CN202164381U - 一种可重复使用的铸锭用坩埚 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及多晶铸锭用坩埚技术领域,特别是一种可重复使用的铸锭用坩埚,其包括坩埚基体和高致密脱模剂涂层,以石墨或碳化硅陶瓷材质为坩埚基体,同时高致密脱模剂涂层设置在坩埚基体内壁上。本实用新型的有益效果是:本坩埚可重复使用50次以上,大大降低了铸锭的非硅成本。

Description

一种可重复使用的铸锭用坩埚
技术领域
本实用新型涉及多晶铸锭用坩埚技术领域,特别是一种可重复使用的铸锭用坩埚。
背景技术
目前生产多晶铸锭时采用石英陶瓷坩埚作为多晶硅铸锭的容器,通过双温区或三温区控制,利用晶锭上下的温度梯度实现定向凝固,采用氮化硅粉末涂层为脱模剂,此方法普遍的应用于太阳能电池铸锭行业。石英陶瓷坩埚经过高温后均会破裂,不可重复使用。在多晶硅铸锭工序中,坩埚成本占整个非硅成本约30%多,因此是铸锭工序主要耗材之一。目前坩埚方面的专利主要基于石英陶瓷坩埚的制作和其涂层改良方面,关于可重复利用的研究比较少。专利200920256012.5描述了一种可重复利用的多晶硅太阳能电池铸锭用氮化硅坩埚,坩埚氮化硅比重为70-98%,气孔率<10%。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种可重复使用的铸锭用坩埚,降低铸锭的非硅成本。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种可重复使用的铸锭用坩埚,包括坩埚基体和高致密脱模剂涂层,以石墨或碳化硅陶瓷材质为坩埚基体,同时高致密脱模剂涂层设置在坩埚基体内壁上。
坩埚为顶部敞开的整体式正方形立体槽式结构。
或者,坩埚为顶部敞开的正方形立体槽式结构,具有一面或多面可拆卸的侧壁。
可拆卸的侧壁通过卡槽或销钉或螺栓或包裹的固定方式与坩埚的其他部分成一体。
高致密脱模剂涂层为氮化硅、氮化硼或碳化硅涂层。
坩埚的边长为50-1500mm,高度为20-900mm,坩埚壁厚度为3-40mm。
本实用新型的有益效果是:本坩埚可重复使用50次以上,大大降低了铸锭的非硅成本。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明;
图1是本实用新型的结构示意图;
图中,1.坩埚基体,2.高致密脱模剂涂层。
具体实施方式
实施例1,如图1所示的该可重复使用的铸锭用坩埚,包括石墨材质的坩埚基体1和高致密脱模剂涂层2,高致密脱模剂涂层2设置坩埚基体1内壁。高致密脱模剂涂层2可为氮化硅、氮化硼或碳化硅等。涂覆的方法可以是喷涂烧结、液相烧结、气相沉积、等离子喷涂等,但不限于这些方法。坩埚为顶部敞开的正方形立体槽式结构,其边长为50-1500mm,高度为20-900mm,坩埚壁厚度为3-40mm。坩埚为整体式,或为由一面或多面可拆卸的侧壁,可拆卸的侧壁通过卡槽或销钉或螺栓或包裹的固定方式与坩埚的其他部分成一体。该坩埚可重复利用在50次以上。
实施例2、该可重复使用的铸锭用坩埚,包括碳化硅陶瓷的坩埚基体1和高致密脱模剂涂层2,高致密脱模剂涂层2设置坩埚基体1内壁,高致密脱模剂涂层2可为氮化硅、氮化硼、碳化硅等。高致密脱模剂涂层2可以是喷涂烧结、液相烧结、气相沉积、等离子喷涂等结合在一起,也可与碳化硅陶瓷的坩埚基材1一起反应烧结成整体,但不限于这些方法。坩埚为顶部敞开的正方形立体槽式结构,其边长为50-1500mm,高度为20-900mm,坩埚壁厚度为3-40mm。坩埚为整体式,或为由一面或多面可拆卸的侧壁,可拆卸的侧壁通过卡槽或销钉或螺栓或包裹的固定方式与坩埚的其他部分成一体。该坩埚可重复利用在50次以上。
当高致密脱模剂涂层2与碳化硅陶瓷材料的坩埚基体1一起反应烧结成整体时,截面未必有如图1所示的清晰的分界。
上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其他不同形式的变化或变动。

Claims (6)

1.一种可重复使用的铸锭用坩埚,其特征是:包括坩埚基体(1)和高致密脱模剂涂层(2),以石墨或碳化硅陶瓷材质为坩埚基体(1),同时高致密脱模剂涂层(2)设置在坩埚基体(1)内壁上。
2.根据权利要求1所述的可重复使用的铸锭用坩埚,其特征是:所述的坩埚为顶部敞开的整体式正方形立体槽式结构。
3.根据权利要求1所述的可重复使用的铸锭用坩埚,其特征是:所述的坩埚为顶部敞开的正方形立体槽式结构,具有一面或多面可拆卸的侧壁。
4.根据权利要求3所述的可重复使用的铸锭用坩埚,其特征是:所述的可拆卸的侧壁通过卡槽或销钉或螺栓或包裹的固定方式与坩埚的其他部分成一体。
5.根据权利要求1所述的可重复使用的铸锭用坩埚,其特征是:所述的高致密脱模剂涂层(2)为氮化硅、氮化硼或碳化硅涂层。
6.根据权利要求1或2或3或4或5所述的可重复使用的铸锭用坩埚,其特征是:坩埚的边长为50-1500mm,高度为20-900mm,坩埚壁厚度为3-40mm。
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