CN201203743Y

CN201203743Y - 一种具有镀膜遮罩的成像装置

Info

Publication number: CN201203743Y
Application number: CNU2008201052215U
Authority: CN
Inventors: 谢基生
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2008-04-10
Filing date: 2008-04-10
Publication date: 2009-03-04
Anticipated expiration: 2018-04-10

Abstract

本实用新型涉及一种具有镀膜遮罩的成像装置，包括：一外壳体、置于该外壳体内部的成像膜组板，所述成像膜组板至少包含一成像镜头，其特点是，在所述外壳体的前端镶有一镀膜遮罩，所述成像镜头贴近于该镀膜遮罩的背面。本实用新型成像装置的镀膜遮罩是在透明基板上镀有多层介电质薄膜，利用光学干涉原理对红外呈现高穿透率以及对可见光呈现低穿透率、高反射率的分光效果，低穿透率使镀膜遮罩后的彩色摄影机可成像，高反射率使镀膜遮罩达到隐藏装饰的功能。

Description

一种具有镀膜遮罩的成像装置

技术领域

本实用新型涉及一种日夜型摄像装置，特别是涉及一种具有镀膜遮罩的成像装置。

背景技术

目前防盗监视用的日夜型摄像装置，是把摄像成像模组与红外光源模组合在一起，再同时置放在一铝制外壳体内，铝制外壳体前端镶入一个单层或双层透明玻璃片作为保护遮罩，白天人们可以通过透明玻璃片清楚看到透明玻璃片后的摄像镜头以及作为红外光源的红外发光二极管ILED(Infrared Light Emitting Diode)，很容易暴露出防盗监视摄像装置的位置与动作状况。

近年来，全球各地治安败坏、欧美地区的恐怖活动往往造成政府公共设施上安装更多安全的监视摄像机，用以对恶徒进行适当的防患与吓阻，例如社区、都会区街道、卖场与其他的公共场所等，遇有窃盗、性侵或重大事件时可由监视摄像机所摄录的影像加以观察与还原真相状况。

但是，科技的进步连带使得窃贼恶徒或恐怖份子的恶行知识与技巧也有所进步，明显的例子是偷窃破坏监视摄像机或刻意回避各处监视地点。因此，伪装隐藏防盗监视型的摄像装置是现在欧美与全球其他国家地区迫切需求的安全装置。

防盗监视的摄像装置为了使环境光线不足的地方也可以摄像成像通常都配备有辅助的光源，例如红外光源与其他可见光照明灯。常见的是把红外光源安置围绕在摄像镜头四周的日夜型摄像装置。

国际市场上摄像监控防盗闭路电视行业中，出现大量称为高速球摄像机(Speed DomeCamera)的产品，其产品中特色是摄像机均设置有一半球型的透明遮罩保护摄像机镜头。近年来为了防止有心人的故意回避镜头或某些需求有必要将摄像机镜头隐藏，让人不容易看到摄像机。

一种现有技术是1974年公开的第3,819,856号美国发明专利，该发明专利在摄像机的透明球罩内凹表面上镀有Cr(金属铬)，使从透明球罩外表面看透明球罩内是不透明的。这是以Cr的半透明度来做摄像机的隐藏。

另一种现有技术是1973年公开的第3,739,703号美国发明专利，该发明专利在透明球罩内放置一不透明遮罩(an opaque mask)用以遮着从透明球罩进入的入射光。

还有一种现有技术是1980年公开的第4,225,881号美国发明专利，该发明专利的摄像机的外罩是镀银的高反射金属，以氧化硅依序镀在银膜上，用以保护银膜以及控制光谱的反应。而氧化硅又被一塑料涂层保护，在塑料涂层或是在氧化硅涂层是镀有一种材料，像黑色漆，用以吸收外罩内的反射。

