CN201296778Y - 用于溅射磁性材料的磁控靶 - Google Patents

用于溅射磁性材料的磁控靶 Download PDF

Info

Publication number
CN201296778Y
CN201296778Y CNU2008202195822U CN200820219582U CN201296778Y CN 201296778 Y CN201296778 Y CN 201296778Y CN U2008202195822 U CNU2008202195822 U CN U2008202195822U CN 200820219582 U CN200820219582 U CN 200820219582U CN 201296778 Y CN201296778 Y CN 201296778Y
Authority
CN
China
Prior art keywords
target
seat
pole shoe
magnet steel
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CNU2008202195822U
Other languages
English (en)
Inventor
冯彬
鲁向群
佟辉
刘大为
周颖
刘丽华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sky Technology Development Co Ltd
Original Assignee
Shenyang Scientific Instrument R&D Center of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenyang Scientific Instrument R&D Center of CAS filed Critical Shenyang Scientific Instrument R&D Center of CAS
Priority to CNU2008202195822U priority Critical patent/CN201296778Y/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN201296778Y publication Critical patent/CN201296778Y/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型公开一种用于溅射磁性材料的磁控靶,由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无氧铜,中心放内磁钢,周边钻若干小孔放外磁钢,靶材直接放在磁钢座上,通过靶材压盖固定。极靴材料为导磁材料,磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴上。极靴下面氩弧焊焊接进出水嘴,冷却水低进高出,靠密封橡胶圈实现密封。绝缘座材料为可以在真空下使用的耐热绝缘材料,安装在固定座(阳极)和极靴(阴极)之间。绝缘帽起到带电螺钉(阴极)和固定座(阳极)之间的绝缘作用。本实用新型结构简单,成本低,磁控靶寿命长。

