CN202204532U - 支架 - Google Patents
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Abstract
一种支架，包括：具有一竖直设置的升降槽的底座，以及用以承载目标物的支撑框体，所述支撑框体具有一可在所述升降槽中自由滑动的升降部，使所述支撑框体相对于所述底座可自由升降。所述支架还包括一磁吸装置，使所述升降槽与所述升降部相互吸引，以产生防止所述支撑框体相对于所述底座下滑的摩擦阻尼。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种支架，尤其涉及一种用以支撑测量仪器的升降型支架。
背景技术
测量仪器有着各种各样的使用环境和条件。一般的情况下，测量仪器都会固定在专门配置的三角脚架上使用，以通过调节三角脚架的高度来实现对测量仪器的高度调节。
但三角脚架在使用时会受到使用空间的限制，例如在局部狭小空间内，就无法安放三角脚架。倘若此时需要对测量仪器的高度进行调节，则只能要求测量仪器本身具有一定的高度可调，然而通常的测量仪器其自身是无法调节高度的。
因此，亟待一种可在有限空间内提供测量仪器高度调节的支架。
实用新型内容
为了克服上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种能够在有限空间内提供高度调节的支架。
为了实现上述目的，本实用新型提供一种支架，包括：具有一竖直设置的升降槽的底座，以及用以承载目标物的支撑框体，所述支撑框体具有一可在所述升降槽中自由滑动的升降部，使所述支撑框体相对于所述底座可自由升降。所述支架还包括一磁吸装置，使所述升降槽与所述升降部相互吸引，以产生防止所述支撑框体相对于所述底座下滑的摩擦阻尼。当所述支撑框体承载目标物时，所述摩擦阻尼同样足以防止所述支撑框体相对于所述底座下 滑。
较佳地，在本实用新型中，所述磁吸装置包括固定设置在所述升降槽上的磁钢，以及设置在所述升降部上的铁片。
较佳地，在本实用新型中，所述磁吸装置包括固定设置在所述升降槽上的铁片，以及设置在所述升降部上的磁钢。
更佳地，在本实用新型中，所述升降槽中设置有碰珠，所述升降部上设置有若干个定位孔，通过所述碰珠与所述定位孔的配合以固定所述支撑框体的升降高度。
更佳地，在本实用新型中，所述升降槽中设置有若干个定位孔，所述升降部上设置有碰珠，通过所述碰珠与所述定位孔的配合以固定所述支撑框体的升降高度。
通过上述设置，设置在底座升降槽上的磁钢能够吸引设置在支撑框体升降部上的铁片，以增加支撑框体在升降槽中的摩擦力，并产生当所述支撑框体承载测量仪器后也不会下滑的摩擦阻尼，这样就能实现测量仪器的高度调整。另外，通过碰珠与定位孔的配合，还可以根据实际的操作环境来选取不同的升降高度。此外，这样的支架其大小与测量仪器的大小接近，也不会受到狭小空间的限制。
附图说明
图1为本实用新型一优选实施例的第一使用状态图；
图2为图1的A-A剖视图；
图3为本实用新型一优选实施例的第二使用状态图；
图4为图3的B-B剖视图。
具体实施方式
以下将结合附图与具体实施例进一步阐述本实用新型的优点。
请参阅图1及图2，为本实用新型一优选实施例，该优选实施例提供一 种支架100，包括：底座110和支撑框体120，底座110具有一竖直设置的升降槽111，支撑框体120具有能在升降槽111中滑动的升降部121，使得支撑框体120相对于底座110可自由升降。
在底座110的升降槽111的外侧设置有一磁钢112，并通过螺丝固定，而在支撑框体120的升降部121上附着有铁片122。通过磁钢112与铁片122之间的吸引，可增加支撑框体120在升降槽111中的摩擦力，并产生当所述支撑框体120承载测量仪器后也不会下滑的摩擦阻尼。
在图1及图2中，该支架100处于第一使用状态，支撑框体120向上升起一段距离后，通过磁钢112与铁片122之间的吸引，保持该高度不变。
请参阅图3及图4，示出了该支架100的第二使用状态，在该第二使用状态下，支撑框体120再次向上升起，并仍旧通过磁钢112与铁片122之间的吸引，保持该高度不变。
另外，如图3，图4所示，在升降槽111中还设置有碰珠113，在升降部121上还设置有若干个定位孔123，通过碰珠113与定位孔123的配合，可以进一步固定支撑框体120的升降高度。同时，定位孔也指示出支撑框体不同的升降高度。
通过上述设置，在实际运用中，本实用新型优选实施例所提供的支架可通过磁吸装置在升降槽与升降部之间产生吸引力，该吸引力的方向大致呈水平，使得升降槽与升降部之间产生防止支撑框体相对于底座下滑的摩擦力，并且，当支撑框体承载一目标物(测量仪器)时，该摩擦力也足以防止支撑框体的下滑。
应当注意的是，本实用新型的实施例有较佳的实施性，且并非对本实用新型作任何形式的限制，任何熟悉该领域的技术人员可能利用上述揭示的技术内容变更或修饰为等同的有效实施例，但凡未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何修改或等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (5)
1.一种支架，包括：
底座，具有一竖直设置的升降槽；
支撑框体，具有一在所述升降槽中自由滑动的升降部，使所述支撑框体相对于所述底座自由升降；
其特征在于，所述支架还包括一磁吸装置，使所述升降槽与所述升降部相互吸引，以产生防止所述支撑框体相对于所述底座下滑的摩擦阻尼。
2.如权利要求1所述的支架，其特征在于，所述磁吸装置包括固定设置在所述升降槽上的磁钢，以及设置在所述升降部上的铁片。
3.如权利要求1所述的支架，其特征在于，所述磁吸装置包括固定设置在所述升降槽上的铁片，以及设置在所述升降部上的磁钢。
4.如权利要求1所述的支架，其特征在于，所述升降槽中设置有碰珠，所述升降部上设置有若干个定位孔，通过所述碰珠与所述定位孔的配合以固定所述支撑框体的升降高度。
5.如权利要求1所述的支架，其特征在于，所述升降槽中设置有若干个定位孔，所述升降部上设置有碰珠，通过所述碰珠与所述定位孔的配合以固定所述支撑框体的升降高度。
Priority Applications (2)
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| CN 201120283556 CN202204532U (zh) | 2011-08-05 | 2011-08-05 | 支架 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN 201120283556 CN202204532U (zh) | 2011-08-05 | 2011-08-05 | 支架 |
Publications (1)
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Family
ID=45968652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (2)
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2011
- 2011-08-05 CN CN 201120283556 patent/CN202204532U/zh not_active Expired - Lifetime
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2012
- 2012-02-27 WO PCT/CN2012/000248 patent/WO2013020347A1/zh active Application Filing
Also Published As
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Granted publication date: 20120425 |
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