CN202290659U - 一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置 - Google Patents
一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202290659U CN202290659U CN 201120289030 CN201120289030U CN202290659U CN 202290659 U CN202290659 U CN 202290659U CN 201120289030 CN201120289030 CN 201120289030 CN 201120289030 U CN201120289030 U CN 201120289030U CN 202290659 U CN202290659 U CN 202290659U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass substrate
- ion wind
- heater
- tungsten powder
- wind device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
本实用新型涉及玻璃基板维修过程中清洁设备领域，特别是涉及一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置。该玻璃基板清洁系统，包括支撑柱和基台，通过支撑柱将玻璃基板放置在基台上，还包括位于玻璃基板上方的离子风生成器，离子风生成器的下方安装加热装置。本实用新型提供的一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置，使得玻璃基板周边环境温度可控且易达到钨粉升华温度，便于钨粉结晶的快速升华，甚至可有效杜绝钨粉结晶现象的发生，加快了玻璃基板的维修效率进而确保了玻璃基板的清洁度，为最终产品良品率的提升提供了清洁保障。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃基板维修过程中清洁设备领域，特别是涉及一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置。
背景技术
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器)生产工艺中，化学气相沉积工艺步骤中对玻璃基板的维修程度对最终产品良品率的提升提到至关重要的作用。在该化学气相沉积工艺步骤中，通常采用钨粉对玻璃基板中金属层中的断线进行修复，修复后的玻璃基板上的钨粉会继续沉积在玻璃基板上。其中钨粉的主要成分为六羰基钨(W(CO)6)是一种无色无臭挥发性固体，其升华温度为50℃。由于该生产工艺的生产线内环境要求低温环境，因此，沉积在玻璃基板上的钨粉容易产生结晶而长时间附着在玻璃基板的表面上，不易散去，严重影响玻璃基板的清洁度和维修效率，且钨粉结晶对玻璃基板在后续的工序生产中将产生极大的影响，一定程度上降低了最终产品的良品率。
如图1所示，为现有技术玻璃基板清洁装置结构示意图。该玻璃基板清洁装置包括离子风生成器1、基台3、位于基台3上的支撑柱4(pin)，位于基台3底部的加热器5，玻璃基板2通过支撑柱4放置在基台3上。离子风生成器1用于将产生的离子风吹向玻璃基板的表面，以去除玻璃基板与接触物之间产生的不良静电。通过加热器5散发出的热量，可对玻璃基板2下表面进行加热并进行热量扩散，使得沉积在玻璃基板2上的部分钨粉进行升华，减少其发生结晶现象。但由于该加热器5位于玻璃基板2的底部，并且其产生的热量较低，导致加热器5产生的热量使位于玻璃基板上表面附着的钨粉结晶发生升华的效果并不明显，一旦钨粉结晶产生后，只依靠加热器5的单方热量使其结晶升华，无形中增加了等待时间，导致维修基板的效率较低。若将附着在玻璃基板2上的钨粉结晶处理得不完全，钨粉结晶对玻璃基板2在后续的工序生产中将产生极大的影响，从而造成本次维修失效，增加了生产成本。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是提供一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置，以克服现有的玻璃基板清洁装置去除钨粉效率低下，导致玻璃基板的整体维修效率较低，并一定程度上影响最终产品良品率等缺陷。
(二)技术方案
为解决上述技术问题，本实用新型一方面提供一种离子风装置，包括：离子风生成器，其用于产生离子风；
所述离子风生成器的下方安装加热装置。
进一步地，所述加热装置为加热电阻丝。
进一步地，所述加热电阻丝为网状。
进一步地，所述加热电阻丝为热敏电阻丝。
进一步地，所述热敏电阻丝为双金属片，所述双金属片由两种热膨胀系数不同的金属叠合而成。
进一步地，所述热敏电阻丝中的一种金属为锰镍铜合金、镍铬铁合金或镍锰铁合金；其另外一种金属为镍铁合金，其中镍的含量为34％-50％。
另一方面，本实用新型还提供一种玻璃基板清洁系统，包括支撑柱和基台，通过支撑柱将玻璃基板放置在基台上，还包括位于玻璃基板上方的离子风装置。
(三)有益效果
上述技术方案具有如下有益效果：本实用新型提供的一种玻璃基板清洁装系统及其离子风装置，使得玻璃基板周边环境温度可控且易达到钨粉升华温度，便于钨粉结晶的快速升华，甚至可有效杜绝钨粉结晶现象的发生，加快了玻璃基板的维修效率进而确保了玻璃基板的清洁度，为最终产品良品率的提升提供了清洁保障。
附图说明
图1为现有技术结构玻璃基板清洁装置结构示意图；
图2为本实用新型实施例离子风装置结构示意图；
图3为本实用新型实施例离子风装置中电阻丝俯视图；
图4为本实用新型实施例玻璃基板清洁系统结构示意图。
