CN102730445A - 一种真空吸取装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空吸取装置,涉及真空吸取技术领域,本发明技术要点:包括吸取主体、真空发生块、弹性垫;吸取主体内具有一个上下开口的空腔;真空发生块的内部具有一个进气通道及射流通道;进气通道与射流通道连通;真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分以及通过所述下开口与外界连通的第二部分;所述进气通道的出气口位于第一部分空腔内;射流通道的出气口位于第二部分空腔内;射流通道的出气口口径小于进气通道的进气口口径;弹性垫位于真空发生块的底部。本发明主要用于冲压薄板生产领域中,具体是吸取薄板。
Description
技术领域
本发明涉及真空吸取技术领域,尤其是一种用于冲压薄板生产领域中的真空吸取装置。
背景技术
在冲压薄板的生产领域常常使用真空吸取装置进行薄板的吸取。
现有技术中,真空发生装置主要有两种:一种是利用真空泵产生,这种真空泵利用机械原理, 将电能转化为定子的动能,定子高速旋转带动叶片,叶片的不断旋转使得壳体内的容积不断发生变化,促使空气的排除和吸入加快,行成真空。这种真空泵体积大,质量重,噪音大,耗能高;另一种是采用文丘里原理产生真空的真空发生器,它相比真空泵而言体积小,质量轻,但是结构一样比较复杂,工艺难度高;且在产品表面有脏污或杂屑的情况下则还需要增加过滤装置。
当这两种真空发生装置要达到吸取产品的目的还需要有真空吸盘的配合,这样在一些表面有脏污或者安装位置有限的情况下,它们的作用就会大打折扣。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的不足提供带有真空发生模块的吸取装置。
本发明提供的一种真空吸取装置是这样的,包括吸取主体、真空发生块、弹性垫;吸取主体内具有一个上下开口的空腔;
真空发生块内部具有进气通道、导流通道及射流通道;进气通道与导流通道连通;
真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分、封闭的第二部分以及通过所述下开口与外界连通的第三部分;
所述进气通道的进气口位于第一部分空腔内;所述导流通道的出气口位于第二部分空腔内;射流通道的进气口位于第二部分空腔内,射流通道的出气口位于第三部分空腔内,且射流通道的出气口口径小于其进气口口径;
弹性垫位于真空发生块的底部。
优选地,所述吸取主体为纵截面是“凸”形的柱状结构;所述第一部分空腔与第二部分空腔均为圆柱体形状,且第一部分空腔的底面半径小于第二部分空腔的底面半径;第三部分空腔为上底面半径大于第二部分空腔底面半径的圆台,第三部分空腔的上底面半径小于其下底面半径;
真空发生块包括上部与下部,上部与下部固定连接或一体成型;上部与下部均为圆柱体形状,且上部的底面半径小于下部的底面半径;所述进气通道与导流通道均位于上部;射流通道位于下部。
优选地,所述进气通道为圆柱形。
优选地,所述导流通道为开设在进气通道侧壁上的通孔。
优选地,所述导流通道数量为2,两个导流通道的中心轴线在同一条直线上。
优选地,射流通道数量大于1,各个射流通道出气口均匀设置在真空发生块下部的侧壁一周,各个射流通道的进气口均匀设置在真空发生块下部上底面边沿的一周。
本发明还提供了另一种真空吸取装置,包括吸取主体、真空发生块、弹性垫;吸取主体内具有一个上下开口的空腔;
真空发生块的内部具有一个进气通道及射流通道;进气通道与射流通道连通;
真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分以及通过所述下开口与外界连通的第二部分;
所述进气通道的出气口位于第一部分空腔内;射流通道的出气口位于第二部分空腔内;射流通道的出气口口径小于进气通道的进气口口径;
弹性垫位于真空发生块的底部。
优选地,所述吸取主体为纵截面是“凸”形的柱状结构;所述第一部分空腔为圆柱体形状;第二部分空腔为上底面半径大于第一部分空腔底面半径的圆台,第二部分空腔的上底面半径小于其下底面半径;
真空发生块包括上部与下部,上部与下部固定连接或一体成型;上部与下部均为圆柱体形状,且上部的底面半径小于下部的底面半径。
优选地,所述进气通道为圆柱形。
优选地,所述射流通道为多个;各个射流通道出气口均匀设置在真空发生块下部的侧壁一周。
综上所述,由于采用了上述技术方案,本发明的有益效果是:
1.将真空发生装置与吸取的功能集于一体,结构简单,响应快,重量轻,成本低廉;
2.本发明的吸取效果不受被吸取物表面脏污的影响;
3.本发明不需要加装过滤装置,进一步节省了成本。
附图说明
本发明将通过例子并参照附图的方式说明,其中:
图1是本发明中吸取主体一个具体实施例的结构图。
图2是本发明中真空发生块一个具体实施例的结构图。
图3是将图2中的真空发生块放入图1中的吸取主体后的结构图。
图4是图3的A向视图。
图5是本发明的另一个实施例结构图