如上先前技术揭露有关遮蔽摄像机的方法是镀金属薄膜，像第3,819,856号是以镀半透明度的金属铬Cr来做摄像机的隐藏，像第4,225,881号外罩是镀银的高反射金属。再如第3,739,703号是在透明球罩内放置一不透明遮罩用以遮着从透明球罩进入的入射光，所以，其中不透明遮罩是不透光的。

镀铬Cr、镀银Ag等称为镀金属反射膜。由于镀铬呈现浅茶色隐藏效果不佳，而镀银又容易氧化，因此目前有人以金属铝Al取代。

一般金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽反射带比较宽；缺点是光损耗大，反射率不可能很高，提高反射率就降低穿透率影响成像品质。更重要的是金属膜(金、银、铬与铝)对红外有很高的吸收带，使镀有金属膜的遮罩无法(或不容易)通过红外，监视用摄像机很难在夜间(环境光线不足)摄取到红外影像。

实用新型内容

本实用新型提供一种具有镀膜遮罩的成像装置，该装置中的摄像机穿透一镀膜遮罩后在白天与夜间仍可成像，而且该镀膜遮罩具有隐藏功能。

为了达到上述目的，本实用新型的技术方案是：一种具有镀膜遮罩的成像装置，包括：一外壳体、置于该外壳体内部的成像膜组板，所述成像膜组板至少包含一成像镜头，其特点是，在所述外壳体的前端镶有一镀膜遮罩，该镀膜遮罩对可见光波域具有高反射与低穿透的分光比，对红外波域具有高穿透率；所述成像镜头贴近于该镀膜遮罩的背面。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述外壳体的形状为圆筒型、方型或椭圆形。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述镀膜遮罩的镀膜材料为二氧化硅或二氧化钛，且镀膜遮罩可见光的穿透率为10％～40％。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述镀膜遮罩的基材为透明聚碳酸树脂。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述镀膜遮罩的基材为透明玻璃。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述成像装置还包含镜头遮光圈套，该镜头遮光圈套套入成像镜头的四周，其前端紧贴镀膜遮罩。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述成像装置还包含红外光源膜组，该红外光源膜组为一中央有一空心圆的印刷电路板，其空心圆的圆孔用以套入成像镜头，在印刷电路板的圆周围布置有复数只的红外发光光源。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述红外光源膜组发射的中心波长在880nm至950nm之间。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，所述成像装置还包含黑色遮罩片，该黑色遮罩片中央开出一空心圆孔，用以套入成像镜头，遮住红外发光光源。

上述具有镀膜遮罩的成像装置，其中，在所述成像膜组板上附加有一可切换红外截止滤光片与红外通过滤光片的双滤片切换装置，所述双滤片切换装置包含有一对电磁铁，分别固定在长方型双滤片切换装置的两端；一对普通磁铁，分别对应于电磁铁上，其中一普通磁铁黏着于红外截止滤光片上，另一普通磁铁黏着于红外通过滤光片上。

本实用新型由于采用上述技术方案，使之与现有技术相比，具有以下的优点和积极效果：

1.本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置由于镀膜遮罩外表面在外壳体前方造成镜面高反射，使人眼看不到镀膜遮罩后的红外光源模组、与成像模组板，达到隐藏与装饰功效。

