CN201788487U - 触摸面板 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种信息输入技术，尤其涉及一种触摸面板。该触摸面板包括基板、第一电极层以及第二电极层。该基板包括第一表面和与该第一表面正对的第二表面。该第一电极层和第二电极层分别形成于该基板的第一表面和第二表面上。该第一电极层为结晶透明导电膜，第二电极层为非晶透明导电膜形成的结晶透明导电膜。

Description

触摸面板

技术领域

本实用新型涉及一种信息输入技术，尤其是一种用于信息输入的触摸面板。

背景技术

触摸技术的出现，使信息输入方式不在局限于传统的键盘和鼠标。近年来，由于使用触摸输入技术可以使电子设备中原本用于制作传统键盘或输入键的位置，用于制成屏幕显示区域，使电子设备具有更宽更大的屏幕用于显示如文字、图片、视频等信息，进而使触摸技术取得了飞速发展。目前，触摸面板被广泛应用于人们的日常生活之中，其中，触摸面板比较典型地应用于手机、音乐视频播放器(MP3/MP4等)、个人数字助理、全球定位系统(GPS)、社会公共服务机构及大型公共场所的导航系统、金融机构及其他以大众为客户的企业的自助服务系统、个人掌上电脑等电子设备中。

触摸面板根据感测的原理不同可分为电阻式触摸面板、电容式触摸面板、超声波式触摸面板以及红外线式触摸面板。

其中，红外线式触摸面板和超声波式触摸面板是在触摸面板的X轴方向和Y轴方向的一侧设置红外线或超声波的发射源，并在另一侧设置接收器，当用户接触面板时，会干扰到所述红外线或超声波，通过测量和计算受到干扰的位置，确定触摸位置的坐标，并完成对应的输入动作。然而，红外线式触摸面板和超声波式触摸面板所发出的红外线或超声波容易因外界环境的干扰，如外界物质出现在红外线或超声波经过的区域而影响触控面板的感测和判断，进而可能出现误动作或误操作。

电阻式触摸面板由上下两组透明导电膜(ITO，Indium Tin Oxide，氧化铟锡膜)叠合而成，所述的透明导电膜包括多个电极。当用户触摸面板时，所述触控面板受用户施加的压力，使上下两组透明导电膜上触摸位置对应处的上下电极导通，通过控制器感测面板上的电压变化，计算出触摸点的位置，并完成相应输入操作。电阻式触摸面板相对于上述红外线式触摸面板和超声波式触摸面板而言，受外界环境的影响较小；但是电阻式触摸面板经常被挤压，容易发生形变甚至断裂，使所述触控面板的触控灵敏度下降，甚至丧失触控功能。

电容式触摸面板则是通过感测用户触摸点的电容变化来确定实际触摸点的位置，进而完成对应的输入操作。所述电容式触摸面板相对于上述电阻式触摸面板来说，触摸面板不需被挤压，只需轻轻触摸即可，因此，不会出现如电阻式触摸面板中出现的灵敏度下降的问题。

传统的电容式触摸面板通常包括触控电路，利用溅镀、涂胶、曝光、显影、刻蚀等一系列处理工艺，将透明导电材料如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)依次设置于透明玻璃基板的正对的两侧表面上，形成触控板。所述触控板包括形成于上述透明玻璃基板顶面的上层导电膜和形成于上述透明玻璃基板底面的下层导电膜。因此，可以利用上层导电膜和下层导电膜与人体之间产生的电容效应，检测实际触摸点的位置坐标。

