CN201389530Y

CN201389530Y - 晶圆盒清洁装置

Info

Publication number: CN201389530Y
Application number: CN200920069196U
Authority: CN
Inventors: 田华; 章亚荣
Original assignee: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Current assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Priority date: 2009-03-20
Filing date: 2009-03-20
Publication date: 2010-01-27
Anticipated expiration: 2019-03-20

Abstract

本实用新型公开了一种晶圆盒清洁装置，其包括：支撑台，包括作业面，用于承载晶圆盒；驱动装置，设置于所述支撑台内；滑板，设置于所述作业面上，并与所述驱动装置连接；以及无尘布，固定在所述滑板上；其中，所述驱动装置驱动所述滑板运动，带动所述无尘布运动，以清洁所述晶圆盒。本实用新型所提供的晶圆盒清洁装置可以减少晶圆盒在操作过程中因摩擦而产生的微小塑料颗粒，从而减小了颗粒对晶圆的损坏的可能，提高了晶圆的成品率，并保证了工艺设备的正常运作，且所述无尘布易更换清洗，可提高生产效率。

Description

晶圆盒清洁装置

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造领域，特别涉及一种用于晶圆加工工艺中的晶圆盒清洁装置。

背景技术

半导体晶圆在制造过程中需要极其严格的洁净度条件，一旦晶圆厂建成后，花费还远不止于此，还将增加维持这些无尘环境的运营成本。这些晶圆厂建造得灵活而牢固，拥有大型风扇和循环风扇用以保持一种无尘环境和满足空调负载计算的需要；并在不同位置安装了空气粒子监测系统，以监测任何可能的大量粒子的出现。洁净度条件要求采用一种非常严格的着装规定。所有晶圆厂的最低要求是工作人员必须身着单层长袍、橡胶手套、短靴和发套等，但仍然难以满足晶圆制造所要求的洁净度条件，并且成本高昂。

1984年，Asyst Technologies，Inc推出一种技术，用以提供半导体制造所需的洁净条件并降低传统晶圆厂的建设和运营费用。这种名为“标准机械界面(standard mechanical interface，SMIF)”的技术以“隔离技术”概念为中心。隔离技术旨在通过将晶圆封闭在一个超洁净的环境中，同时放宽对这个封闭环境以外的洁净度要求来防止产品被污染。起初，SMIF由三部分组成，用来封闭在制造过程中存储和运输盒装半导体晶圆的集装箱，即SMIF-Pod(标准机械界面晶圆盒)；用来打开SMIF-Pods的输入输出装置，即装载端口；和通过工艺系统实现装载端口整合的超洁净封闭式小型环境。操作员通过人工将SMIF-Pod送至装载端口；装载端口自动打开SMIF-Pod，除去盒子，并将其置于小型环境中。然后，内建于小型环境中的一个晶圆处理装置就会移动每个晶圆，使其与制程工艺系统接触。一旦制程步骤完成，晶圆就被放回盒子和SMIF-Pod，操作员人工再将其送往下一个步骤。

然而晶圆盒的基座大部分是用塑料制成。在晶圆盒搬运或使用的过程中，塑料因与接触面接触而被磨损，而产生微小的塑料颗粒。一旦因拿取晶圆打开晶圆盒时，这些塑料颗粒将会随着气流漂浮到晶圆上，造成晶圆表面严重的颗粒化，这不仅会造成处理过程中的晶圆的损坏，还会造成处理后的晶圆的损坏。许多晶圆因为晶圆盒的塑料颗粒而报废，导致了原材料的浪费和生产成本的提高，塑料颗粒有时还会导致工艺设备的损坏。

实用新型内容

本实用新型提供一种晶圆盒清洁装置，以解决现有技术中，在晶圆盒操作过程中，因其与接触面接触发生磨损所产生的塑料颗粒造成晶圆表面颗粒化，进而导致晶圆报废，以及工艺设备不能正常运作等问题。

