CN201701769U - 一种对填料塔中气相进行二次分布的装置 - Google Patents
一种对填料塔中气相进行二次分布的装置 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种对填料塔中气相进行二次分布的装置,其构成包括溢流堰以及设置在所述溢流堰内的气相分布塔盘,所述的气相分布塔盘与所述溢流堰的内壁之间构成降液管,所述气相分布塔盘的下部设置有液相分布塔盘;所述的气相分布塔盘上开有气相通道,所述的液相分布塔盘上开有气相通道和液相喷淋点。本实用新型的优点是:可在对气相进行二次分布的同时对液相进行收集和再分布,从而提高填料塔的塔效率;可提前模拟进行水力学实验,以便进一步验证和改进原设计方案,并达到更加优良的气液分布效果;可广泛地应用于精馏、吸收、解吸填料塔中。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种对填料塔中气相进行二次分布的装置,更具体的说,本实用新型涉及一种可对液相进行二次收集和再分布的装置。
背景技术
在精馏、吸收、解吸填料塔中,气体和液体的分布对填料塔的分离效率有很大的影响。但由于所述填料塔中填料的各处阻力不同,往往导致气相从阻力较小处通过,而液相则有逐渐向塔壁集中的趋势,以致造成塔壁附近的液流量较大以及液相分布不均的现象,从而影响所述填料塔的塔效率。
通常情况下,液体收集和再分布装置,只考虑对液相的二次分布,而未考虑气相的再分布。因此,设计一种可对气相和液相同时进行二次收集和再分布的装置,对提高填料塔的塔效率有着重要的意义。
发明内容
本实用新型的目的,就是解决现有技术因填料层中气相和液相分布不均造成的塔效率下降的问题,并为此提供一种对填料塔中气相进行二次分布的装置。
本实用新型的技术方案是:
一种对填料塔中气相进行二次分布的装置,包括溢流堰以及设置在所述溢流堰内的气相分布塔盘,所述的气相分布塔盘与所述溢流堰的内壁之间构成降液管,所述气相分布塔盘的下部设置有液相分布塔盘;所述的气相分布塔盘上开有气相通道,所述的液相分布塔盘上开有气相通道和液相喷淋点。
所述气相分布塔盘上气相通道的数目和大小、所述液相分布塔盘上气相通道和液相喷淋点的数目和大小、所述液相分布塔盘上气相通道的高度,以及所述溢流堰的高度,均根据液相流量设计。
本实用新型的有益效果是:
(1)结构简单,便于加工,在填料塔内占用空间小,易于分布均匀;
(2)即可对气相进行二次分布,也可同时对液相进行收集和再分布,从而提高填料塔的塔效率;
(3)可提前模拟进行水力学实验,以便进一步验证和改进原设计方案,从而达到更加优良的气液分布效果;
(4)可有效避免气相短路问题的发生,适合于精馏、吸收、解吸填料塔等广泛应用。
附图说明
图1是本实用新型的剖面结构示意图;
图2是本实用新型装置中的气相分布塔盘示意图;
图3是本实用新型装置中的液相分布塔盘示意图;
附图标记:1.溢流堰 2.气相分布塔盘 3.降液管 4.液相分布塔盘5.气相通道 6.液相喷淋点
具体实施方式
为了使本实用新型更容易被清楚理解,以下结合附图以及实施例对本实用新型作以详细说明。
参照图1、图2、图3,本实用新型对填料塔中气相进行二次分布的装置,包括溢流堰1、气相分布塔盘2和液相分布塔盘4,所述的气相分布塔盘2设置在所述的溢流堰1内,所述的气相分布塔盘2与所述溢流堰1的内壁之间构成降液管3,所述的液相分布塔盘4设置在所述气相分布塔盘2的下部。
所述溢流堰1的高度根据气相流量设计。
所述的气相分布塔盘2为筛板塔盘,其上开有气相通道5,所述气相通道5的数目和大小根据气相流量设计。
所述的液相分布塔盘3为筛板塔盘,其上开有气相通道5和液相喷淋点6,所述气相通道5和液相喷淋点6的数目和大小以及所述气相通道5的高度根据液相流量设计。
本实用新型的使用方法如下:
首先将填料分成多段,在每段填料之间引入本实用新型的装置;
所述填料塔中下降的液相首先由本实用新型中的气相分布塔盘2进行收集,由于所述的溢流堰1具有一定的高度,所以,被收集的液相可在所述的气相分布塔盘1上保持一定液位的液层,使上升的气相在相同液层压力的作用下进行均匀地二次分布;
二次分布的液相从所述的溢流堰1溢流,并通过所述的降液管3流向所述的液相分布塔盘4,由于所述液相分布塔盘4上的气相通道5具有较高高度,所以,溢流的液相可在所述的液相分布塔盘4上保持较高的液位,并按重力型液相分布的特点,通过所述的液相喷淋点6进行液相的二次分布。
由于本实用新型可使气液两相同时进行二次分布且分布均匀,因而。克服了现有技术的缺陷,使所述填料塔的塔效率得到有效提高。
以上参照附图和实施例对本实用新型的技术方案进行了示意性描述,该描述没有限制性。对于所属领域的技术人员来说,在上述说明的启示下,为了实现同样目的,还可对本实用新型的技术方案进行某些调整或改变。特别需要指出的是,只要不脱离本实用新型的宗旨,所有显而易见的修改均包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种对填料塔中气相进行二次分布的装置,包括溢流堰,其特征是,所述的溢流堰内设置有气相分布塔盘,所述的气相分布塔盘与所述溢流堰的内壁之间构成降液管,所述气相分布塔盘的下部设置有液相分布塔盘;所述的气相分布塔盘上开有气相通道,所述的液相分布塔盘上开有气相通道和液相喷淋点。
2.根据权利要求1所述对填料塔中气相进行二次分布的装置,其特征是,所述气相分布塔盘上气相通道的数目和大小,根据液相流量设计。
3.根据权利要求1所述对填料塔中气相进行二次分布的装置,其特征是,所述液相分布塔盘上气相通道和液相喷淋点的数目和大小,根据液相流量设计。
4.根据权利要求1所述对填料塔中气相进行二次分布的装置,其特征是,所述液相分布塔盘上气相通道的高度根据液相流量设计。
5.根据权利要求1所述对填料塔中气相进行二次分布的装置,其特征是,所述液相分布塔盘上气相通道的数目和大小,根据液相流量设计。
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GR01 | Patent grant | ||
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