Description

用于溅射磁性材料的磁控靶
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备领域,尤其是一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶。
背景技术
目前,在国内制备镀膜领域中,通常把磁控溅射作为溅射技术的主流,其主要原因就是磁控溅射的“高速”、“低温”特点,它可以在任何基材上沉积任何镀材的薄膜。能够溅射非磁性材料的普通圆形平面永磁靶技术已经相当成熟,而对于能够溅射铁、镍、钴等磁性材料的磁控靶,一般有两种,一种是电磁靶,另一种是用普通圆形平面永磁靶改型的圆形平面强磁靶。
但电磁靶存在一些弊端:
1.在通电过程中,通电线圈产生的磁场受电网电压、线圈匝数、线圈材质及人为因素等影响不太稳定,即使在相同的条件下制备的膜质量也不一定相同;
2.在靶工作过程中,由于受结构的限制,往往达不到预想的磁场要求,想不断增大电流达到预想磁场强度却常常烧断电磁线圈;
3.电磁靶的造价也比永磁靶高很多,除了需要一个直流电源还需要配一个励磁电源,成本大约是永磁靶的1.5倍。
用普通圆形平面永磁靶改型的强磁靶,磁钢直接泡在冷却水中,时间长了磁钢很容易退磁。
实用新型内容
为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种磁钢裸露在靶材下面,冷却水不和磁钢直接接触的用于溅射磁性材料的磁控靶。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶,包括外屏蔽罩1、磁钢座2、极靴3、绝缘座8、固定座6、靶材压盖13、内磁钢12、外磁钢11、进水嘴7、出水嘴4、联接螺栓和密封橡胶圈10、10′、10″、10″′;靶材14直接放在磁钢座2上,通过靶材压盖13固定;磁钢座2材料为无氧铜,中心放内磁钢12,周边钻若干小孔放外磁钢11,内磁钢12和外磁钢11极性朝向相反;极靴3材料为导磁材料,磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴3上;极靴3下面焊接进水嘴7和出水嘴4,冷却水低进高出,靠密封橡胶圈10、10′、10″、10″′实现密封以保证内外磁钢不和冷却水直接接触。
所述外屏蔽罩1和固定座6之间采用螺纹手动可调结构,可根据靶材的厚度上下调节,把靶头带电部分整个罩起来,防止放电。
所述绝缘座8为可以在真空下使用的耐热绝缘材料,起到固定座6和极靴3之间的绝缘作用;螺钉15′穿过绝缘座8拧在磁钢座2上,把极靴3压紧在绝缘座8和磁钢座2之间;极靴3和磁钢座2工作时都带电,螺钉15′也带电,为了避免螺钉15′和固定座6之间放电,用绝缘帽5塞在两者之间起绝缘作用;固定座6和绝缘座8之间的密封胶圈10′是靠螺钉15拧在螺钉套9上压紧的。
本实用新型用于溅射磁性材料的磁控靶磁钢几乎紧挨靶材下表面,在靶材上表面形成的最高磁感应强度比较大,可以溅射比用普通圆形平面永磁靶改型的强磁靶更厚的铁磁靶材。磁钢不和冷却水直接接触,延长了靶的实用寿命。本实用新型结构简单,成本低。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图中:1.外屏蔽罩,2.磁钢座,3.极靴,4.出水嘴,5.绝缘帽,6.固定座,7.进水嘴,8.绝缘座,9.螺钉套,10(10′、10″、10″′).密封橡胶圈,11.外磁钢,12.内磁钢,13.靶材压盖,14.靶材,15和15′.螺钉。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的结构和原理作进一步详细说明。
如图1所示,一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶,包括外屏蔽罩1、磁钢座2、极靴3、绝缘座8、固定座6、靶材压盖13、内磁钢12、外磁钢11、进水嘴7、出水嘴4、联接螺栓和密封橡胶圈10、10′、10″、10″′;靶材14直接放在磁钢座2上,通过靶材压盖13固定;磁钢座2材料为无氧铜,中心放内磁钢12,周边钻若干小孔放外磁钢11,内磁钢12和外磁钢11极性朝向相反;极靴3材料为导磁材料,磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴3上;极靴3下面焊接进水嘴7和出水嘴4,冷却水低进高出,靠密封橡胶圈10、10′、10″、10″′实现密封以保证内外磁钢不和冷却水直接接触。
外屏蔽罩1和固定座6之间采用螺纹手动可调结构,可根据靶材的厚度上下调节,把靶头带电部分整个罩起来,防止放电。磁钢座2材料为无氧铜,中心放内磁钢12,周边钻若干小孔放外磁钢11,内磁钢和外磁钢极性朝向相反。靶材14直接放在磁钢座2上,通过靶材压盖13固定。极靴3安装在磁钢座2下面,为导磁材料,磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴3上。极靴3下面氩弧焊焊接进水嘴7和出水嘴4,冷却水低进高出,靠密封橡胶圈10″和10″′实现密封。绝缘座8为可以在真空下使用的耐热绝缘材料,起到固定座6和极靴3之间的绝缘作用。螺钉15′穿过绝缘座8拧在磁钢座2上,把极靴3压紧在绝缘座8和磁钢座2之间。极靴3和磁钢座2工作时都带电,螺钉15′也带电,为了避免螺钉15′和固定座6之间放电,用绝缘帽5塞在两者之间起绝缘作用。固定座6和绝缘座8之间的密封胶圈10′是靠螺钉15拧在螺钉套9上压紧的。

Claims (3)

1.一种溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶,包括外屏蔽罩(1)、磁钢座(2)、极靴(3)、绝缘座(8)、固定座(6)、靶材压盖(13)、内磁钢(12)、外磁钢(11)、进水嘴(7)、出水嘴(4)、联接螺栓和密封橡胶圈(10、10′、10″、10″′);其特征在于:靶材(14)直接放在磁钢座(2)上,通过靶材压盖(13)固定;磁钢座(2)材料为无氧铜,中心放内磁钢(12),周边钻若干小孔放外磁钢(11),内磁钢(12)和外磁钢(11)极性朝向相反;极靴(3)材料为导磁材料,磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴(3)上;极靴(3)下面焊接进水嘴(7)和出水嘴(4),冷却水低进高出,靠密封橡胶圈(10、10′、10″、10″′)实现密封以保证内外磁钢不和冷却水直接接触。
2.按照权利要求1所述溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶,其特征在于:外屏蔽罩(1)和固定座(6)之间采用螺纹手动可调结构,可根据靶材的厚度上下调节,把靶头带电部分整个罩起来,防止放电。
3.按照权利要求1所述溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶,其特征在于:绝缘座(8)为可以在真空下使用的耐热绝缘材料,起到固定座(6)和极靴(3)之间的绝缘作用;螺钉(15′)穿过绝缘座(8)拧在磁钢座(2)上,把极靴(3)压紧在绝缘座(8)和磁钢座(2)之间;极靴(3)和磁钢座(2)工作时都带电,螺钉(15′)也带电,为了避免螺钉(15′)和固定座(6)之间放电,用绝缘帽(5)塞在两者之间起绝缘作用;固定座(6)和绝缘座(8)之间的密封胶圈(10′)是靠螺钉(15)拧在螺钉套(9)上压紧的。
CNU2008202195822U 2008-11-19 2008-11-19 用于溅射磁性材料的磁控靶 Expired - Lifetime CN201296778Y (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNU2008202195822U CN201296778Y (zh) 2008-11-19 2008-11-19 用于溅射磁性材料的磁控靶