图中标记:1吸取主体;2真空发生块;3弹性垫;4空腔上开口;5导流通道;6射流通道;7进气通道;8空腔;9空腔下开口;81通过上开口与外界连通的空腔部分;82密闭空腔部分;83通过下开口与外界连通的空腔部分。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即,除非特别叙述,每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
实施例1:
本发明的真空吸取装置一个具体实施方式是这样的:包括吸取主体、真空发生块、弹性垫。
吸取主体内具有一个上下开口的空腔。
真空发生块内部具有进气通道、导流通道及射流通道,其中,进气通道与导流通道连通。
真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分、封闭的第二部分以及通过所述下开口与外界连通的第三部分。
所述进气通道的进气口于第一部分空腔内;所述导流通道出气口位于第二部分空腔内;射流通道的进气口位于第二部分空腔内,射流通道的出气口位于第三部分空腔内;且射流通道的进气口大于其出气口。导流通道在第二部分空腔的开口,封闭的第二部分空腔及射流通道在第二部分的开口就构成了连通导流通道与射流通道的结构。
弹性垫位于真空发生块的底部。
弹性垫优选为橡胶或者优力胶制成。
压缩空气通过吸取主体的上开口、真空发生块的进气通道进入真空发生块中,压缩空气再通过进气通道进入到导流通道,然后继续流经第二部分空腔、射流通道的进气口,最后由口径较小的射流通道出气口高速喷出。喷射出来的高速气流沿着第三部分空腔内表面、吸取主体的下表面流动,席卷走吸取主体底部附近的气体,使吸取主体的下表面附近形成一定的真空度,从而在弹性垫与被吸取物接触时达到吸住被吸取物的目的。
实施例2:
如图1~4,本发明的真空吸取装置另一个具体实施方式是在实施例1的基础上进行了改进,具体是这样的:将所述吸取主体设计为纵截面是“凸”形的柱状结构,这样吸取主体的底面为圆形,有利于扩大吸取面积。
吸取主体内空腔是这样的:所述第一部分空腔与第二部分空腔也均为圆柱体形状,位于上面的第一部分空腔的底面半径小于位于下面的第二部分空腔的底面半径。第三部分空腔为上底面半径大于第二部分空腔底面半径的圆台,第三部分空腔的上底面半径小于其下底面半径。
真空发生块包括上部与下部,上部与下部之间的连接关系可以是固定连接也可以是一体成型。上部与下部均为圆柱体形状,且上部的底面半径小于下部的底面半径。吸取主体的第一部分空腔、第二部分空腔、第三部分空腔、真空发生块的上部及真空发生块的下部中心轴线基本在同一条直线上。
所述进气通道与导流通道均位于上部;射流通道位于下部。
所述进气通道为圆柱形,进气通道进气口位于第一部分空腔中,朝向吸取主体内部空腔的上开口。
导流通道为开设在进气通道侧壁上的通孔,导流通道的出气口朝向第二部分空腔。优选的,所述导流通道数量为2,两个导流通道的中心轴线在同一条直线上。
所述射流通道数量大于1,各个射流通道的出气口均匀设置在真空发生块下部的侧壁一周,各个射流通道的进气口均匀设置在真空发生块下部上底面边沿的一周,射流通道的出气口小于其进气口。因为真空发生块的下部的上底面半径大于上部的下底面半径,其下部的上底面必然存在一部分没有被上部覆盖而暴露于第二部分空腔中,所述各个射流通道的进气口正是均匀设置在暴露于第二部分空腔中的真空发生块下部的上底面一周。优选地,各个射流通道为两个连通的圆柱体,两个圆柱体的中心轴线具有一定的夹角,本实施例中夹角为直角。
根据上述内容本领域技术人员不难知晓,导流通道在第二部分空腔的开口,封闭的第二部分空腔及射流通道在第二部分的开口就构成了连通导流通道与射流通道的结构。
压缩空气通过吸取主体的上开口、真空发生块的进气通道进入真空发生块中,压缩空气再通过进气通道进入到导流通道,然后继续流经第二部分空腔、射流通道的进气口,最后由口径较小的各个射流通道出气口同时高速喷出。各路喷射出来的高速气流沿着第三部分空腔内的斜面、吸取主体的下表面流动,卷走吸取主体底部附近的气体,使吸取主体的下表面附近形成一定的真空度,从而在弹性垫与被吸取物接触时达到吸住被吸取物的目的。
实施例3:
本发明的另一个实施例是这样的:包括吸取主体、真空发生块、弹性垫;吸取主体内具有一个上下开口的空腔。
真空发生块内部具有进气通道及射流通道;进气通道与射流通道连通。
真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分以及通过所述下开口与外界连通的第二部分。
所述进气通道的进气口位于第一部分空腔内,朝向空腔的上开口;射流通道的出气口位于第二部分空腔内。射流通道的出气口小于进气通道的进气口。
弹性垫位于真空发生块的底部。
压缩空气通过吸取主体的上开口、真空发生块的进气通道进入真空发生块中,压缩空气再通过进气通道进入到射流通道,由口径较小的射流通道出气口高速喷出。喷射出来的高速气流沿着第二部分空腔内表面、吸取主体的下表面流动,席卷走吸取主体底部附近的气体,使吸取主体的下表面附近形成一定的真空度,从而在弹性垫与被吸取物接触时达到吸住被吸取物的目的。
