CN202056022U - 集成式真空发生器 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种集成式真空发生器，包括上盖和底座，上盖上依次设有进气口、真空口、和排气口；底座上依次设有与进气口连通的进气腔，与真空口连通的一次真空腔、二次真空腔、三次真空腔，和与排气口连通的排气腔；一次真空腔中设有一次气管，二次真空腔中设有二次气管，各二次气管的吸气口正对相应一个一次气管的喷气口设置；三次真空腔中设有三次气管；各三次气管的吸气口正对相应一个二次气管的喷气口设置；排气腔中设有排气管，各排气管的吸气口正对相应一个三次气管的喷气口设置。本实用新型与传统的二级式真空发生器相比，在相同的高压气流作用下，具有更大的真空流量和更快的吸附物体速度。

Description

集成式真空发生器

技术领域

本实用新型属于真空发生装置，具体涉及一种集成式真空发生器。

背景技术

传统上较普遍采用的抽真空设备主要是机械式真空泵，机械式真空泵是依靠电机带动泵内机件的往复运动或回转运动抽出某空间的气体而获得真空的。由于机械式真空泵需配有专门的电机驱动，其缺点是结构复杂、体积大、成本高、寿命短。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种结构较为简化、体积较小、成本较低、且无需电机驱动的集成式真空发生器。

实现本实用新型目的的技术方案是：一种集成式真空发生器，包括上盖和底座，所述上盖上依次设有进气口、真空口、和排气口；所述底座上依次设有与进气口连通的进气腔，与真空口连通的一次真空腔、二次真空腔、三次真空腔，和与排气口连通的排气腔；所述一次真空腔中设有一次气管，所述一次气管的吸气口位于进气腔内，其喷气口位于一次真空腔内；所述二次真空腔中设有二次气管，所述二次气管的吸气口位于一次真空腔内，其喷气口位于二次真空腔内；所述各二次气管的吸气口正对相应一个一次气管的喷气口设置；所述三次真空腔中设有三次气管，所述三次气管的吸气口位于二次真空腔内，其喷气口位于三次真空腔内；所述各三次气管的吸气口正对相应一个二次气管的喷气口设置；所述排气腔中设有排气管，所述排气管的吸气口位于三次真空腔内，其喷气口位于排气腔中；所述各排气管的吸气口正对相应一个三次气管的喷气口设置。

上述方案中，所述底座与上盖之间设有罩板，所述罩板上设有与底座进气腔连通的进气孔、与底座一次真空腔连通的一次真空孔、与底座二次真空腔连通的二次真空孔、与底座三次真空腔连通的三次真空孔、与底座排气腔连通的排气孔。

上述方案中，所述罩板在二次真空孔和三次真空孔处设有用于防止各真空腔中气体流至真空口的止回件。

上述方案中，所述各止回件是一个具有密封膜片的弹性塞，所述密封膜片位于二次真空孔和三次真空孔接近底座的一侧端。

上述方案中，所述罩板在一次真空孔处设有用于防止各真空腔中气体流至真空口的止回件，该止回件是一个具有密封膜片的弹性塞，所述密封膜片位于一次真空孔接近底座的一侧端。

上述方案中，所述进气口、真空口、和排气口设置在上盖的外侧端；所述上盖的内侧端设有用于与进气口连通的进气腔、与真空口连通的真空腔和与排气口连通的排气腔；所述上盖的进气腔正对底座的进气腔设置，所述上盖的真空腔正对底座的一次真空腔、二次真空腔、和三次真空腔设置，所述上盖的排气腔正对底座的排气腔设置；所述罩板上的进气孔正对底座的进气腔设置，所述罩板上的一次真空孔正对底座的一次真空腔设置，所述罩板上的二次真空孔正对底座的二次真空腔设置，所述罩板上的三次真空孔正对底座的三次真空腔设置。

上述方案中，所述上盖上还设有与底座上一次真空腔、二次真空腔、和三次真空腔连通的节能口。

上述方案中，还包括一平衡阀，所述平衡阀包括设有进气口、出气口、平衡口的阀体，位于阀体内的平衡阀芯，和为平衡阀芯85提供复位弹力的复位弹簧；所述阀体的出气口与上盖的进气口连通，所述阀体的平衡口与上盖的节能口连通；所述平衡阀芯在真空吸附力作用下克服复位弹簧的复位弹力移动并封堵住出气口。