2.成像模组板面对着镀膜遮罩的背面可以摄取到良好彩色、黑白影像的成像品质。

附图说明

图1是现有技术日夜型摄像机的外观示意图；

图1A是本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置的外观示意图；

图2是现有技术日夜型摄像装置的内部结构示意图；

图2A是本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置的内部结构示意图；

图3是镀膜遮罩样品A的光谱图；

图3A是镀膜遮罩样品B的光谱图；

图4是基本工业彩色学的示意图；

图4A是三原色光与三色料关系的示意图；

图5是现有技术日夜型摄像机光谱图；

图5A是红外通过滤光片光谱图；

图6是本实用新型成像装置加装一双滤片切换装置后的示意图；

图6A是双滤片切换装置在切入红外截止滤光片时的示意图；

图6B是双滤片切换装置在切入红外通过滤光片时的示意图；

图7是薄膜反射率与光学厚度的变化关系图。

具体实施方式

以下参见附图具体说明本实用新型的较佳实施方式：

请参见图1所示为现有技术日夜型彩色摄像机的外观示意图，外观上看似像一圆筒型的外壳体10，在外壳体10前方镶有一透明玻璃片100。透过透明玻璃片100可清楚看到透明玻璃片100内有一成像镜头20、与布置在成像镜头20的四周围的复数只红外发光二极管IRLED 30以及一CDS光敏电阻(会依光线的强弱而改变电阻值)31。

其中外壳体10的形状在市场上除了圆筒型以外，也可以是方型、椭圆形等其他各种的立体空间。本实施例采用圆筒型。

红外发光二极管30发射的中心波长常见有两种：一种是850nm，对影像感测器感应效果较好，但有红爆(发光时肉眼可看到红光点，容易曝露光源位置)现象。另一种是940nm，对影像感测器感应效果较差，但无红爆现象。有些厂商也生产其他规格产品，像880nm、950nm等。其中880nm的红爆现象比850nm不明显，而950nm与940nm性能几乎一样。

本实施例的红外发光二极管30是购用型名为GL-520的产品数十颗，环氧树脂包装，中心波长950nm，幅射角度±56度，每颗最大功率120mW。

当红外发光二极管30的只数增加或由复数只组合后的总功率达到一定的程度(例如10W)就有必要加装散热装置。当CDS光敏电阻31的设计，是在环境照度低于某一设定值(例如为10Lux)时输出信号驱动红外发光二极管30。

图1A为本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置的外观示意图。

因为，由图1的透明玻璃片100被移除取出后改装置成如图1A的一镀膜遮罩。因此，从外观看已经看不到在镀膜遮罩200后的成像镜头20、红外发光二极管30以及CDS光敏电阻31。

参见图2所示为现有技术日夜型摄像装置的内部结构，包含有一透明玻璃片100、红外发光二极管30、一红外光源模组30a、一成像模组板40、一镜头遮光圈套20a、一成像镜头20、以及可说明可见光的L1、L2与可代表红外的L1a、L2a等的代表光线。

透明玻璃片100是镶在外壳体(常见的是铝制圆筒状)10前方(如图1)，用以保护外壳体10内的一红外光源模组30a与一成像模组板40。

红外光源模组30a是在一片中央有一空心圆的印刷电路板的圆周围布置有复数只的红外发光二极管30。其空心圆的圆孔用以套入成像镜头20。使红外光源模组30a发射红外的方向与成像镜头20接受入射光的方向有相同的方向。

由于红外科技的快速进步，红外光源模组30a不一定仅是限制于红外发光二极管30作为发光源，例如具有丰富红外的卤素灯。本实施为方便起见采用习知的红外发光二极管30作为发光源。一般可发射红外的光源基本上都可作为红外光源模组30a。

成像模组板40包含有一成像镜头20、一黑色镜头遮光的圈套20a。实际上，一般的成像模组板40还包含有习知的一控制电路与一影像感测器等在图中并未绘出。

首先，因为透明玻璃片100是透明的，所以可见光L1与L2可通过透明玻璃片100使人眼睛可看到透明玻璃片100背面的红外发光二极管30与成像镜头20。

也因为透明玻璃片100是透明的，所以可见光L2与红外L2a也可通过使可见光L2与红外L2a可以进入成像镜头20后成像(彩色或黑白的影)。

黑色的镜头遮光圈套20a主要是套入成像镜头20的四周，使成像镜头20不会被红外发光二极管30发射的红外在透明玻璃片100上造成的反光(俗称光害)再次进入成像镜头20，通常在大功率的红外发光二极管30比较会有强烈的反射红外。