实施例4:
如图5,本实施例是在实施例3的基础上做了进一步改进。
所述吸取主体为纵截面是“凸”形的柱状结构;所述第一部分空腔为圆柱体形状;第二部分空腔为上底面半径大于第一部分空腔底面半径的圆台,第二部分空腔的上底面半径小于其下底面半径。
真空发生块包括上部与下部,上部与下部固定连接或一体成型;上部与下部均为圆柱体形状,且上部的底面半径小于下部的底面半径。
所述进气通道为圆柱形。多个射流通道的出气口均匀设置在真空发生块下部的侧壁一周。
压缩空气通过吸取主体的上开口、真空发生块的进气通道进入真空发生块中,压缩空气再通过进气通道进入到各个射流通道,由各个口径较小的射流通道出气口同时高速喷出。喷射出来的高速气流沿着第三部分空腔内的斜面、吸取主体的下表面流动,席卷走吸取主体底部附近的气体,使吸取主体的下表面附近形成一定的真空度,从而在弹性垫与被吸取物接触时达到吸住被吸取物的目的。
本发明并不局限于前述的具体实施方式。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合,以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。
Claims (10)
1.一种真空吸取装置,其特征在于,包括吸取主体、真空发生块、弹性垫;吸取主体内具有一个上下开口的空腔;
真空发生块内部具有进气通道、导流通道及射流通道;进气通道与导流通道连通;
真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分、封闭的第二部分以及通过所述下开口与外界连通的第三部分;
所述进气通道的进气口位于第一部分空腔内;所述导流通道的出气口位于第二部分空腔内;射流通道的进气口位于第二部分空腔内,射流通道的出气口位于第三部分空腔内,且射流通道的出气口口径小于其进气口口径;
弹性垫位于真空发生块的底部。
2.根据权利要求1所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述吸取主体为纵截面是“凸”形的柱状结构;所述第一部分空腔与第二部分空腔均为圆柱体形状,且第一部分空腔的底面半径小于第二部分空腔的底面半径;第三部分空腔为上底面半径大于第二部分空腔底面半径的圆台,第三部分空腔的上底面半径小于其下底面半径;
真空发生块包括上部与下部,上部与下部固定连接或一体成型;上部与下部均为圆柱体形状,且上部的底面半径小于下部的底面半径;所述进气通道与导流通道均位于上部;射流通道位于下部。
3.根据权利要求2所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述进气通道为圆柱形。
4.根据权利要求3所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述导流通道为开设在进气通道侧壁上的通孔。
5.根据权利要求4所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述导流通道数量为2,两个导流通道的中心轴线在同一条直线上。
6.根据权利要求3或4或5所述的一种真空吸取装置,其特征在于,射流通道数量大于1,各个射流通道出气口均匀设置在真空发生块下部的侧壁一周,各个射流通道的进气口均匀设置在真空发生块下部上底面边沿的一周。
7.一种真空吸取装置,其特征在于,包括吸取主体、真空发生块、弹性垫;吸取主体内具有一个上下开口的空腔;
真空发生块的内部具有一个进气通道及射流通道;进气通道与射流通道连通;
真空发生块位于所述空腔中,将所述空腔分为通过上开口与外界连通的第一部分以及通过所述下开口与外界连通的第二部分;
所述进气通道的出气口位于第一部分空腔内;射流通道的出气口位于第二部分空腔内;射流通道的出气口口径小于进气通道的进气口口径;
弹性垫位于真空发生块的底部。
8.根据权利要求7所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述吸取主体为纵截面是“凸”形的柱状结构;所述第一部分空腔为圆柱体形状;第二部分空腔为上底面半径大于第一部分空腔底面半径的圆台,第二部分空腔的上底面半径小于其下底面半径;
真空发生块包括上部与下部,上部与下部固定连接或一体成型;上部与下部均为圆柱体形状,且上部的底面半径小于下部的底面半径。
9.根据权利要求8所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述进气通道为圆柱形。
10.根据权利要求8或9所述的一种真空吸取装置,其特征在于,所述射流通道为多个;各个射流通道出气口均匀设置在真空发生块下部的侧壁一周。
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