本实用新型提供一种晶圆盒清洁装置，包括：支撑台，包括作业面，用于承载晶圆盒；驱动装置，设置于所述支撑台内；滑板，设置于所述作业面上，并与所述驱动装置连接；以及无尘布，固定在所述滑板上；其中，所述驱动装置驱动所述滑板运动，带动所述无尘布运动，以清洁所述晶圆盒。

可选的，所述滑板包括滑板主体以及外框架，所述无尘布被夹紧在所述滑板主体与所述外框架之间。

可选的，所述驱动装置包括：电机，设置于所述支撑台内；以及丝杠，设置于所述支撑台内，与所述电机连接并由所述电机带动旋转；所述滑板主体安装在所述丝杠上，通过所述电机的带动而沿所述丝杠运动，并带动所述无尘布沿所述丝杠移动。

可选的，所述驱动装置还包括导轨，其与所述滑板滑动连接，并与所述丝杠平行设置。

可选的，还包括丝杠限位传感器，设置于所述支撑台内。

可选的，所述支撑台底部开设有多个排风孔。

可选的，还包括排风装置，其设置于所述支撑台的下方，并与所述排风孔连通。

可选的，还包括限位凸起，设置于所述作业面的边缘。

可选的，还包括晶圆盒位置传感器，设置于所述作业面上。

综上所述，本实用新型所提供的晶圆盒清洁装置包括支撑台、驱动装置、滑板以及无尘布，所述驱动装置驱动所述滑板运动，带动所述无尘布运动，以清洁所述晶圆盒，可以减少晶圆盒在操作过程中因摩擦而产生的微小塑料颗粒，从而减小了颗粒对晶圆损坏的可能性，提高了晶圆的成品率，并保证了工艺设备的正常运作，且所述无尘布可方便快捷的更换，便于所述晶圆盒清洁装置的维护。

附图说明

图1为本实用新型一实施例所提供的晶圆盒清洁装置的结构示意图；

图2为本实用新型一实施例所提供的晶圆盒清洁装置的顶视图；

图3为本实用新型一实施例所提供的晶圆盒清洁装置的滑板以及无尘布的剖视图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的晶圆盒清洁装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

请参考图1至图3，其中图1为本实用新型一实施例所提供的晶圆盒清洁装置的结构示意图，图2为图1所示晶圆盒清洁装置的顶视图，所述晶圆盒清洁装置100包括：支撑台110，其包括一作业面111，用于承载晶圆盒；驱动装置120，设置于支撑台110内；滑板130，设置于作业面111上，并与驱动装置120连接；以及无尘布140，固定在滑板130上；其中，驱动装置120驱动滑板130运动，带动无尘布140运动，以清洁所述晶圆盒。

如图3所示，滑板130包括滑板主体131以及外框架132，无尘布140被机械地夹紧在滑板主体131与外框架132之间。无尘布140在使用过程中，如需更换清洗，只需拆卸外框架132，即可完成无尘布的更换或清洗工作，便于晶圆盒清洁装置的维护，可提高生产效率。

其中，驱动装置120包括：电机121，设置于支撑台110内；以及丝杠122，设置于支撑台110内，与电机121连接并由电机121带动旋转；滑板主体131安装在丝杠122上，通过电机121的转动而沿丝杠122线性运动，并带动无尘布140沿丝杠122线性移动。

另外，驱动装置120还包括一导轨123，其为一滑杠，与滑板主体131滑动连接，并与丝杠122平行设置，所述导轨123可起到导向作用，增加滑板主体131运动时的稳定性。

进一步的，所述晶圆盒清洁装置100还包括限位凸起150，其设置于作业面111的边缘。当晶圆盒放在清洁装置的支撑台110上时，防止所述晶圆盒从作业面111上滑落，保证了晶圆盒在清洁过程中的安全。

