CN201681685U - 一种斜瓦形的钕铁硼磁体 - Google Patents

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Abstract

本实用新型是一种磁体，特别涉及一种用在电机、传感器、吸力件或者吸盘上的斜瓦形的钕铁硼磁体。包括磁体，所述的磁体为斜瓦弧形状，所述的磁体包括中间层，所述的中间层外覆有镀锌层。结构简单，磁性稳定，装配精度高。

Description

一种斜瓦形的钕铁硼磁体
技术领域
本实用新型是一种磁体，特别涉及一种用在电机、传感器、吸力件或者吸盘上的斜瓦形的钕铁硼磁体。
背景技术
现有技术中的磁体的磁性不稳定，而且磁体容易损坏，导致无法使用，影响工作效率，同时磁体装配性差，不能与所用的产品精配。
发明内容
实用新型主要是解决现有技术中存在的不足，提供一种用在电机、传感器、吸力件或者吸盘上的斜瓦形的钕铁硼磁体。
本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：
一种斜瓦形的钕铁硼磁体，包括磁体，所述的磁体为斜瓦弧形状，所述的磁体包括中间层，所述的中间层外覆有镀锌层。所述的磁体性能稳定，使得使用寿命长，磁体表面光滑平整，有利于更加简单的装配。
作为优选，所述的中间层为钕铁硼体，所述的中间层的厚度为3.5±0.05um，所述的镀锌层的厚度为7～15um。
作为优选，所述的磁体的弧度为19.7±0.02度。
作为优选，所述的磁体的对边相互平行而设。
作为优选，所述的磁体的倾斜度为16度。
因此，本实用新型提供的一种斜瓦形的钕铁硼磁体，结构简单，磁性稳定，装配精度高。
附图说明
图1是本实用新型的剖视结构示意图；
图2是本实用新型的俯视结构示意图。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
实施例：如图1和图2所示，一种斜瓦形的钕铁硼磁体，包括磁体1，所述的磁体1为斜瓦弧形状，所述的磁体1包括中间层2，所述的中间层3外覆有镀锌层4，所述的中间层2为钕铁硼体，所述的中间层2的厚度为3.5±0.05um，所述的镀锌层3的厚度为7～15um，所述的磁体1的弧度为19.7±0.02度，所述的磁体1的对边相互平行而设，所述的磁体1的倾斜度为16度。

Claims (5)

1.一种斜瓦形的钕铁硼磁体，包括磁体(1)，其特征在于：所述的磁体(1)为斜瓦弧形状，所述的磁体(1)包括中间层(2)，所述的中间层(2)外覆有镀锌层(3)。
2.根据权利要求1所述的一种斜瓦形的钕铁硼磁体，其特征在于：所述的中间层(2)为钕铁硼体，所述的中间层(2)的厚度为3.5±0.05um，所述的镀锌层(3)的厚度为7～15um。
3.根据权利要求1或2所述的一种斜瓦形的钕铁硼磁体，其特征在于：所述的磁体(1)的弧度为19.7±0.02度。
4.根据权利要求1或2所述的一种斜瓦形的钕铁硼磁体，其特征在于：所述的磁体(1)的对边相互平行而设。
5.根据权利要求1或2所述的一种斜瓦形的钕铁硼磁体，其特征在于：所述的磁体(1)的倾斜度为16度。
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