所述触控电路的制作方式，传统上是在所述透明玻璃基板的顶面和底面分别真空溅镀一上层导电基材和一下层导电基材，并在所述上层导电基材表面涂布一上光阻层，同时在所述下层导电基材上涂布一保护层；使用具有镂空电路图样的掩模板覆盖在所述上光阻层上方，并使用紫外线光通过所述掩模板对所述上光阻层进行曝光。在完成曝光后，在所述上光阻层表面分布显影剂，对所述上光阻层进行显影，并促使所述上层导电基材裸露出一待接受刻蚀的区域。将所述上层导电基材裸露出的区域刻蚀剂以进行刻蚀，使所述上层导电基材形成所述上层导电膜，并去除所述上层导电膜表面残余的上光阻层，以及所述下层导电基材表面的保护层。在所述下层导电基材上附着一层下光阻层，同时在所述上层导电膜上涂布一层保护层。使用另一具有镂空电路图案的掩模板覆盖在所述下光阻层上方，并利用所述上层导电膜作为掩模板，根据上光阻层的对位基准设定位于所述下光阻层上方的掩模板，使用紫外线光通过所述具有镂空电路图案的掩模板对所述下光阻层进行曝光。在完成曝光后，在所述下光阻层表面分布显影剂，对所述下光阻层进行显影，并促使所述下层导电基材裸露出一待接受刻蚀的区域。将所述下层导电基材裸露出的区域刻蚀剂以进行刻蚀，使所述下层导电基材形成所述下层导电膜，并去除所述下层导电膜表面残余的上光阻层，以及所述上层导电膜表面的保护层。

然而上述电容式触控面板的制作工艺中，需要先在透明玻璃基板的顶面形成上层导电膜，然后在保护好上层导电膜后才可形成下层导电膜，即所述电容式触控面板的制作需要先后经历多次附着及去除光阻层和保护层的步骤，客观上增加了制作所述触控面板的工艺复杂度，同时也增加了制作所述触控面板所需的时间，降低了所述触控面板的生产效率。

实用新型内容

有鉴于此，有必要提供一种生产工艺简单、便于提高生产效率的触摸面板。

一种触摸面板包括基板、第一电极层以及第二电极层，所述基板包括第一表面和第二表面，所述第一表面和第二表面正对；所述第一电极层形成于所述基板的所述第一表面上，且所述第一电极层包括多条X轴线迹，所述多条X轴线迹之间相互平行间隔分布；所述第二电极层形成于所述基板的所述第二表面上，且所述第二电极层包括多条Y轴线迹，所述多条Y轴线迹之间相互平行间隔分布，并与所述第一电极层的所述多条X轴线迹形成异面相交，所述多条Y轴线迹与所述多条X轴线迹之间形成图案互补，所述第一电极层为结晶透明导电膜，第二电极层为非晶透明导电膜在230摄氏度至280摄氏度之间的温度下退火形成的结晶透明导电膜。

本实用新型所述的触摸面板中，该第一电极层包括透明导电材料，所述透明导电材料通过磁控溅射的方式在所述基板的第一表面形成结晶透明导电膜，所述透明导电膜依次经过涂胶、曝光、显影、刻蚀工艺形成所述第一电极层。

本实用新型所述的触摸面板中，所述第二电极层包括透明导电材料，所述透明导电材料通过磁控溅射的方式在所述基板的第二表面形成非晶透明导电膜，所述非晶透明导电膜依次经涂胶、曝光、显影、刻蚀、退火工艺形成结晶的所述第二电极层。

本实用新型所述的触摸面板中，该透明导电材料可以是透明导电氧化物。本实用新型所述的触摸面板中，所述退火工艺所需的温度在230摄氏度至280摄氏度之间。

本实用新型通过在透明基板的两个相对的表面分别镀上结晶透明导电膜和非晶透明导电膜，并在所述触摸面板制作过程中，先制作所述结晶透明导电膜，然后制作所述非晶透明导电膜，且制作所述非晶透明导电膜时不需要对所述结晶透明导电膜进行保护，然后将所述非晶透明导电膜经退火工艺形成结晶的所述第二电极层，在保证所述触摸面板质量的同时简化了所述触摸面板的制作工艺，降低了工艺复杂度，有利于提高所述触摸面板的生产效率。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1为本实用新型提供的触摸面板的俯视图。

图2为图1所示的触摸面板的截面示意图。

图3A-3H为图1所示的触摸面板的制造流程示意图。

具体实施方式

为了克服现有技术中的触摸面板的生产工艺复杂、生产效率较低的问题，本实用新型通过在透明基板的两个相对的表面分别镀上结晶透明导电膜和非晶透明导电膜，并在所述触摸面板制作过程中，先制作所述结晶透明导电膜，然后制作所述非晶透明导电膜，且制作所述非晶透明导电膜时不需要对所述结晶透明导电膜进行保护，然后将所述非晶透明导电膜经退火工艺形成结晶的所述第二电极层，在保证所述触摸面板质量的同时简化了所述触摸面板的制作工艺，降低了工艺复杂度，有利于提高所述触摸面板的生产效率。

