形等。吸盘上还具有若干大孔03,可减小吸盘重量。工作时,孔洞外接吸尘装置。将产品被加工时产生的颗粒通过气流排除。使用时,产品紧密贴附在真空吸盘表面,不会因杂物承起导致应力集中而破损,能够降低被加工产品的破损率。
以上对本实用新型实施例所提供的技术方案进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本实用新型实施例的原理以及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只适用于帮助理解本实用新型实施例的原理;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本实用新型实施例,在具体实施方式以及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (4)

1.一种真空吸盘,其特征在于:
包括吸盘体,所述吸盘体上具有贯穿吸盘的孔洞。
2.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:
所述孔洞数量为至少16个。
3.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:
所述孔洞外接吸尘装置。
4.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:
所述孔洞可为圆形、方形。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103170730A (zh) * 2013-02-25 2013-06-26 友达光电股份有限公司 加工系统

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Address after: 430000 Hubei city of Wuhan province Optics Valley Industrial Park of East Lake Development Zone, Shiyuan two Road No. four

Patentee after: WUHAN DR LASER TECHNOLOGY CORP., LTD.

Address before: 430000 Hubei city of Wuhan province Optics Valley Industrial Park of East Lake Development Zone, Shiyuan two Road No. four

Patentee before: Wuhan DR Laser Technology Co., Ltd.

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