CN201274586Y - 一种加热线圈盘 - Google Patents

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CN201274586Y CNU2008201001919U CN200820100191U CN201274586Y CN 201274586 Y CN201274586 Y CN 201274586Y CN U2008201001919 U CNU2008201001919 U CN U2008201001919U CN 200820100191 U CN200820100191 U CN 200820100191U CN 201274586 Y CN201274586 Y CN 201274586Y
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刘文华
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Abstract

本实用新型涉及一种加热线圈盘。包括线圈(1)、绕线支架(3)，线圈(1)置于绕线支架(3)的上方，其特征在于所述线圈(1)是由漆包线(2)绕制而成的局部多层或全部多层的绕组。本实用新型由于线圈采用局部多层或全部多层的绕组结构，因此，能使置于加热线圈上方的锅体负载产生大量的均匀热量，从而达到均匀加热的目的，不但制作安装简便，而且绕线支架结构简单，材料成本较低。

Description

一种加热线圈盘
技术领域
本实用新型是一种加热线圈盘，属于加热线圈盘的改进技术。
背景技术
现有家电产品中所使用的加热线圈盘，其结构多是由漆包线均匀绕制而成的单层线圈，这种类型的线圈盘绕制工艺简单，成本也低，但是实验结果表明：存在磁力分布不均匀等问题，即在距离线圈盘中心三份之一的地方磁力最强，其他地方则磁力较弱，导致锅具负载加热呈窄带状，不均匀，烹饪效果不好。
为此，专利CN2679958公开了一种内外环型加热线圈盘，其特征在于线圈盘支架分为内环支架和外环支架，加热线圈也分为相隔离的内加热线圈盘和外加热线圈盘；内加热线圈盘与外加热线圈盘通过并联或串联的方式联接。该专利采用内、外两组单层绕制的加热线圈，在使用过程中能够产生两个集中的磁场波峰，锅具负载上能有两个集中的加热涡流圈产生焦耳热，因此只能够实现两个窄带状加热，烹饪效果有明显改进，但仍然不能实现整个锅体均匀加热；同时，线圈盘需要两个支架和两组线圈，材料成本较高，制作安装较为复杂。
实用新型内容
本实用新型的目的在于考虑上述问题而提供一种能够实现整个锅体均匀加热、材料和制作成本较低的加热线圈盘。
为此，本实用新型的技术方案是：一种加热线圈盘，包括线圈、绕线支架，线圈置于绕线支架的上方，其中所述线圈是由漆包线绕制而成的局部多层或全部多层的的绕组结构。
所述线圈各层的漆包线之间的水平间距d可以相等，也可以不相等。
所述线圈为凹型线圈或平面型线圈。
本实用新型由于线圈采用局部多层或全部多层的绕组结构，因此，能使置于加热线圈上方的锅体负载产生大量的均匀热量，从而达到均匀加热的目的，不但制作安装简便，而且绕线支架结构简单，材料成本较低。
附图说明
图1为本实用新型的实施例1的轴对称结构截面示意图；
图2为本实用新型的实施例1的俯视结构示意图；
图3为本实用新型的实施例2的轴对称结构截面示意图。
具体实施方式
实施例1：
如图1、2所示，包括线圈1及绕线支架3，线圈1置于绕线支架3的上方，所述线圈1是由漆包线2绕制而成的局部多层或全部多层的绕组。
本实施例中：线圈1为平面型的线圈，且其内侧和外侧均有几圈漆包线2叠加成两层，因一般线圈的内侧和外侧磁力线分布较弱，因此本实施例中采用双层的绕组结构有助于提高这两个部位的磁场强度。整个线圈采用非均匀绕线，漆包线2之间的水平间距d相等。其中，绕线的具体实施方法是先绕第一层的第一圈，紧接着在第一圈的上方螺旋绕第二层的第一圈，接着绕第一层的第二圈，再在第一层的第二圈上方螺旋绕第二层的第二圈，依次绕制第三圈、第四圈……，双层部分绕完后接着和普通绕线方式一样绕制单层线圈。
实施例2：
如图3所示，本实施例与实施例1的不同之处在于：线圈1各层的漆包线2之间的水平间距d不相等。

Claims (3)

1、一种加热线圈盘，包括线圈(1)、绕线支架(3)，线圈(1)置于绕线支架(3)的上方，其特征在于所述线圈(1)是由漆包线(2)绕制而成的局部多层或全部多层的绕组。
2、根据权利要求1所述的加热线圈盘，其特征在于所述线圈(1)各层的漆包线(2)之间的水平间距d可以相等，也可以不相等。
3、根据权利要求1所述的加热线圈盘，其特征在于所述线圈(1)为凹型线圈或平面型线圈。
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Owner name: MIDEA GROUP CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: MEIDI GROUP CO. LTD.

CP03 Change of name, title or address

Address after: 528311 Guangdong, Foshan, Beijiao, the United States, the United States and the United States on the avenue of the United States, the headquarters of the United States building B floor, District, 26-28

Patentee after: MIDEA GROUP Co.,Ltd.

Address before: 528311 Foshan, Shunde District, Beijiao Town, Penglai Road, the United States Industrial City

Patentee before: Midea Group

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