CN201959907U - 一种新型真空纳米技术涂膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶内的滚筒采用带有细孔的薄板作为外壳，使涂膜材料从不同方向进入沉积桶内，所述的沉积桶内腔采用细丝网且把内腔份成多等份。所述的承托架内部还设置有冷冻机和真空泵并且跟沉积桶相连。采用了带细孔的不锈钢薄板作沉积桶外壳，使涂膜机从不同的方向进入桶内而内腔又用了三角形形状份为多等份作为360度转动，使磁环在加工时不停转动，从而使磁环加工达到最佳效果，由于使用了细丝不锈钢网来做保护，所以使磁环在加工转动中减少了碰花现象。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种涂膜设备，特别是一种新型真空纳米技术涂膜设备。
背景技术
目前，表面涂膜技术已经广泛应用领域越来越广泛。现有市场上的涂膜机只能作磁环加工生产，不能作其它产品加工，在加工时产品只放在沉积桶内的下半部，通过微型电机带动细链轮，链条，大链轮转轴，转轴转动螺丝，转动螺丝转动沉积桶作360度转动，但其产品只可以在沉积桶下部滚动，所以产品有可能出现不一致的现象。
发明内容
本实用新型的目的就是为了解决现有技术之不足而研发的一种采用结构简单，加工效果好，使用方便的新型真空纳米技术涂膜设备。
本实用新型是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种新型真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶内的滚筒采用带有细孔的薄板作为外壳，使涂膜材料从不同方向进入沉积桶内，所述的沉积桶内腔采用细丝网且把内腔份成多等份。
所述的承托架内部还设置有冷冻机和真空泵并且跟沉积桶相连。
所述的机箱和承托架底部设置有移动轮。
本实用新型采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
采用了带细孔的不锈钢薄板作沉积桶外壳，使涂膜机从不同的方向进入桶内而内腔又用了三角形形状份为多等份作为360度转动，使磁环在加工时不停转动，从而使磁环加工达到最佳效果，由于使用了细丝不锈钢网来做保护，所以使磁环在加工转动中减少了碰花现象。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
如图一种新型真空纳米技术涂膜设备，包括机箱1、加热炉2、沉积桶3和承托架4组成，所述的加热炉2、沉积桶3和承托架4用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰6并用扣环7固定，其特征在于所述的沉积桶3采用带有细孔的薄板作为外壳5，使涂膜材料从不同方向进入沉积桶内，所述的沉积桶内腔采用细丝网且把内腔份成多等份8。
所述的承托架内部还设置有冷冻机9和真空泵10并且跟沉积桶相连。
本实用新型并不局限于上述实施例，本领域技术人员所做的任何变动，都属于本实用新型的保护范围。
Claims (2)
1.一种新型真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶内的滚筒采用带有细孔的薄板作为外壳，使涂膜材料从不同方向进入沉积桶内，所述的沉积桶内腔采用细丝网且把内腔份成多等份。
2.根据权利要求1所述的一种真空纳米技术涂膜设备，其特征在于：所述的承托架内部还设置有冷冻机和真空泵并且跟沉积桶相连。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011200842603U CN201959907U (zh) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 一种新型真空纳米技术涂膜设备 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN2011200842603U CN201959907U (zh) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 一种新型真空纳米技术涂膜设备 |
Publications (1)
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| CN201959907U true CN201959907U (zh) | 2011-09-07 |
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Family Applications (1)
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| CN2011200842603U Expired - Fee Related CN201959907U (zh) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 一种新型真空纳米技术涂膜设备 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN201959907U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102166555A (zh) * | 2011-03-24 | 2011-08-31 | 刘芝庆 | 一种新型真空纳米技术涂膜设备 |
-
2011
- 2011-03-24 CN CN2011200842603U patent/CN201959907U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
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| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110907 Termination date: 20150324 |
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