CN201728201U - 基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种基板清洗装置，其驱动机构包括固定座、电机、偏心轮及往复座，固定座的上底板与下底板之间形成安装区，往复座滑动地安装于下底板上，电机安装于上底板上并位于安装区内，偏心轮连接于电机与往复座之间并平行于上底板及下底板；清洗机构包括固定架、输入总管及等间距安装于固定架上的若干管道组，管道组分别与输入总管连通且设置有朝向基板的喷嘴，固定架与往复座固定连接且悬置于基板上方。清洗时，电机通过偏心轮带动往复座往复运动，往复座带动固定架往复运动，清洗液通过喷嘴均匀充分地喷洒在基板上，可对直线运动中的基板进行不间断地清洗，提高清洗效率，具有较高的清洁度及自动化程度，且结构简单，成本低廉。

Description

基板清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种对平板物件的清洗装置，尤其涉及一种适用于对平板状的基板进行清洗的基板清洗装置。

背景技术

随着各种半导体产品的广泛应用及半导体技术的发展，半导体产品的批量生产越来越大规模，同时半导体产品的尺寸也越来越大，导致半导体工艺日趋复杂，而产品的生产不仅要求高精度，也要求高效率及高自动化，因此，对生产半导体产品的生产设备和生产工艺也提出了更高的要求，对于半导体制品，例如有机发光显示器件、液晶显示器件、非晶硅太阳能电池板等，其生产都需要利用玻璃等作为基板，在基板上进行多种工序进而形成多层薄膜，工艺步骤中涉及的镀膜、光刻、蚀刻等工艺会产生粉尘附着在基板上，进而影响基板的清洁度，基板的清洁度对产品的质量有着重大影响，因此，在于镀膜、光刻及蚀刻等步骤中必须贯穿有清洗步骤，以维持基板在生产过程中的表面清洁度。

以OLED(Organic Light-Emitting Diode，即有机发光二极管)为例，OLED的制造一般都在玻璃基板上进行多次工艺步骤，进而在基板上相继沉积多层薄膜，其膜层主要包括在玻璃基板上形成的透明阳极，在阳极上依次沉积空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，最后是金属阴极层；在各个工艺步骤中若基板上沉积有粉尘，在下一膜层的形成过程中会将其覆盖，进而影响膜层的厚度和均匀性，影响后续的工艺质量，最终使OLED的质量降低，可见基板的清洁起着举足轻重的作用，因此需要一种基板清洗装置，对基板进行高效清洗的同时也能保证基板的高清洁度。

然而，现有用于清洁基板的装置具有长方形的流体喷射区，在该区域内相隔预定位置设置有多个喷射口，当运动的基板经过时，喷射口内喷射出清洗液进而对基板进行清洗，但是由于各喷射口间具有闲置喷射区域，在该区域对应的基板上或基板的边缘位置处，会出现清洗液喷射较少或喷射不均的现象，导致这些区域的清洗效果不佳，这种现象在较大尺寸的基板中尤为明显；为解决上述问题，通常会在喷射区域内增加喷射口以达到大面积喷射的目的，但这种结果不仅使装置复杂，而且会造成清洗液的大量浪费，增加生产成本。

因此，急需一种结构简单、自动化程度高、清洁效率及清洁度高的基板清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、自动化程度高、清洁效率及清洁度高的基板清洗装置。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案为：提供一种基板清洗装置，适用于对平板状的基板进行清洗，所述基板清洗装置包括驱动机构及清洗机构，所述驱动机构驱动所述清洗机构对所述平板状的基板进行清洗，其中，所述驱动机构包括固定座、电机、偏心轮及往复座，所述固定座具有平行设置的上底板及下底板，所述上底板与所述下底板之间形成安装区，所述往复座滑动地安装于所述下底板上，所述电机安装于所述上底板上并位于所述安装区内，所述偏心轮连接于所述电机与所述往复座之间并平行于所述上底板及所述下底板，所述电机通过所述偏心轮驱动所述往复座作往复运动；所述清洗机构包括固定架、输入总管及安装于所述固定架上的若干管道组，所述管道组等间距排列且分别与所述输入总管连通，所述管道组上设置有朝向基板的用于喷洒清洗液的喷嘴，所述固定架与所述往复座固定连接，所述固定架悬置于基板上方并与所述基板平行。

