CN202142507U - 真空隔绝室密封装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种真空隔绝室密封装置，用于真空隔绝室的密封，真空隔绝室一侧壁上具有开口，该侧壁为封接面壁，开口边缘上设有密封件，该真空隔绝密封装置包括隔绝门，所述隔绝门由导磁材料制成，所述真空隔绝室的封接面壁上设有电磁石。在密闭真空隔绝室时，磁铁吸力吸住隔绝门使隔绝门完全贴合封接面壁，抽真空时处于密封状态，气体不会渗入。所述真空隔绝室密封装置具有结构简单，密封效果好，成本低的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种真空隔绝室密封装置。
背景技术
真空隔绝室(又称“加载互锁真空室”)(load lock chamber)，其结构如图1所示，该真空隔绝室的一侧壁开口，所述侧壁称之为封接面壁1(sealingsurface wall)，该开口的大小小于侧壁，为了实现真空隔绝室的密封，在封接面壁外侧设有隔绝门2(load lock door)以及隔绝门外壳3，为了保证密封效果，通常在封接面壁的开口边缘上设有密封件11，例如用橡胶材料包裹在封接面壁1的开口处。以上真空隔绝室容易受到外界环境的影响，具体压力梯度(例如，隔绝门外部的大气压力和/或隔绝门内部的压力)可引起隔绝门2的顶部和底部运动并且从而引起隔绝门2的运动，所述运动可引起密封件11、封接面壁1与隔绝门2之间的摩擦。这样的摩擦可使密封件11磨损产生漏处，外部气体渗入真空隔绝室，引入真空隔绝室缺陷的微粒并且真空隔绝室抽真空不完全。
为了改善以上状况，现有技术在隔绝门2与外壳3之间增设气囊4，所述气囊4由橡胶材料制成，通过气囊4的压力压在隔绝门2上，使得隔绝门2完全贴合封接面壁1，处于密封状态，真空隔绝室抽真空后，由外部的大气压压迫隔绝门2，其不足之处在于，真空隔绝室内频繁的电解气使气囊4吹出或表面不对称以及气囊4膨胀次数多了后气囊4各处伸缩性不一致，造成气囊4在隔绝门2上的压力不对称，压力不足，增设气囊4的真空隔绝室在此情况下亦会由于压力梯度引起隔绝门2运动，此运动可引起密封件11、封接面壁1与隔绝门2之间的摩擦。这样的摩擦使密封件11磨损，真空隔绝腔室产生漏处且气囊4的压力不足以使隔绝门2完全贴合在封接面壁1上，外部气体渗入真空隔绝室，引入真空隔绝室缺陷的微粒并且真空隔绝室抽真空不完全。所述情况下需更换新的厚的气囊4，以达到隔绝门2合适的压力，使隔绝门2完全贴合在封接面壁1上，所述隔绝门2外的气囊4使用寿命短，成本高，且需大量的劳动力进行更换。
实用新型内容
本实用新型为了克服现有技术的不足，提供一种结构简单，成本低的真空隔绝室密封装置。
本实用新型的技术方案如下：该真空隔绝室密封装置，用于真空隔绝室的密封，真空隔绝室一侧壁上具有开口，该侧壁为封接面壁，开口边缘上设有密封件，该真空隔绝密封装置包括隔绝门，其特殊之处在于，所述隔绝门由导磁材料制成，所述真空隔绝腔室的封接面壁上设有电磁石。
作为优选：所述电磁石呈对边和/或对角对称分布。
作为优选：所述密封件由橡胶材料制成。
与现有技术相比，本实用新型具有结构简单、成本低、无需频繁更换、减少劳动力，提高生产效率的优点。
附图说明
图1为现有技术的主视图。
图2为现有技术的左视图。
图3为本实用新型的主视图。
图4为本实用新型的左视图。
具体实施方式
本实用新型下面将结合附图作进一步详述：
如图1和图2所述，现有的真空隔绝室密封装置，用于真空隔绝室的密封，真空隔绝室一侧壁上具有开口，该侧壁为封接面壁1，开口边缘上设有密封件11，该真空隔绝密封装置包括隔绝门2，隔绝门2固定在通过轴承转动移动的外壳3上，隔绝门2与外壳3之间固设有气囊4，真空隔绝室密封装置在关闭隔绝门2时，通过气囊4的压力压在隔绝门2上，使得隔绝门2完全贴合封接面壁1，处于密封状态，真空隔绝室抽真空后，由外部的大气压压迫隔绝门2，但是真空隔绝室内频繁的电解气使气囊4吹出或表面不对称，所述气囊4膨胀次数多了后，气囊4各处伸缩性不一致，气囊4在隔绝门2上的压力不对称、压力不足，真空隔绝室密封装置在此情况下由于压力梯度亦会引起隔绝门2的运动，所述运动可引起密封件11、封接面壁1与隔绝门2之间的摩擦。这样的摩擦可使密封件11磨损产生漏处，外部气体渗入真空隔绝室，引入真空隔绝室缺陷的微粒并且真空隔绝室不能完全抽真空。所述情况下需更换新的厚的气囊4，以达到隔绝门2合适的压力，所述隔绝门2外的气囊4使用寿命短，成本高，且需大量的劳动力。
请参阅图3和图4所示，在本实施例中，该真空隔绝室密封装置，真空隔绝室一侧壁上具有开口，该侧壁为封接面壁1，开口边缘上设有密封件11，该真空隔绝密封装置包括隔绝门2，隔绝门2固定在通过轴承转动移动的外壳3上，所述隔绝门2由导磁材料制成，所述封接面壁1上且位于密封件11外侧设有电磁石12。所述电磁石12呈对边对称分布。所述电磁石12还可呈对角对称分布，所述电磁石12还可呈对边对角对称分布。所述密封件11由橡胶或金属材料制成，能适用于不同的真空隔绝室。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型权利要求范围所做的均等变化与修饰，皆应属本实用新型权利要求的涵盖范围。
Claims (3)
1.一种真空隔绝室密封装置，用于真空隔绝室的密封，真空隔绝室一侧壁上具有开口，该侧壁为封接面壁，开口边缘上设有密封件，该真空隔绝密封装置包括隔绝门，其特征在于：所述隔绝门由导磁材料制成，所述真空隔绝室的封接面壁上设有电磁石。
2.根据权利要求1所述的真空隔绝室密封装置，其特征在于：所述电磁石呈对边和/或对角对称分布。
3.根据权利要求1所述的真空隔绝室密封装置，其特征在于：所述密封件由橡胶材料制成。
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2011
- 2011-07-19 CN CN201120255853U patent/CN202142507U/zh not_active Expired - Fee Related
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