上述方案中，所述底座与罩板之间还设有至少一个中座；所述中座上依次设有与上盖上进气口以及底座上进气腔均连通的进气腔，与上盖上真空口以及底座上一次真空腔均连通的一次真空腔，与上盖上真空口以及底座上二次真空腔均连通的二次真空腔、与上盖上真空口以及底座上三次真空腔均连通的三次真空腔，和与上盖上排气口以及底座上排气腔均连通的排气腔；所述中座上的一次真空腔中设有一次气管，该一次气管的吸气口位于中座上的进气腔内，该一次气管的喷气口位于中座上的一次真空腔内；所述中座上的二次真空腔中设有二次气管，该二次气管的吸气口位于中座上的一次真空腔内，该二次气管的喷气口位于中座上的二次真空腔内；该二次气管的吸气口正对中座上相应一个一次气管的喷气口设置；所述中座上的三次真空腔中设有三次气管，该三次气管的吸气口位于中座上的二次真空腔内，该三次气管的喷气口位于中座上的三次真空腔内；所述各三次气管的吸气口正对中座上相应一个二次气管的喷气口设置；所述中座上的排气腔中设有排气管，该排气管的吸气口位于三次真空腔内，该排气管的喷气口位于中座上的排气腔中；所述各排气管的吸气口正对中座上相应一个三次气管的喷气口设置。

上述方案中，所述底座中一次气管、二次气管、三次气管和排气管的数量均为两个；所述中座中一次气管、二次气管、三次气管和排气管的数量均为两个。

本实用新型具有积极的效果：(1)本实用新型在使用时，通过向上盖的进气口中送入持续高压气流，气流先进入进气腔，接着从进气腔中一次气管的吸气口进入一次气管，接着从一次气管的喷气口进入到二次气管中，再从二次气管的喷气口进入到三次气管中，最后从三次气管的喷气口进入到排气管中；在持续的高压高速气流作用下，底座以及中座的一次真空腔中的气体被吸附至二次气管中，二次真空腔中的气体被吸附至三次气管中，三次真空腔中的气体被吸附至排气管中，而一次真空腔、二次真空腔和三次真空腔又与上盖的真空口连通，从而在上盖的真空口处产生真空吸附效应。本实用新型的结构较为合理紧凑，整体体积较小，成本较低，且无需使用电机作为真空动力源。另外，本实用新型通过三级真空抽吸方式，在产生同样真空度的情况下，具有更大的真空流量值和更快的吸附速度。

附图说明

图1为本实用新型第一种结构的一种立体结构示意图；

图2为图1所示集成式真空发生器的一种爆炸图；

图3为图1所示集成式真空发生器从另一角度观察时的一种爆炸图；

图4为图1所示集成式真空发生器中底座的一种俯视图；

图5为图4所示底座沿A-A线的剖视图；

图6为本实用新型第二种结构的一种立体结构示意图；

图7为图6所示集成式真空发生器的一种爆炸图；

图8为图7所示集成式真空发生器从另一角度观察时的一种爆炸图；

图9是本实用新型第三种结构中平衡阀与上盖连接的一种结构示意图。

附图标记为：上盖1，进气口11，真空口12，排气口13，进气腔14，真空腔15，排气腔16，节能口17，底座2，进气腔21，一次真空腔22，二次真空腔23，三次真空腔24，排气腔25，测量口26，一次气管31，一次气管吸气口311，一次气管喷气口312，二次气管32，二次气管吸气口321，二次气管喷气口322，三次气管33，三次气管吸气口331，三次气管喷气口332，排气管34，排气管吸气口341，排气管喷气口342，罩板4，进气孔41，一次真空孔42，二次真空孔43，三次真空孔44，排气孔45，止回件5，密封膜片51，中座6，进气腔61，一次真空腔62，二次真空腔63，三次真空腔64，排气腔65，一次气管71，二次气管72，三次气管73，排气管74，平衡阀8，进气口81，出气口82，平衡口83，阀体84，平衡阀芯85，复位弹簧86；直线状气流通道100。

具体实施方式

(实施例1)

图1至图5公开了本实用新型的一种具体实施方式，其中图1为本实用新型第一种结构的一种立体结构示意图；图2为图1所示集成式真空发生器的一种爆炸图；图3为图1所示集成式真空发生器从另一角度观察时的一种爆炸图；图4为图1所示集成式真空发生器中底座的一种俯视图；图5为图4所示底座沿A-A线的剖视图。

本实施例是一种三级集成式真空发生器，见图1至图5，从上到下依次包括上盖(1、罩板4、和底座2。

见图1至图3，所述上盖1的外侧端也即顶壁上依次设有进气口11、真空口12、节能口17和排气口13；所述上盖1的内侧端也即内壁上设有用于与进气口11连通的进气腔14、与真空口12及节能口17连通的真空腔15和与排气口13连通的排气腔16。本实施例中节能口17用螺栓封堵住，是个封闭口。

