CN201458764U - α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐 - Google Patents
α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型涉及α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，可有效解决α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产中对α-三氧化二铝或碳化硅原料的缓冲处理，确保产品质量的问题，其解决的技术方案是，包括有水箱和上水管、下水管，上水管和下水管置于水箱一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器，上水管上有上水流量计，下水管上有出水流量计，本实用新型结构简单，新颖独特，使用安全，清洁卫生，缓冲效果好，有效保证了在α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产中对物料缓冲稳压的需要，有效保证了产品质量，节能、环保，经济和社会效益显著。
Description
一、技术领域
本实用新型涉及化工设备，特别是一种α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐。
二、背景技术
α-三氧化二铝(α-Al2O3)、碳化硅(SiC)微米级、纳米级材料是压电晶体生产进行细微加工用的关键材料，广泛应用于信息产业、国防和航空等领域，包括军用、民用、医疗和商业各方面都有极其广泛的用途，但由于高纯度的α-Al2O3、SiC微米级、纳米级生产难度大，质量要求高，其对α-三氧化二铝或碳化硅物料的缓冲处理的效果好坏，直接影响到产品的质量，目前我国多是用进口产品，α-Al2O3、SiC微米级、纳米级的缓冲处理还没有成熟的设备，尤其是出于商业的目的，技术保密和封锁很严，国外采用什么设备难以得知，而我国依靠进口材料，代价很高，大大限制了我国有关产业的发展，因此，如何有效解决微米、纳米级α-三氧化二铝、碳化硅颗粒生产中的缓冲处理，是必需认真研究解决的技术难题。
三、实用新型内容
针对上述情况，本实用新型之目的就是提供一种α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，可有效解决α-三氧化二铝(α-Al2O3)、碳化硅(SiC)微米级、纳米级生产中对α-三氧化二铝或碳化硅原料的缓冲处理，确保产品质量的问题，其解决的技术方案是，包括有水箱和上水管、下水管，上水管和下水管置于水箱一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器，上水管上有上水流量计，下水管上有出水流量计，本实用新型结构简单，新颖独特，使用安全，清洁卫生，缓冲效果好，有效保证了在α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产中对物料缓冲稳压的需要，有效保证了产品质量，节能、环保，经济和社会效益显著。
四、附图说明
附图为本实用新型的结构主视图。
五、具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式作详细说明。
由附图所示，本实用新型包括有水箱和上水管、下水管，上水管2和下水管3置于水箱1一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器9，上水管2上有上水流量计7，下水管上有出水流量计6。
为了保证使用效果，所说的水箱底部有排污管5，排污管5上有阀门8；所说的水箱可以是圆形、方形或长方形中的任何一种。
本实用新型结构简单，新颖独特，使用安全，清洁卫生，缓冲稳压效果好，有效保证了在α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产中对物料缓冲稳压的需要，节能、环保，经济和社会效益显著.
Claims (3)
1.一种α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，包括有水箱和上水管、下水管，其特征在于，上水管(2)和下水管(3)置于水箱(1)一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器(9)，上水管(2)上有上水流量计(7)，下水管上有出水流量计(6)。
2.根据权利要求1所述的α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，其特征在于，所说的水箱底部有排污管(5)，排污管(5)上有阀门(8)。
3.根据权利要求1所述的α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，其特征在于，所说的水箱为圆形、方形或长方形。
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2009
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| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Assignee: Zhengzhou Shuguang piezoelectric Technology Co., Ltd. Assignor: Cai Yucheng Contract record no.: 2011410000025 Denomination of utility model: Buffer tank used in micron-scale and nano-scale production of Alpha-aluminium sesquioxide or silicon carbide Granted publication date: 20100512 License type: Exclusive License Record date: 20110401 |
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| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: ZHENGZHOU SHUGUANG PIEZOELECTRIC TECHNOLOGY CO., L Free format text: FORMER OWNER: CAI YUCHENG Effective date: 20140702 |
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| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20140702 Address after: 450065 pharmaceutical street, hi tech Development Zone, Zhengzhou, Henan Patentee after: Zhengzhou Shuguang piezoelectric Technology Co., Ltd. Address before: 450065 pharmaceutical street, hi tech Development Zone, Zhengzhou, Henan Patentee before: Cai Yucheng |
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Granted publication date: 20100512 |
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