CN202662573U - 一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机 - Google Patents
一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机。它包括喷嘴、盖子、溢流槽、支撑架、水槽、振子、进气管,方形水槽的上端边沿为溢流槽,在水槽内下部安装有支撑架,超声或兆声振子粘接在水槽的底部下方,水槽的上端安装有盖子,盖子的上方安装有进气管,盖子内安装有喷嘴,支撑架上设有清洗片架。所述的水槽的材料为石英玻璃。所述超声振子的频率为28kHz或40kHz,超声振子的功率约为50~100W,兆声振子的频率大于1兆Hz,兆声振子的功率约为50~100W,每个清洗片架下安装2~6个振子。本实用新型能够显著降低抛光硅片经热氮气和异丙醇混合气体干燥后在表面边沿留下水迹的机会,显著提高抛光硅片异丙醇干燥步骤的成品率。
Description
技术领域
本实用新型涉及用于抛光硅片清洗领域,尤其涉及一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机。
背景技术
抛光硅片是集成电路产业最重要的基础材料,电路被加工在抛光硅片的表面。随着集成电路的特征线宽越来越小,抛光硅片的抛光表面允许残留的颗粒的数量和直径越来越小。抛光硅片在抛光后一般经过一次清洗和最终清洗等两次清洗来使表面颗粒和表面金属指标达到用户的要求。
抛光硅片的最终清洗一般要经过经过装片、酸洗(HF)、快速高纯水冲洗(QDR)、一号液清洗(SC1)、高纯水溢流(OF)、二号液清洗(SC2)、快速高纯水冲洗(QDR)、高纯水溢流和浸泡(F/R)、甩干或异丙醇干燥、取片等步骤完成最终清洗过程。甩干是使抛光硅片在离心力的作用下去除表面吸附水而干燥的方法。异丙醇(异丙醇)干燥是使抛光硅片表面在异丙醇蒸汽和氮气的作用下干燥的方法。
抛光硅片被抛光后,被置于清洗片架内进行一次清洗和最终清洗,一般每个片架装25片抛光硅片,现在常用的抛光硅片的尺寸一般为4、5、6、8、12英寸。为保护抛光表面不被相互擦伤,片架内的抛光硅片相互之间被片架的隔离片隔离。在抛光硅片的异丙醇干燥过程中中,抛光硅单晶片正面和背面与片架的隔离片接触处的狭缝内会有水残留。残留的水被热的氮气和异丙醇混合气体吹干后会在抛光硅片表面的边沿留下水迹,水迹的位置会有高密度的表面颗粒存在,使抛光硅片达不到表面颗粒的指标要求。水迹的存在会降低抛光硅片最终清洗的异丙醇干燥步骤的成品率,该步的成品率现在一般只能达到85-90%。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术的不足,提供一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机。
带超声或兆声振子的异丙醇干燥机包括喷嘴、盖子、溢流槽、支撑架、水槽、振子、进气管,方形水槽的上端边沿为溢流槽,在水槽内下部安装有支撑架,超声或兆声振子粘接在水槽的底部下方,水槽的上端安装有盖子,盖子的上方安装有进气管,盖子内安装有喷嘴, 支撑架上设有清洗片架。
所述的水槽的材料为石英玻璃。所述超声振子的频率为28kHz或40kHz,超声振子的功率约为50~100W,兆声振子的频率大于1兆Hz,兆声振子的功率约为50~100W,每个清洗片架下安装2~6个振子。
本实用新型能够显著降低抛光硅片经热氮气和异丙醇混合气体干燥后在表面边沿留下水迹的机会,显著提高抛光硅片异丙醇干燥步骤的成品率。
附图说明
图1是带超声或兆声振子的异丙醇干燥机结构示意图;
图2是带超声或兆声振子的异丙醇干燥机侧视图;
图中,抛光硅片1、清洗片架2、喷嘴3、盖子4、溢流槽5、支撑架6、高纯水7、水槽8、振子9、进气管10
具体实施方式
如图1、2所示,带超声或兆声振子的抛光硅片异丙醇干燥机包括喷嘴3、盖子4、溢流槽5、支撑架6、水槽8、振子9、进气管10,方形水槽8的上端边沿为溢流槽5,在水槽8内下部安装有支撑架6,超声或兆声振子9粘接在水槽8的底部下方,水槽8的上端安装有盖子4,盖子4的上方安装有进气管10,盖子4内安装有喷嘴3,支撑架6上设有清洗片架2。
所述的水槽8的材料为石英玻璃。所述超声振子的频率为28kHz或40kHz,超声振子的功率约为50~100W,兆声振子的频率大于1兆Hz,兆声振子的功率约为50~100W,每个清洗片架2下安装2~6个振子。
本实用新型的工作过程如下:
先将抛光硅片1连同清洗片架2置于水槽8内的支撑架6上,在水槽8内注满高纯水7,使抛光硅片1及其清洗片架2被高纯水7完全淹没,多余高纯水从溢流槽5溢流,通电开启超声或兆声振子9,从干燥机底部缓慢排水,使液面高度以设定速度缓慢降低。在液面降低的同时从上部的氮气和异丙醇的喷嘴3向抛光硅片1及其清洗片架2喷冷的氮气和异丙醇混合气体,当液面与抛光硅片脱离接触后,断电关闭超声或兆声振子9,开始从氮气和异丙醇的喷嘴3向抛光硅片1及其清洗片架2喷热的氮气和异丙醇混合气体使硅片表面干燥,排净干燥机内的水,继续从氮气和异丙醇的喷嘴3向抛光硅片1及其清洗片架2喷热的氮气和异丙醇混合气体直至硅片表面和片架表面完全干燥,打开盖子4取出硅片,完成干燥步骤。
在液面高度以设定速度降低的过程中,在从氮气和异丙醇喷嘴3向抛光硅片1及其清洗片架2喷出的冷氮气和异丙醇混合气体的吹扫及超声或兆声的微振动的共同作用下,抛光硅片1的正面和背面与清洗片架2接触处的狭缝内残留水的机会大大降低,抛光硅片1经后 续热氮气和异丙醇混合气体干燥后表面边沿留下水迹的机会显著降低。实际得到的抛光硅片异丙醇干燥步骤的成品率可以达到95%以上。
Claims (3)
1.一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机,其特征在于包括喷嘴(3)、盖子(4)、溢流槽(5)、支撑架(6)、水槽(8)、振子(9)、进气管(10),方形水槽(8)的上端边沿为溢流槽(5),在水槽(8)内下部安装有支撑架(6),超声或兆声振子(9)粘接在水槽(8)的底部下方,水槽(8)的上端安装有盖子(4),盖子(4)的上方安装有进气管(10),盖子(4)内安装有喷嘴(3),支撑架(6)上设有清洗片架(2)。
2.根据权利要求1所述的一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机,其特征在于所述的水槽(8)的材料为石英玻璃。
3.根据权利要求1所述的一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机,其特征在于所述超声振子的频率为28kHz或40kHz,超声振子的功率约为50~100W,兆声振子的频率大于1兆Hz,兆声振子的功率约为50~100W,每个清洗片架(2)下安装2~6个振子。
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CN 201120543012 CN202662573U (zh) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机 |
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CN 201120543012 CN202662573U (zh) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 一种带超声或兆声振子的异丙醇干燥机 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN107081307A (zh) * | 2016-02-12 | 2017-08-22 | 精工电子有限公司 | 套圈清洗装置和套圈清洗方法 |
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2011
- 2011-12-22 CN CN 201120543012 patent/CN202662573U/zh not_active Expired - Lifetime
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