见图2和图3，所述罩板4设置在底座2与上盖1之间，所述罩板4上设有与底座进气腔21连通的进气孔41、与底座一次真空腔22连通的一次真空孔42、与底座二次真空腔23连通的二次真空孔43、与底座三次真空腔24连通的三次真空孔44、与底座排气腔25连通的排气孔45。

所述罩板4在二次真空孔43和三次真空孔44处设有用于防止各真空腔中气体流至真空口12的止回件5。所述各止回件5是一个具有密封膜片51的弹性塞，所述密封膜片51位于二次真空孔43和三次真空孔44接近底座2的一侧端。该止回件5有效防止底座上一次真空腔、二次真空腔、三次真空腔中的气体回流至真空口，在一定程度上提高了真空口处的吸附能力。

见图2至图5，所述底座2上依次设有与进气口11连通的进气腔21，与真空口12连通的一次真空腔22、二次真空腔23、三次真空腔24，和与排气口13连通的排气腔25。所述一次真空腔22中设有两个一次气管31，所述一次气管的吸气口311位于进气腔21内，其喷气口312位于一次真空腔22内；所述二次真空腔23中设有两个二次气管32，所述二次气管的吸气口321位于一次真空腔22内，其喷气口322位于二次真空腔23内；所述各二次气管的吸气口321正对相应一个一次气管的喷气口312设置；所述三次真空腔24中设有两个三次气管33，所述三次气管的吸气口331位于二次真空腔23内，其喷气口332位于三次真空腔24内；所述各三次气管的吸气口331正对相应一个二次气管的喷气口322设置；所述排气腔25中设有两个排气管34，所述排气管的吸气口341位于三次真空腔24内，其喷气口342位于排气腔25中；所述各排气管的吸气口341正对相应一个三次气管的喷气口332设置。

所述上盖1的进气腔14正对底座2的进气腔21设置，所述上盖1的真空腔15正对底座2的一次真空腔22、二次真空腔23、和三次真空腔24设置，所述上盖1的排气腔16正对底座2的排气腔25设置。

见图2和图3，所述罩板4上的进气孔41正对底座2的进气腔21设置，所述罩板4上的一次真空孔42正对底座2的一次真空腔22设置，所述罩板4上的二次真空孔43正对底座2的二次真空腔23设置，所述罩板4上的三次真空孔44正对底座2的三次真空腔24设置。

本实施例在使用时，向上盖1的进气口11中送入持续高压高速气流，气流先进入进气腔，接着从底座进气腔中一次气管的吸气口进入一次气管，接着从一次气管的喷气口进入到二次气管中，再从二次气管的喷气口进入到三次气管中，最后从三次气管的喷气口进入到排气管中。在持续的高压高速气流作用下，二次气管的吸气口不仅接受一次气管喷气口中喷出的高压高速气流，还从一次真空腔中中吸入气体，从而在上盖内壁上真空腔以及在上盖顶壁上的真空口处形成一定的真空。三次气管和排气管的吸气口也分别吸入二次真空腔和三次真空腔中的气体，从而提高上盖顶壁真空口处的真空程度。本实用新型通过三级真空抽吸方式，使其在产生同样真空度的情况下，具有更大的真空流量值和更快的吸附速度。

(实施例2)

图6至图8显示了本实用新型的第二种具体实施方式，其中，图6为本实用新型第二种结构的一种立体结构示意图；图7为图6所示集成式真空发生器的一种爆炸图；图8为图7所示集成式真空发生器从另一角度观察时的一种爆炸图。

本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于：见图6至图8，所述底座2与罩板4之间还设有一个中座6。

所述中座6上依次设有与上盖1上进气口11以及底座2上进气腔21均连通的进气腔61，与上盖1上真空口12以及底座2上一次真空腔22均连通的一次真空腔62，与上盖1上真空口12以及底座2上二次真空腔23均连通的二次真空腔63、与上盖1上真空口12以及底座2上三次真空腔24均连通的三次真空腔64，和与上盖1上排气口13以及底座2上排气腔25均连通的排气腔65；所述中座6上的一次真空腔62中设有两个一次气管71，该一次气管的吸气口位于中座6上的进气腔61内，该一次气管的喷气口位于中座6上的一次真空腔62内；所述中座6上的二次真空腔63中设有两个二次气管72，该二次气管的吸气口位于中座6上的一次真空腔62内，该二次气管的喷气口位于中座6上的二次真空腔63内；该二次气管72的吸气口正对中座6上相应一个一次气管71的喷气口设置；所述中座6上的三次真空腔64中设有两个三次气管73，该三次气管的吸气口位于中座6上的二次真空腔63内，该三次气管的喷气口位于中座6上的三次真空腔64内；所述各三次气管的吸气口正对中座6上相应一个二次气管72的喷气口设置；所述中座6上的排气腔65中设有两个排气管74，该排气管的吸气口位于三次真空腔64内，该排气管的喷气口位于中座6上的排气腔65中；所述各排气管的吸气口正对中座6上相应一个三次气管的喷气口设置。

