CN201711304U - 一种用于单晶硅片清洗的洗片机 - Google Patents
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Abstract
一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台,工作台上设置有至少一排挂架,在挂架的下方设置有水管,每两根水管中间的正上方是挂架,在水管上设置有可调节的喷嘴组,喷嘴组的下方设置有排水槽,工作时将单晶硅片悬挂于挂架上,水通过水管从喷嘴组中喷出,喷嘴组的方向可调,可根据清洗要求调整喷水的方向,洗的水通过排水槽排到工作台的下水道中,本实用新型能够将单晶硅片挂上并从各种角度清洗,能使工作效率提高,并且清洗得更加干净。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种清洗设备,特别涉及一种用于单晶硅片清洗的洗片机。
背景技术
单晶硅片在生产打磨好后需要清洗表面的污垢,现有的清洗设备比较传统,就是将单晶硅片放入放入水槽中冲洗。这样方式洗得很不干净,而且由于单晶硅片比较薄,很多都重叠在一起,所以每次清洗非常不方便。
发明内容
为了克服上述现有技术的缺陷,本实用新型的目的在于提供一种用于单晶硅片清洗的洗片机,能够将单晶硅片挂上并从各种角度清洗,能使工作效率提高,并且清洗得更加干净。
为了达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台1,工作台1上设置有至少一排挂架2,在挂架2的下方设置有水管3,每两根水管3中间的正上方是挂架2,在水管3上设置有可调节的喷嘴组4,喷嘴组4的下方设置有排水槽5。
由于本实用新型设置有挂架2,所以可将单晶硅片悬挂于上面;由于喷嘴组4可调节,可对悬挂于挂架2上的单晶硅片从各个角度冲洗。
附图说明
附图是本实用新型的结构原理图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作详细叙述。
参照附图,一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台1,工作台1上设置有至少一排挂架2,用于悬挂单晶硅片,在挂架2的下方设置有水管3,每两根水管3中间的正上方是挂架2,在水管3上设置有可调节的喷嘴组4,喷嘴组4的下方设置有排水槽5,冲洗的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。
本实用新型的工作原理为:将单晶硅片悬挂于挂架2上,水通过水管3从喷嘴组中喷出,喷嘴组的方向可调,可根据清洗要求调整喷水的方向。冲洗的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。
Claims (2)
1.一种用于单晶硅片清洗的洗片机,其特征在于,包括一工作台(1),工作台(1)上设置有至少一排挂架(2),在挂架(2)的下方设置有水管(3),在水管(3)上设置有可调节的喷嘴组(4),喷嘴组(4)的下方设置有排水槽(5)。
2.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片清洗的洗片机,其特征在于,每两根水管(3)中间的正上方是挂架(2)。
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CN201020241550XU CN201711304U (zh) | 2010-06-28 | 2010-06-28 | 一种用于单晶硅片清洗的洗片机 |
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CN201020241550XU CN201711304U (zh) | 2010-06-28 | 2010-06-28 | 一种用于单晶硅片清洗的洗片机 |
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CN (1) | CN201711304U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105618414A (zh) * | 2016-03-15 | 2016-06-01 | 李赵和 | 一种半导体硅片清洗机双头清洗枪 |
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- 2010-06-28 CN CN201020241550XU patent/CN201711304U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110119 Termination date: 20120628 |