以下结合说明书附图对本实用新型提供的触摸面板进行详细说明。

请同时参阅说明书附图1和图2，其为分别为本实用新型提供的的触摸面板的俯视图和A-A向剖视图。所述触摸面板100包括基板110、第一电极层120以及第二电极层130。所述基板110包括第一表面111和第二表面113，且所述第一表面111与所述第二表面113正对。所述基板110可以由透明材质制作而成，且所述透明材质可以是玻璃或树脂，即所述基板110可以是透明玻璃基板或透明树脂基板。

所述第一电极层120形成于所述基板110的第一表面111上，且所述第一电极层120包括多条X轴迹线121，所述多条X轴迹线121相互平行间隔分布。所述第二电极层130形成于所述基板110的第二表面113上，且所述第二电极层130包括多条Y轴迹线131，所述多条Y轴迹线131相互平行间隔分布。所述多条X轴迹线121与所述多条Y轴迹线131之间形成图案互补，且所述多条X轴迹线121和所述多条Y轴迹线131之间异面相交。

请同时参阅图3A至3H，其为所述触摸面板100的制作流程示意图。所述第一电极层120由透明导电材料构成，该透明导电材料可以但不限于通过磁控溅射方式形成于该基板110的第一表面111，形成透明导电膜(图3A)。该透明导电膜依次经过涂胶(图3B)、曝光、显影(图3C)、刻蚀(图3D)工艺形成所述第一电极层120。该透明导电材料可以但不限于透明氧化物，如氧化铟锡、氧化铟锌，该透明导电膜为结晶状态，其刻蚀需要的刻蚀剂包括强酸。

所述第二电极层130由透明导电材料构成，所述透明导电材料可以但不限于通过磁控溅射方式形成于所述基板110的第二表面113，形成非晶透明导电膜(图3E)，所述透明导电材料可以但不限于透明氧化物，如氧化铟锡、氧化铟锌等。所述非晶透明导电膜依次经涂胶(图3F)、曝光、显影(图3G)、刻蚀(图3H)、退火工艺形成结晶的所述第二电极层130。所述非晶透明导电膜曝光需要的掩模板上的图案与上述透明导电膜曝光需要的掩模板上的图案形成图形互补。所述非晶透明导电膜刻蚀需要的刻蚀剂为弱酸，其对已经形成的上述结晶的透明导电膜的刻蚀非常微弱，几乎可以忽略。因此，在进行非晶透明导电膜的形成过程中，并不需要对上述第一电极层120进行保护，节省传统技术中需要的多次涂覆和去除保护层的工艺，简化了生产工艺，提高了生产效率，有利于企业提升竞争力。另外，所述非晶透明导电膜在温度为230摄氏度至280摄氏度之间退火形成结晶的所述第二电极层130，使所述第二电极层130具有结晶透明导电膜的稳定性质，有利于保持所述触摸面板100的质量。

Claims (4)

1.一种触摸面板，包括基板、第一电极层以及第二电极层，所述基板包括第一表面和第二表面，所述第一表面和第二表面正对；所述第一电极层形成于所述基板的所述第一表面上，且所述第一电极层包括多条X轴线迹，所述多条X轴线迹之间相互平行间隔分布；所述第二电极层形成于所述基板的所述第二表面上，且所述第二电极层包括多条Y轴线迹，所述多条Y轴线迹之间相互平行间隔分布，并与所述第一电极层的所述多条X轴线迹形成异面相交，所述多条Y轴线迹与所述多条X轴线迹之间形成图案互补，其特征在于：所述第一电极层为结晶透明导电膜，第二电极层为非晶透明导电膜形成的结晶透明导电膜。

2.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：所述第一电极层包括透明导电材料，所述透明导电材料在所述基板的第一表面形成结晶透明导电膜，所述透明导电膜形成所述第一电极层。

3.如权利要求1所述的触摸面板，其特征在于：所述第二电极层包括透明导电材料，所述透明导电材料在所述基板的第二表面形成非晶透明导电膜，所述非晶透明导电膜形成结晶的所述第二电极层。

4.如权利要求2或3所述的触摸面板，其特征在于：所述透明导电材料可以是透明导电氧化物。 

Images