较佳地，所述固定座的下底板上开设有沿所述固定架方向延伸的导槽，所述往复座的下端安装有滑动卡设于所述导槽内的第一轴承，所述往复座的上端开设有与所述导槽相垂直的轴承槽，所述偏心轮上设置有第二轴承，所述第二轴承的中心轴平行于所述偏心轮的轴向，所述第二轴承容置于所述轴承槽内与所述轴承槽滚动连接，所述偏心轮通过所述第二轴承驱动所述往复座沿所述导槽作直线往复运动；更具体地，所述导槽的延伸方向与所述基板的传输方向垂直。电机驱动偏心轮转动，偏心轮通过第二轴承驱动往复座沿导槽作直线往复运动，往复座带动固定架作直线往复运动，使管道组将清洗液均匀充分地喷洒在直线运动的基板上，可对直线运动中的基板进行不间断地清洗，提高基板的清洗效率，同时使基板得到均匀充分的清洗，保持高清洁度。

较佳地，所述驱动机构还包括连接座，所述连接座固定连接于所述往复座与所述固定架之间。电机通过偏心轮带动往复座沿导槽作直线往复运动，往复座通过连接座带动固定架作往复运动，使往复座与固定座之间的连接简便。

较佳地，所述管道组包括分支管及喷嘴管，所述分支管的一端与所述输入总管连通，所述分支管的另一端与所述喷嘴管连通，所述喷嘴管与所述固定架固定连接，所述喷嘴均匀设置于所述喷嘴管上，全部所述管道组的喷嘴管等间距排列且位于与所述基板平行的一个面上。通过输入总管统一控制清洗液的输入量，并将清洗液均匀地分流到各分支管，再通过喷嘴管上均匀设置的喷嘴喷洒在直线运动的基板上，便于清洁液流量的控制，有效节约清洁液。

较佳地，所述基板清洗装置还包括引导架，所述引导架上设有与所述导槽相平行的引导槽，所述引导架对称设置于所述固定架的两侧，所述固定架上设置有与所述导槽相平行的连接杆，所述连接杆滑动地穿过所述引导架的引导槽；更具体地，所述引导架包括支架及枢接于所述支架上的上导向轮及下导向轮，所述上导向轮与所述下导向轮之间形成所述引导槽。固定架的连接杆滑动地穿过上导向轮与下导向轮之间形成的引导槽，使固定架的运动阻力大为减小，进而使基板清洗装置使用较小功率的电机即可驱动固定架作往复运动，节约能源，并使结构简单，成本低廉。

与现有技术相比，由于本实用新型的驱动机构包括固定座、电机、偏心轮及往复座，所述固定座具有平行设置的上底板及下底板，所述上底板与所述下底板之间形成安装区，所述往复座滑动地安装于所述下底板上，所述电机安装于所述上底板上并位于所述安装区内，所述偏心轮连接于所述电机与所述往复座之间并平行于所述上底板及所述下底板，所述电机通过所述偏心轮驱动所述往复座作往复运动；所述清洗机构包括固定架、输入总管及安装于所述固定架上的若干管道组，所述管道组等间距排列且分别与所述输入总管连通，所述管道组上设置有朝向基板的喷洒清洗液的喷嘴，所述固定架与所述往复座固定连接，所述固定架悬置于基板上方并与所述基板平行；清洗时，清洗液通过输入总管流入管道组内，再通过管道组上的喷嘴喷洒到基板上进而对基板进行清洗，在此过程中，所述电机通过偏心轮驱动往复座在下底板上作往复运动，往复座带动固定架往复运动，进而使清洗液通过喷嘴均匀充分的喷洒在直线运动的基板上，避免管道组之间的间隙或喷嘴之间的间隙所对应的区域喷洒到的清洗液不均或不充分，进而使基板得到均匀充分的清洗，具有较高的清洁度，并且将电机的旋转运动转化为往复座及固定架的往复运动，可连续对直线运动中的基板进行不间断的清洗，提高基板的清洗效率，同时，通过电机通过偏心轮带动往复座往复运动，提高基板清洗装置的自动化程度，且结构简单，成本低廉。