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNU2008202195822U CN201296778Y (zh) 2008-11-19 2008-11-19 用于溅射磁性材料的磁控靶

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN201296778Y true CN201296778Y (zh) 2009-08-26

Family

ID=41042752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNU2008202195822U Expired - Lifetime CN201296778Y (zh) 2008-11-19 2008-11-19 用于溅射磁性材料的磁控靶

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN201296778Y (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101736300B (zh) * 2008-11-19 2012-04-11 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控溅射靶
CN102534521A (zh) * 2010-12-13 2012-07-04 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控靶布气结构
CN103388124A (zh) * 2012-05-10 2013-11-13 三星显示有限公司 溅射设备以及使用该溅射设备沉积薄膜的方法
CN104532199A (zh) * 2014-12-16 2015-04-22 张家港市铭斯特光电科技有限公司 一种中频磁控溅射镀膜用阴极
CN114959614A (zh) * 2022-06-20 2022-08-30 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种磁控溅射靶电极连接装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101736300B (zh) * 2008-11-19 2012-04-11 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控溅射靶
CN102534521A (zh) * 2010-12-13 2012-07-04 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控靶布气结构
CN103388124A (zh) * 2012-05-10 2013-11-13 三星显示有限公司 溅射设备以及使用该溅射设备沉积薄膜的方法
CN104532199A (zh) * 2014-12-16 2015-04-22 张家港市铭斯特光电科技有限公司 一种中频磁控溅射镀膜用阴极
CN114959614A (zh) * 2022-06-20 2022-08-30 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种磁控溅射靶电极连接装置
CN114959614B (zh) * 2022-06-20 2024-02-23 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种磁控溅射靶电极连接装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101736300B (zh) 一种磁控溅射靶
CN108149209B (zh) 一种复合式磁控溅射阴极
CN201296778Y (zh) 用于溅射磁性材料的磁控靶
US6338781B1 (en) Magnetron sputtering cathode with magnet disposed between two yoke plates
CN104928635B (zh) 磁控溅射腔室及磁控溅射设备
KR101698413B1 (ko) 진공 아크 기화 소스 및 진공 아크 기화 소스를 가진 진공 아크 기화 챔버
US20110220494A1 (en) Methods and apparatus for magnetron metallization for semiconductor fabrication
CN101280420B (zh) 一种具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶
CN101250687A (zh) 一种矩形平面磁控溅射阴极
CN101812667A (zh) 磁控溅射镀膜阴极装置
CN112831762B (zh) 一种Halbach永磁体结构的磁控溅射靶枪
CN101126152B (zh) 柱状磁控溅射器
CN105764225B (zh) 一种紧凑型大功率空心阴极放电装置
CN102953039A (zh) 一种真空磁控溅射镀膜用的旋转阴极
CN1245534C (zh) 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极及其溅射方法
CN111621751B (zh) 一种多模式调制弧源装置
CN201495278U (zh) 电动引弧间接冷却式阴极电弧离子源
CN1130215A (zh) 平面磁控溅镀的方法和设备
CN100543176C (zh) 用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶
CN111411337B (zh) 一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统
CN213652627U (zh) 一种适用于强磁性材料的磁控溅射靶
US20140262796A1 (en) Metal Plating Apparatus and Method Using Solenoid Coil
CN103103487A (zh) 一种磁控溅射镀膜装置的辅助阳极单元
CN207918945U (zh) 阴极电弧靶座
CN201162042Y (zh) 一种矩形平面磁控溅射阴极

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
AV01 Patent right actively abandoned

Granted publication date: 20090826

Effective date of abandoning: 20081119