CN201659132U - 多晶硅原料酸洗槽 - Google Patents

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霍立
韩子强
朱优军
刘佰林
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Abstract

多晶硅原料酸洗槽,涉及多晶硅原料酸洗设备,包括槽架,设置于槽架下部的下挡板,设置于槽架中部的中挡板,中挡板内设置有酸洗池和水洗池,风道上部为气罩,气罩上连接有风管,风管连接抽风机,其特征在于风道的结构是:弧形挡板与槽架内侧面形成风道,弧形挡板下端部前设有与之配合的导气板,导气板下部与酸洗池平台及水洗池平台相接,弧形挡板下部留有空隙,从而使风道下部形成“U”形。本实用新型的有益效果是:风道设计巧妙,抽风机抽风效果好,酸性气体不会上行,从而避免操作者吸入。它可有效地保障操作者在多晶硅原料的酸洗过程中,免受吸入过量的酸性气体对身体造成的伤害。

Description

多晶硅原料酸洗槽
技术领域:
本实用新型涉及多晶硅原料酸洗设备,尤其是涉及多晶硅原料酸洗槽。
背景技术:
现有的多晶硅生产工艺中,首先设有原料的酸洗工序,即将原料放入硝酸或/和氢氟酸中进行浸泡作用1-3分钟。在该工序过程中,由于有一定的酸性气体排出,往往会对人体产生一定的损害。为减少对操作者的影响,目前的酸洗工序通常设定在酸洗槽中进行,酸洗槽上设置有抽风机,抽风孔设置于上部或侧面,这样,会把大部分的酸性气体通过抽风机抽走,从而减少对操作者健康的损害。但是,实践表明,将抽风孔设置于上部或侧面,抽风效果不理想,通常还会有相当量的气体被操作者吸入肺中,这样会影响到操作者的身体健康。
发明内容:
本实用新型的目的是提供一种多晶硅原料酸洗槽,它可有效地保障操作者在多晶硅原料的酸洗过程中,免受吸入过量的酸性气体对身体造成的伤害。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:多晶硅原料酸洗槽,包括槽架,设置于槽架下部的下挡板,设置于槽架中部的中挡板,中挡板内设置有酸洗池和水洗池,风道上部为气罩,气罩上连接有风管,风管连接抽风机,其特征在于风道的结构是:弧形挡板与槽架内侧面形成风道,弧形挡板下端部前设有与之配合的导气板,导气板下部与酸洗池平台及水洗池平台相接,弧形挡板下部留有空隙,从而使风道下部形成“U”形。
本实用新型还可通过以下方案进一步实现:
槽架的底面可以是平面或凹面。
槽架下后部设有排水口。
槽架的上部弧形挡板的前面设有上挡板。
酸洗池上沿所处的酸洗池平台高于水洗池上沿所处的水洗池平台。
本实用新型具有以下有益效果:风道设计巧妙,抽风机抽风效果好,酸性气体不会上行,从而避免操作者吸入。它可有效地保障操作者在多晶硅原料的酸洗过程中,免受吸入过量的酸性气体对身体造成的伤害。
附图说明:
图1为本实用新型主视结构示意图,图2为本实用新型A-A向剖视结构示意图。
图中:1为下挡板,2为水洗池,3为酸洗池,4为中挡板,5为酸洗池平台,6为操作空间,7为上挡板,8为气罩,9为风管,10为导气板,11为水洗池排水口,12为弧形挡板,13为槽架,14为水洗池平台,15为酸洗池排液口,16为风道,17为排水口。
具体实施方式:
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,并使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1、图2所示,槽架13的底面可以是平面或凹面,底面前部为下挡板1,下挡板1可挡住水洗的水的流出;槽架13下后部设有排水口17,用于向外总排水;槽架13的中部前面设有中挡板4,中挡板4可挡住酸洗或水洗过程中,水从酸洗池3和水洗池2上部的流出;槽架13的上部前面(弧形挡板12的前面)设有上挡板7,上挡板7可进一步防止酸性气体从上部向外的排放;上挡板7与中挡板4之间为操作空间6,操作空间6下方设有酸洗池3和水洗池2,酸洗池3下部设有酸洗池排液口15,水洗池2下部设有水洗池排水口11,酸洗池3上沿所处的酸洗池平台5高于水洗池2上沿所处的水洗池平台14;在操作空间6内侧为弧形挡板12,弧形挡板12与槽架13内侧面形成风道16,弧形挡板12下端部前设有与之配合的导气板10,导气板10下部与酸洗池平台5及水洗池平台14相接,弧形挡板12下部留有空隙,从而使风道16下部形成“U”形;图2中箭头所示为在抽风机的作用下操作空间6的气体流向,弧形挡板12的上部为气罩8,气罩8上连接有风管9,风管9连接抽风机。
作业时,打开抽风机,将原料放入酸洗池3中,加入硝酸等酸液停留一定的时间(一般选择1-3分钟),再放入水洗池2中水洗。在酸洗过程中,有一定的酸性气体排出,酸性气体在抽风机的作用下,直接通过导气板10导入弧形挡板12内的风道,吸出。酸性气体不会上行,从而避免操作者吸入。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求所界定的保护范围为准。

Claims (5)

1.多晶硅原料酸洗槽,包括槽架、设置于槽架下部的下挡板、设置于槽架中部的中挡板,中挡板内设置有酸洗池和水洗池,风道上部为气罩,气罩上连接有风管,风管连接抽风机,其特征在于风道的结构是:弧形挡板与槽架内侧面形成风道,弧形挡板下端部前设有与之配合的导气板,导气板下部与酸洗池平台及水洗池平台相接,弧形挡板下部留有空隙,从而使风道下部形成“U”形。
2.根据权利要求1所述的多晶硅原料酸洗槽,其特征在于:槽架的底面为平面或凹面。
3.根据权利要求1所述的多晶硅原料酸洗槽,其特征在于:槽架下后部设有排水口。
4.根据权利要求1所述的多晶硅原料酸洗槽,其特征在于:槽架的上部弧形挡板的前面设有上挡板。
5.根据权利要求1所述的多晶硅原料酸洗槽,其特征在于:酸洗池上沿所处的酸洗池平台高于水洗池上沿所处的水洗池平台。
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