附图说明

图1是本实用新型基板清洗装置的结构示意图。

图2是图1中驱动机构的放大示意图。

图3是本实用新型基板清洗装置的使用状态示意图。

图4是本实用新型基板清洗装置的另一状态示意图。

具体实施方式

现在参考附图描述本实用新型的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。

如图1、图2所示，本实用新型基板清洗装置1包括驱动机构10、清洗机构20及引导架30，清洗机构20滑动地安装于引导架30上，驱动机构10设置于清洗机构20的一侧并驱动清洗机构20对直线运动的基板进行清洗。驱动机构10包括固定座110、电机120、偏心轮130及往复座140，固定座110具有平行设置的上底板111及下底板112，上底板111与下底板112之间通过支柱115连接，上底板111与下底板112之间形成安装区113，电机120安装于上底板111上且输出轴位于安装区113内；在下底板112上开设有沿清洗机构20方向延伸的导槽114，且导槽114的延伸方向与基板的传输方向垂直，往复座140的下端安装有滑动卡设于导槽114内的第一轴承142，往复座140的上端开设有与导槽114相垂直的轴承槽141；偏心轮130上设置有第二轴承131，且第二轴承131位于偏心轮130的下方，第二轴承131的中心轴平行于偏心轮130的轴向，偏心轮130设置于往复座140与电机120之间且与电机120的输出轴连接，第二轴承131容置于往复座140上端的轴承槽141内与轴承槽141滚动连接，第二轴承131可在轴承槽141内滑动，电机120驱动偏心轮130转动，偏心轮130通过第二轴承131带动往复座140在导槽114上作直线往复运动；清洗机构20包括固定架210、输入总管220及安装于固定架210上的若干管道组，固定架210悬置于基板上方并与基板平行，管道组包括分支管230及喷嘴管240，分支管230的一端与输入总管210连通，分支管230的另一端与喷嘴管240连通，喷嘴管240与固定架210固定连接，且所有喷嘴管240等间距排列并位于与基板平行的一个面上，喷嘴管240上均匀设置有朝向基板的喷嘴250，喷嘴250用于喷洒清洗液，清洗液通过输入总管220上的输入口221输入后，经分支管230流入喷嘴管240内，再由喷射管240上均匀设置的喷嘴250喷洒到直线运动的基板上，清洗液由输入总管220的输入口221统一控制输入量，便于清洁液流量的控制，有效节约清洁液。

较佳者，驱动机构10还包括连接座150，连接座150固定连接于往复座140与固定架210之间；引导架30对称设置于固定架210两侧，引导架30包括支架310及枢接于支架310上的上导向轮320及下导向轮330，上导向轮320与下导向轮330之间形成引导槽340，且引导槽340与导槽114相平行，固定架210上设置有与导槽114相平行的连接杆211，连接杆211滑动地穿过引导架310的引导槽340将固定架210枢接于导向架30上；固定架210通过连接杆211滑动地安装于上导向轮320与下导向轮330之间形成的引导槽340内，使固定架210的运动阻力大为减小，进而使基板清洗装置1使用较小功率的电机即可驱动固定架210往复运动，节约能源，并使结构简单，成本低廉。

下面结合图3、图4，对本实用新型基板清洗装置1用于对直线运动的基板2进行清洗的原理及过程进行说明。

如图3所示，将进入清洗工序的基板2送入基板清洗装置1，基板2沿图中a方向直线运动。基板2沿图中a方向运动过程中，清洗液从输入总管220上的输入口221加入到输入总管220内，清洗液经输入总管220均匀地分流到各分支管230中，分支管230中的清洗液流到喷嘴管240后，经喷嘴管240上的喷嘴250喷洒到基板2的表面，进而对基板2进行清洗；在清洗过程中，电机120驱动偏心轮130沿图中箭头方向转动，如图3所示，偏心轮130沿箭头方向转动时产生动力，进而通过第二轴承131带动往复座140沿导槽114滑动，即沿图中c方向滑动，往复座140推动固定架210也沿c方向运动，固定架210的运动方向与基板的传输方向垂直，往复座140沿c方向运动过程中，第二轴承131在轴承槽141内滚动，进而使第二轴承131从轴承槽141的一端向另一端滑动，当偏心轮130转过180°时，往复座140滑动到导槽114的端点处，第二轴承131也滑动到轴承槽141的一端；电机120继续驱动偏心轮130转动，这时，第二轴承131沿轴承槽141往回滑动，偏心轮130亦带动往复座140往回滑动，即沿图中c方向相反的方向滑动，进而拉动固定座110往回运动；这样使固定架210在基板2上方作直线往复运动，且固定架210的运动方向与基板2的传输方向垂直，使喷嘴管240内的清洗液通过喷嘴250均匀充分地喷洒在直线运动着的基板2上，提高基板2的清洁度，并使基板清洗装置1具有较高的自动化程度；固定架210通过连接杆211滑动地安装于引导架30的上导向轮320与下导向轮330之间形成的引导槽340内，使固定架210的运动阻力大大减小，因此使用较小功率的电机120即可驱动固定架210往复运动，节约能源，并使结构简单，成本低廉。