图中：1、离子风生成器；2、玻璃基板；3、基台；4、支撑柱；5、加热器；6、加热电阻丝。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
如图2-3所示，本实用新型实施例离子风装置包括：离子风生成器1，该离子风生成器1的下方安装加热装置。该加热装置可以将离子风生成器1产生的离子风加热，从而使周边环境温度提高。本实施例中的加热装置采用加热电阻丝6，接通电源，使得加热电阻丝6自身达到一定温度，从而将离子风加热。但需要说明的是，该加热装置也可采用普通的加热器，为了能精确的感知并控制加热器的加热温度，可在普通的加热器上加设温度传感器，用于感知其加热温度，同时加设一个控制器，其与温度传感器电路连接，用于根据温度传感器传递过来的温度控制该电路的闭合，从而实现控制加热器加热程度的作用。
为了能将各个角度的离子风完全加热，设置加热电阻丝6为网状。
本实用新型实施例为了有效控制加热电阻丝的加热程度，即防止出现加热电阻丝6的温度过高或者过低的现象，加热电阻丝6采用热敏电阻丝，对电阻丝的温度进行精确感知。该热敏电阻丝采用两种不同材料的金属片搭接而成且该两种金属的热膨胀系数不同。由于该两种金属的热膨胀系数不同，根据加热电阻丝6加热的程度，两个金属片将发生不同的弯曲形变，进而控制该加热电阻丝电路的闭合，实现对加热电阻丝加热温度的控制，最终实现对离子风热量的控制。
其中，热敏电阻丝中其中一种金属为锰镍铜合金、镍铬铁合金或镍锰铁合金；其中另外一种金属为镍铁合金，其中镍的含量为34％-50％。例如可设置该两种金属片的工作温度为0-50℃，由于该电阻丝中两个金属的热膨胀系数不同，当电阻丝的温度达到50℃时，其中一个金属片将产生明显的热膨胀现象而发生弯曲，进而与另外一个金属片断开，电路断开，从而可有效安全地控制电阻丝的温度，确保其电阻丝工作的可靠性。
如图4所示，本实用新型实施例玻璃基板清洁系统包括基台3和支撑柱4(pin)，通过支撑柱4将玻璃基板2放置在基台3上，还包括位于玻璃基板2上方的离子风生成器1，用于向玻璃基板的表面输送离子风，去除玻璃基板与接触物之间产生的不良静电。离子风生成器1的下方安装加热装置，本实施例中加热装置采用加热电阻丝6。通过加热电阻丝6可将吹向玻璃基板2上表面的离子风加热，具有一定热量的离子风可有效将沉积在玻璃基板2上的钨粉加快挥发，或者可有效将已成结晶状态的钨粉直接升华，进而将沉积在玻璃基板2上的钨粉清洁干净。
为了能将各个角度的离子风完全加热，设置加热电阻丝6为网状。为了有效控制加热电阻丝的加热温度，即防止出现加热电阻丝6的温度过高或者过低的现象，加热电阻丝6采用热敏电阻丝，对电阻丝的温度进行精确感知。该热敏电阻丝采用两种不同材料的金属片搭接而成且该两种金属的热膨胀系数不同。由于该两种金属的热膨胀系数不同，根据加热电阻丝6加热的程度不同，两个金属片将发生不同的弯曲形变，进而控制该加热电阻丝电路的闭合，实现对加热电阻丝加热温度的控制，最终实现对离子风热量的控制。
其中，热敏电阻丝中其中一种金属为锰镍铜合金、镍铬铁合金或镍锰铁合金；其中另外一种金属为镍铁合金，其中镍的含量为34％-50％。为了使沉积在玻璃基板2上表面的钨粉快速发挥或者使其产生的结晶直接升华，则可设置该两种金属片的工作温度为0-50℃，由于该电阻丝中两个金属的热膨胀系数不同，当电阻丝的温度达到50℃时，其中一个金属片将产生明显的热膨胀现象而发生弯曲，进而与另外一个金属片断开，从而可有效安全地控制电阻丝的温度，确保其电阻丝工作的可靠性。
另外，为了确保维修工作区域内的温度能较快的提升，可将基台下方安装加热器5，对玻璃基板2的下表面进行加热，进而对工作区域内的温度进行适度的补偿。
经对实际操作的生产线环境中测试得知，当玻璃基板2周边的温度稳定在23.5-24℃时，作用在玻璃基板2上表面温度容易达到钨粉结晶升华所需的50℃，因此，在玻璃基板的上下表面同时进行加热，可以更加容易对玻璃基板的升温，便于钨粉得快速挥发，或者直接杜绝钨粉发生结晶的现象发生。
本实用新型提供的玻璃基板清洁系统及其离子风装置，使得玻璃基板周边环境温度可控且易达到钨粉升华温度，便于钨粉结晶的快速升华，甚至可有效杜绝钨粉结晶现象的发生，加快了玻璃基板的维修效率进而确保了玻璃基板的清洁度，为最终产品良品率的提升提供了清洁保障。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种离子风装置，其特征在于，包括：
离子风生成器，其用于产生离子风；
所述离子风生成器的下方安装加热装置。
2.如权利要求1所述的离子风装置，其特征在于，所述加热装置为加热电阻丝。
3.如权利要求2所述的离子风装置，其特征在于，所述加热电阻丝为网状。
4.如权利要求2所述的离子风装置，其特征在于，所述加热电阻丝为热敏电阻丝。
5.如权利要求4所述的离子风装置，其特征在于，所述热敏电阻丝为双金属片，所述双金属片由两种热膨胀系数不同的金属叠合而成。
6.如权利要求5所述的离子风装置，其特征在于，所述热敏电阻丝中的一种金属为锰镍铜合金、镍铬铁合金或镍锰铁合金；其另外一种金属为镍铁合金。
7.一种玻璃基板清洁系统，包括支撑柱和基台，通过支撑柱将玻璃基板放置在基台上，其特征在于，还包括位于玻璃基板上方的如权利要求1-6所述的离子风装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201120289030 CN202290659U (zh) | 2011-08-09 | 2011-08-09 | 一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201120289030 CN202290659U (zh) | 2011-08-09 | 2011-08-09 | 一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202290659U true CN202290659U (zh) | 2012-07-04 |