优选的，所述晶圆盒清洁装置100还包括晶圆盒位置传感器160，设置于作业面111上。当有晶圆盒放置于作业面111上时，晶圆盒位置传感器160便会感知晶圆盒的存在，并在一PLC(未图示)的控制下驱动电机121，开始清洁作业，而在无晶圆盒的情况下，电机121处于待机状态，可起到节约能源的作用，并可减少因设备运转所产生的颗粒污染。所述晶圆盒清洁装置100还包括丝杠限位传感器170，设置于所述支撑台110内，可起到限制丝杠122的转动位置的作用。

当晶圆盒放在清洁装置的支撑台110上时，电机121驱动滑板130沿丝杠122线性运动，并带动无尘布140沿丝杠122线性移动，无尘布140便会擦拭晶圆盒的底座，此时便可以将晶圆盒的底座因磨损而产生的塑料颗粒清除掉，进而起到清洁晶圆盒的底座的作用，保护了晶圆和工艺设备不受塑料颗粒的损害，提高了晶圆的成品率，并保证了工艺设备的正常运作。

当使用无尘布140擦拭晶圆盒时，微小的塑料颗粒会掉落到支撑台110内，如果不及时进行清理，这些微小颗粒可能会随着空气流动，再次污染晶圆盒和装置，进而还会造成晶圆和装置的损坏。因此，在本实用新型的一实施例中，晶圆盒清洁装置的支撑台110的底部开设有排风孔(未图示)，晶圆盒清洁装置的支撑台110还包括一排风装置180，其设置于支撑台110的下方，并与所述排风孔连通。在排风装置180的作用下形成一股稳定向下的气流，因此清洁晶圆盒底座产生的微小颗粒在气流的作用下定向通过所述排风孔进入到排风管道中，可更好的达到清洁的效果，防止这些微小颗粒再次污染晶圆盒清洁装置。

综上所述，本实用新型公开了一种晶圆盒清洁装置，包括：支撑台，包括作业面，用于承载晶圆盒；驱动装置，设置于所述支撑台内；滑板，设置于所述作业面上，并与所述驱动装置连接；以及无尘布，固定在所述滑板上；其中，所述驱动装置驱动所述滑板运动，带动所述无尘布运动，以清洁所述晶圆盒。本实用新型所提供的晶圆盒清洁装置可以减少晶圆盒在操作过程中因摩擦而产生的微小塑料颗粒，从而减小了颗粒对晶圆的损坏的可能，提高了晶圆的成品率，并保证了工艺设备的正常运作，且所述无尘布易更换清洗，可提高生产效率。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何熟习此技术者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视权利要求书所界定者为准。

Claims

1、一种晶圆盒清洁装置，其特征在于，包括：

支撑台，包括作业面，用于承载晶圆盒；

驱动装置，设置于所述支撑台内；

滑板，设置于所述作业面上，并与所述驱动装置连接；以及

无尘布，固定在所述滑板上；

其中，所述驱动装置驱动所述滑板运动，带动所述无尘布运动，以清洁所述晶圆盒。

2、根据权利要求1所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，所述滑板包括滑板主体以及外框架，所述无尘布被夹紧在所述滑板主体与所述外框架之间。

3、根据权利要求2所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，所述驱动装置包括：

电机，设置于所述支撑台内；以及

丝杠，设置于所述支撑台内，与所述电机连接并由所述电机带动旋转；

所述滑板主体安装在所述丝杠上，通过所述电机的带动而沿所述丝杠运动，并带动所述无尘布沿所述丝杠移动。

4、根据权利要求3所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，所述驱动装置还包括导轨，其与所述滑板滑动连接，并与所述丝杠平行设置。

5、根据权利要求1所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，还包括丝杠限位传感器，设置于所述支撑台内。

6、根据权利要求1所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，所述支撑台底部开设有多个排风孔。

7、根据权利要求6所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，还包括排风装置，设置于所述支撑台的下方，并与所述排风孔连通。

8、根据权利要求1所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，还包括限位凸起，设置于所述作业面的边缘。

9、根据权利要求8所述的晶圆盒清洁装置，其特征在于，还包括晶圆盒位置传感器，设置于所述作业面上。