另外，本实施例中底座2的底壁上设有一个与一次真空腔22连通的测压口26，通过该测压口26可外接真空表。

本实施例通过设置中座，进一步提高真空流量值，从而在真空口处具有更快的物体吸附速度。

(实施例3)

图9是本实用新型第三种结构中平衡阀与上盖连接的一种结构示意图，显示了本实用新型的第三种具体实施方式。

本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于：见图9，还包括一平衡阀8，本实施例中的节能口17不再用螺栓封堵住。所述平衡阀8包括设有进气口81、出气口82、平衡口83的阀体84，位于阀体84内的平衡阀芯85，和用于为平衡阀芯85提供复位弹力的复位弹簧86；所述阀体84的出气口82与上盖1的进气口11连通，所述阀体84的平衡口83与上盖1的节能口17连通；所述平衡阀芯85在真空吸附力作用下克服复位弹簧86的复位弹力移动并封堵住出气口82，使得高压气体不能再进入上盖1的进气口11中。

本实施例的优点是：当真空口的真空度达到预设值后，平衡阀芯85在真空吸附力作用下克服复位弹簧86的复位弹力移动并封堵住出气口82，从而不再需要向上盖的进气口11中通入高压高速气流也能在一定时间内维持该真空度，从而有效降低能耗。

(实施例4)

本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于：所述罩板4在一次真空孔42处设有用于防止各真空腔中气体流至真空口12的止回件5，该止回件5是一个具有密封膜片51的弹性塞，所述密封膜片51位于一次真空孔42接近底座2的一侧端。

(实施例5)

本实施例与实施例2基本相同，不同之处在于：所述中座6的数量是三个。

(实施例6)

本实施例与实施例2基本相同，不同之处在于：实施例2中，所述底座和中座中，共有两组由一次气管、二次气管、三次气管和排气管组成的直线状气流通道100；本实施例中，其中一组直线状气流通道100被堵塞，也即一组用于排成之现状气流通道100的一次气管、二次气管、三次气管和排气管被封堵住，不能通气；从而使本实施例成为只具有一组直线状气流通道100的单管式真空发生器。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而这些属于本实用新型的实质精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种集成式真空发生器，包括上盖(1)和底座(2)，所述上盖(1)上依次设有进气口(11)、真空口(12)、和排气口(13)；其特征在于：

所述底座(2)上依次设有与进气口(11)连通的进气腔(21)，与真空口(12)连通的一次真空腔(22)、二次真空腔(23)、三次真空腔(24)，和与排气口(13)连通的排气腔(25)；

所述一次真空腔(22)中设有一次气管(31)，所述一次气管的吸气口(311)位于进气腔(21)内，其喷气口(312)位于一次真空腔(22)内；

所述二次真空腔(23)中设有二次气管(32)，所述二次气管的吸气口(321)位于一次真空腔(22)内，其喷气口(322)位于二次真空腔(23)内；所述各二次气管的吸气口(321)正对相应一个一次气管的喷气口(312)设置；

所述三次真空腔(24)中设有三次气管(33)，所述三次气管的吸气口(331)位于二次真空腔(23)内，其喷气口(332)位于三次真空腔(24)内；所述各三次气管的吸气口(331)正对相应一个二次气管的喷气口(322)设置；

所述排气腔(25)中设有排气管(34)，所述排气管的吸气口(341)位于三次真空腔(24)内，其喷气口(342)位于排气腔(25)中；所述各排气管的吸气口(341)正对相应一个三次气管的喷气口(332)设置。

2.根据权利要求1所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述底座(2)与上盖(1)之间设有罩板(4)，所述罩板(4)上设有与底座进气腔(21)连通的进气孔(41)、与底座一次真空腔(22)连通的一次真空孔(42)、与底座二次真空腔(23)连通的二次真空孔(43)、与底座三次真空腔(24)连通的三次真空孔(44)、与底座排气腔(25)连通的排气孔(45)。