Family
ID=46359640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201120289030 Expired - Lifetime CN202290659U (zh) | 2011-08-09 | 2011-08-09 | 一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN202290659U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106475897A (zh) * | 2016-10-11 | 2017-03-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基片研磨装置和基片清洁设备 |
| CN108463043A (zh) * | 2014-03-28 | 2018-08-28 | 株式会社大福 | 除电装置及具备该除电装置的输送装置 |
-
2011
- 2011-08-09 CN CN 201120289030 patent/CN202290659U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108463043A (zh) * | 2014-03-28 | 2018-08-28 | 株式会社大福 | 除电装置及具备该除电装置的输送装置 |
| CN106475897A (zh) * | 2016-10-11 | 2017-03-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基片研磨装置和基片清洁设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104078626B (zh) | 用于oled材料蒸镀的加热装置 | |
| WO2010017054A3 (en) | Indium tin oxide (ito) layer forming | |
| CN202290659U (zh) | 一种玻璃基板清洁系统及其离子风装置 | |
| Tseng et al. | Mechanical and optoelectric properties of post-annealed fluorine-doped tin oxide films by ultraviolet laser irradiation | |
| CN103972050A (zh) | 多晶硅薄膜、多晶硅薄膜晶体管及阵列基板的制备方法 | |
| CN105742342A (zh) | 一种氧化物半导体薄膜及其低温溶液制备方法 | |
| CN104409652A (zh) | 玻璃薄膜的制备方法、光电器件及其封装方法、显示装置 | |
| WO2004107453A1 (en) | Method for annealing silicon thin films and polycrystalline silicon thin films prepared therefrom | |
| TW201105447A (en) | Laser scoring of glass at elevated temperatures | |
| CN102465338A (zh) | 一种感应加热非晶硅晶化方法 | |
| CN105097667A (zh) | 低温多晶硅tft基板结构的制作方法及低温多晶硅tft基板结构 | |
| CN106119782B (zh) | 一种蒸发源、蒸镀设备及oled显示器生产设备 | |
| CN103681244A (zh) | 低温多晶硅薄膜的预清洗方法及其制备方法、制作系统 | |
| Hsiao et al. | Electrode patterning and annealing processes of aluminum-doped zinc oxide thin films using a UV laser system | |
| CN103730336B (zh) | 定义多晶硅生长方向的方法 | |
| CN204243004U (zh) | 热退火设备 | |
| CN102699529A (zh) | 改进的激光退火设备 | |
| CN103981500B (zh) | 一种提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构 | |
| CN203880957U (zh) | 一种可调保温装置 | |
| CN105140180A (zh) | 薄膜晶体管阵列基板的制作方法及多晶硅材料的制作方法 | |
| US8129215B1 (en) | Method for producing high temperature thin film silicon layer on glass | |
| JP2011192908A (ja) | ポリシリコン膜の製造方法、太陽電池及び電子デバイス | |
| CN209357702U (zh) | 显示装置的制造装置 | |
| CN204356396U (zh) | 一种新型光学镀膜坩埚 | |
| CN103743239A (zh) | 石英卡夹装置及其制作方法与带该石英卡夹装置的oled高温炉 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CX01 | Expiry of patent term | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20120704 |