CN201979066U - 大方坯结晶器液位控制机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种大方坯结晶器液位控制机构,包括一框板、所述框板上端面为一开设有圆孔的上底板,下底面为一开设有圆孔的下推板,该机构还包括一内框,内框嵌入框板内,内框的一端有一固定块,另一端开设有滑槽,滑槽内设置有一可在滑槽内移动的移动块,框板的侧面设置有一推杆装置,移动块在初始位置时,与固定块形成一开口。本实用新型提供了一种带有中间滑板的液位控制机构,只通过滑动中间滑板,保持上下滑板固定不动,从而在控制流量的同时又保证了浇铸通道的对中。
Description
技术领域
本实用新型涉及液位控制装置,尤其涉及一种连铸用中间包大方坯结晶器液位控制机构。
背景技术
在大方坯结晶器的浇铸时,通常都是通过中间包底面下部的滑板控制钢水的流量,现有的方法通过固定上滑板,移动下滑板进行控制,然后这样的方式容易产生使得上下水口形成的浇铸通道位置错位而不对中,从而影响浇铸。
实用新型内容
本实用新型的目的在于解决上述的技术问题,提供一种大方坯结晶器液位控制机构。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:
一种大方坯结晶器液位控制机构,包括一框板、所述框板上端面为一开设有圆孔的上底板,下底面为一开设有圆孔的下推板,上底板和下推板上的圆孔直径相同,且圆心在同一轴线上,该机构还包括一内框,所述内框嵌入框板内,内框的一端有一固定块,另一端开设有滑槽,滑槽内设置有一可在滑槽内移动的移动块,所述框板的侧面设置有一推杆装置,移动块在初始位置时,与固定块形成一开口。
本实用新型的有益效果主要体现在:提供一种带有中间滑板的液位控制机构,只通过滑动中间滑板,保持上下滑板固定不动,从而在控制流量的同时又保证了浇铸通道的对中。
附图说明
下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明:
图1:本实用新型整体结构示意图。
图2:本实用新型的装配示意图。
其中:
1 框板 11 上底板 2 内框
21 滑槽 31 移动块 32 固定块
4 下推板 41 推板密封圈 5 固定螺栓
51 内框密封圈 6 套管 61 密封圈
7 推杆固定装置 71 推杆
具体实施方式
本实用新型揭示了一种大方坯结晶器液位控制机构,如图1、图2所示,包括一框板1、框板1上端面为一开设有圆孔的上底板11,下底面为一开设圆孔的下推板4,为了保证下推板4与框板1的固定,在装配时,在下推板4的外围采用一推板密封圈4。上底板11和下推板4上开设的圆孔直径相同,且圆心在同一轴线上,框板1内嵌入有一内框2,为了使得内框2与框板1的紧密连接,内框2外套设有内框密封圈,而该内框2的一端为一固定块32,另一端开设有滑槽21,滑槽21内设置有一可在滑槽21内移动的移动块31,框板1的侧面设置有一推杆装置,该推杆装置通过推杆固定装置7固定于框板1上,推杆固定装置7内设置有推杆71,该推杆71通过套管6和密封圈61与移动块31连接,移动块31在初始位置时,与固定块32形成一开口。整个机构装配完成后,通过固定螺栓5将装置固定于中间包底面下部。
使用时,只需通过推杆装置对中间滑块及移动块31的移动,即可调节钢水流量,保持上下板得固定,从而避免浇铸通道难对中情形,间接的提高浇铸效率。
本实用新型尚有多种具体的实施方式,凡采用等同替换或者等效变换而形成的所有技术方案,均落在本实用新型要求保护的范围之内。
Claims (1)
1.一种大方坯结晶器液位控制机构,其特征在于:包括一框板、所述框板上端面为一开设有圆孔的上底板,下底面为一开设有圆孔的下推板,上底板和下推板上的圆孔直径相同,且圆心在同一轴线上,该机构还包括一内框,所述内框嵌入框板内,内框的一端有一固定块,另一端开设有滑槽,滑槽内设置有一可在滑槽内移动的移动块,所述框板的侧面设置有一用于推动移动块的推杆装置,移动块在初始位置时,与固定块形成一开口。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN2011200589234U CN201979066U (zh) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | 大方坯结晶器液位控制机构 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN2011200589234U CN201979066U (zh) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | 大方坯结晶器液位控制机构 |
Publications (1)
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CN201979066U true CN201979066U (zh) | 2011-09-21 |
Family
ID=44606534
Family Applications (1)
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CN2011200589234U Expired - Lifetime CN201979066U (zh) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | 大方坯结晶器液位控制机构 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN201979066U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102310180A (zh) * | 2011-03-09 | 2012-01-11 | 维苏威高级陶瓷(苏州)有限公司 | 大方坯结晶器液位控制机构 |
-
2011
- 2011-03-09 CN CN2011200589234U patent/CN201979066U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: VESUVIUS ADVANCED CERAMICS (CHINA) CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: VESUVIUS ADVANCED CERAMICS (SUZHOU) CO., LTD. |
|
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 215021 No. 221 Ming Street, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, China Patentee after: VESUVIUS ADVANCED CERAMICS (CHINA) CO., LTD. Address before: 215021 No. 221 Ming Street, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, China Patentee before: Vesuvius Ceramic (Suzhou) Co., Ltd. |
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CX01 | Expiry of patent term | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20110921 |