由于本实用新型的驱动机构10包括固定座110、电机120、偏心轮130及往复座140，固定座110具有平行设置的上底板111及下底板112，上底板111与下底板112之间形成安装区113，往复座140滑动地安装于下底板112上，电机120安装于上底板111上并位于安装区113内，偏心轮130连接于电机120与往复座140之间并平行于上底板111及下底板112；清洗机构20包括固定架210、输入总管220及安装于固定架210上的若干管道组，管道组包括分支管230及喷嘴管240，喷嘴管240固定安装于固定架210上且等间距排列，分支管230的一端与输入总管220连通，分支管230的另一端与喷嘴管240连通，喷嘴管240上设置有朝向基板的用于喷洒清洗液的喷嘴250，固定架210与往复座140固定连接，固定架210悬置于基板上方并与所述基板平行；清洗液由输入总管220输入，由分支管230流入喷嘴管240后，经喷嘴管240上的喷嘴250喷洒在基板2上，实现对基板2的清洗；在清洗过程中，电机120通过偏心轮130驱动往复座140沿导槽114作直线往复运动，往复座140带动固定架210往复运动，进而使清洗液通过喷嘴250均匀充分地喷洒在直线运动着的基板2上，避免喷嘴管240之间的间隙或喷嘴250之间的闲置区域所对应的基板2上喷洒到的清洗液不均匀或不充分，进而使对基板2的清洗具有较高的清洁度，并可连续对直线运动中的基板2进行不间断地清洗，提高基板2的清洗效率，同时，通过电机120及偏心轮130带动往复座140往复运动，将旋转运动转化为复座140及固定架210的往复运动，提高基板清洗装置1的自动化程度，且结构简单，成本低廉。

本实用新型基板清洗装置1不限于对平板状的基板2进行清洗，可根据实际需要，用于相类似的平板物件的清洗。

本实用新型基板清洗装置1的喷嘴管240及喷嘴250的数量及设置方式等均为本领域普通技术人员所熟知，在此不再做详细的说明。

以上所揭露的仅为本实用新型的优选实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。

Claims (7)

1.一种基板清洗装置，适用于对平板状的基板进行清洗，所述基板清洗装置包括驱动机构及清洗机构，所述驱动机构驱动所述清洗机构对所述平板状的基板进行清洗，其特征在于：

所述驱动机构包括固定座、电机、偏心轮及往复座，所述固定座具有平行设置的上底板及下底板，所述上底板与所述下底板之间形成安装区，所述往复座滑动地安装于所述下底板上，所述电机安装于所述上底板上并位于所述安装区内，所述偏心轮连接于所述电机与所述往复座之间并平行于所述上底板及所述下底板，所述电机通过所述偏心轮驱动所述往复座作往复运动；

所述清洗机构包括固定架、输入总管及安装于所述固定架上的若干管道组，所述管道组等间距排列且分别与所述输入总管连通，所述管道组上设置有朝向基板的用于喷洒清洗液的喷嘴，所述固定架与所述往复座固定连接，所述固定架悬置于基板上方并与所述基板平行。

2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：所述固定座的下底板上开设有沿所述固定架方向延伸的导槽，所述往复座的下端安装有滑动卡设于所述导槽内的第一轴承，所述往复座的上端开设有与所述导槽相垂直的轴承槽，所述偏心轮上设置有第二轴承，所述第二轴承的中心轴平行于所述偏心轮的轴向，所述第二轴承容置于所述轴承槽内与所述轴承槽滚动连接，所述偏心轮通过所述第二轴承驱动所述往复座沿所述导槽作直线往复运动。

3.如权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于：所述导槽的延伸方向与所述基板的传输方向垂直。

4.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：所述驱动机构还包括连接座，所述连接座固定连接于所述往复座与所述固定架之间。

5.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：所述管道组包括分支管及喷嘴管，所述分支管的一端与所述输入总管连通，所述分支管的另一端与所 述喷嘴管连通，所述喷嘴管与所述固定架固定连接，所述喷嘴均匀设置于所述喷嘴管上，全部所述管道组的喷嘴管等间距排列且位于与所述基板平行的一个面上。

6.如权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于：还包括引导架，所述引导架上设有与所述导槽相平行的引导槽，所述引导架对称设置于所述固定架的两侧，所述固定架上设置有与所述导槽相平行的连接杆，所述连接杆滑动地穿过所述引导架的引导槽。

7.如权利要求6所述的基板清洗装置，其特征在于：所述引导架包括支架及枢接于所述支架上的上导向轮及下导向轮，所述上导向轮与所述下导向轮之间形成所述引导槽。 

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