3.根据权利要求2所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述罩板(4)在二次真空孔(43)和三次真空孔(44)处设有用于防止各真空腔中气体流至真空口(12)的止回件(5)。

4.根据权利要求3所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述各止回件(5)是一个具有密封膜片(51)的弹性塞，所述密封膜片(51)位于二次真空孔(43)和三次真空孔(44)接近底座(2)的一侧端。

5.根据权利要求4所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述罩板(4)在一次真空孔(42)处设有用于防止各真空腔中气体流至真空口(12)的止回件(5)，该止回件(5)是一个具有密封膜片(51)的弹性塞，所述密封膜片(51)位于一次真空孔(42)接近底座(2)的一侧端。

6.根据权利要求5所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述进气口(11)、真空口(12)、和排气口(13)设置在上盖(1)的外侧端；所述上盖(1)的内侧端设有用于与进气口(11)连通的进气腔(14)、与真空口(12)连通的真空腔(15)和与排气口(13)连通的排气腔(16)；

所述上盖(1)的进气腔(14)正对底座(2)的进气腔(21)设置，所述上盖(1)的真空腔(15)正对底座(2)的一次真空腔(22)、二次真空腔(23)、和三次真空腔(24)设置，所述上盖(1)的排气腔(16)正对底座(2)的排气腔(25)设置；

所述罩板(4)上的进气孔(41)正对底座(2)的进气腔(21)设置，所述罩板(4)上的一次真空孔(42)正对底座(2)的一次真空腔(22)设置，所述罩板(4)上的二次真空孔(43)正对底座(2)的二次真空腔(23)设置，所述罩板(4)上的三次真空孔(44)正对底座(2)的三次真空腔(24)设置。

7.根据权利要求2所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述上盖(1)上还设有与底座(2)上一次真空腔(22)、二次真空腔(23)、和三次真空腔(24)连通的节能口(17)。

8.根据权利要求7所述的集成式真空发生器，其特征在于：还包括一平衡阀(8)，所述平衡阀(8)包括设有进气口(81)、出气口(82)、平衡口(83)的阀体(84)，位于阀体(84)内的平衡阀芯(85)，和为平衡阀芯85提供复位弹力的复位弹簧(86)；所述阀体(84)的出气口(82)与上盖(1)的进气口(11)连通，所述阀体(84)的平衡口(83)与上盖(1)的节能口(17)连通；所述平衡阀芯(85)在真空吸附力作用下克服复位弹簧(86)的复位弹力移动并封堵住出气口(82)。

9.根据权利要求2所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述底座(2)与罩板(4)之间还设有至少一个中座(6)；

所述中座(6)上依次设有与上盖(1)上进气口(11)以及底座(2)上进气腔(21)均连通的进气腔(61)，与上盖(1)上真空口(12)以及底座(2)上一次真空腔(22)均连通的一次真空腔(62)，与上盖(1)上真空口(12)以及底座(2)上二次真空腔(23)均连通的二次真空腔(63)、与上盖(1)上真空口(12)以及底座(2)上三次真空腔(24)均连通的三次真空腔(64)，和与上盖(1)上排气口(13)以及底座(2)上排气腔(25)均连通的排气腔(65)；

所述中座(6)上的一次真空腔(62)中设有一次气管(71)，该一次气管的吸气口位于中座(6)上的进气腔(61)内，该一次气管的喷气口位于中座(6)上的一次真空腔(62)内；

所述中座(6)上的二次真空腔(63)中设有二次气管(72)，该二次气管的吸气口位于中座(6)上的一次真空腔(62)内，该二次气管的喷气口位于中座(6)上的二次真空腔(63)内；该二次气管(72)的吸气口正对中座(6)上相应一个一次气管(71)的喷气口设置；

所述中座(6)上的三次真空腔(64)中设有三次气管(73)，该三次气管的吸气口位于中座(6)上的二次真空腔(63)内，该三次气管的喷气口位于中座(6)上的三次真空腔(64)内；所述各三次气管的吸气口正对中座(6)上相应一个二次气管(72)的喷气口设置；

所述中座(6)上的排气腔(65)中设有排气管(74)，该排气管的吸气口位于三次真空腔(64)内，该排气管的喷气口位于中座(6)上的排气腔(65)中；所述各排气管的吸气口正对中座(6)上相应一个三次气管的喷气口设置。

10.根据权利要求9所述的集成式真空发生器，其特征在于：所述底座(2)中一次气管(31)、二次气管(32)、三次气管(33)和排气管(34)的数量均为两个；

所述中座(6)中一次气管(71)、二次气管(72)、三次气管(73)和排气管(74)的数量均为两个。

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