参见图2A所示为本实用新型具有镀膜遮罩成像装置的内部结构，本结构与图2现有技术日夜型摄像装置内部结构所包含的结构相似。例如，均是包含有一红外光源模组30a、与一成像模组板40。以及可说明可见光L1、L2与红外L1a、L2a的代表性光线。

图2与图2A主要不同的结构是：

图2有一片透明玻璃片100而图2A没有。取而代之的是，图2A有一片镀膜遮罩200。另外还有一片黑色遮罩片300。

镀膜遮罩200是在一厚度为3mm的透明基板，例如为透明青玻璃(也可以是其他光学级树脂，例如聚碳酸酯树脂PC，Polycarbonate)上镀有介电质薄膜，以介电质薄膜干涉效应造成广域的入射光适当地分成两道光路的分光镜效果，一道入射光入射在基板介面时有一部份穿透基板介面，另一部份自基板介面反射。其中，镀膜遮罩200的镀膜膜材是采用对可见光与红外均可通过的材料。

黑色遮罩片300是由两种或两种以上透明色料混入透明树脂后射出或压铸成型的薄片。黑色遮罩片300是一种可阻挡可见光但不阻挡红外的材料。在黑色遮罩片300中央如同红外光源模组30a上的中央一样，开出有一空心圆孔用以套入成像镜头20，然后遮住红外发光二极管30。

有关图2A的镀膜遮罩200以及黑色遮罩片300将在后面再继续详述。

如图2A所示，可见光L1到达镀膜遮罩200后分成两道光。其中一道光L11在入射到镀膜遮罩200时反射(高反射率)回去，另一道光L12则穿透(低穿透率)镀膜遮罩200。

L11的反射让人眼感觉到镀膜遮罩200的表面好像一面亮丽的镜子。

L12的穿透到达黑色遮罩片300后被黑色遮罩片300吸收掉。

可见光L2到达镀膜遮罩200也分成两道光。其中一道光穿透(低穿透率)镀膜遮罩200后进入成像镜头20后成像(彩色影像)。

同样，红外L2a(可能是其他红外光源发射的红外)也可穿透镀膜遮罩200进入成像镜头20后成像(黑白影像)。其中，红外发光二极管30发射的红外L1a穿透镀膜遮罩200碰到物体再反射回来进入成像镜头20后成像(黑白影像)。

如果内设有CDS感应器来感应驱动红外光源模组30a时，其设计的设定值在相同于图2的环境照度下要提高一些。(例如在图2的环境照度下设定值为10Lux，则在图2A的环境照度下调整为40Lux)。理由是如图2A所示，入射光L2在到达镀膜遮罩200后分成两道光，其中一道光穿透进入CDS感应器时实际上比图2的环境照度下少了一道反射出去的光能。CDS感应器会误会成是环境照度变暗了因而驱动。

有时也把CDS感应器装置在镀膜遮罩200的外部，或者移除CDS感应器改为一手动开关用手动控制，或者以人体红外热感应器(俗称PIR)取代也都可以驱动红外光源模组30a。

本实施例为方便试验制作了两片镀膜遮罩200包括有两个不同光谱图的样品A与样品B等两片。

两片样品A与样品B都是以厚度为3mm的透明玻璃为基材(如果用聚碳酸酯树脂PC为基材时，要以俗称冷镀方式镀膜，其镀膜设备与技术较高)，以二氧化钛(TiO₂)与二氧化硅(SiO₂)的二种高低不同折射率材料为膜材，将膜材交替蒸镀在透明玻璃上。

请参阅图3为所述镀膜遮罩200样品A的光谱图。

请参阅图3A为所述镀膜遮罩200样品B的光谱图。

图3与图3A的主要参数如下列：

(1)纵坐标为穿透率百分比T％；(2)横坐标为光谱波长(单位nm)。(a)白光环境、(b)正面入射角(0度)、(c)参考波长为450nm、(d)以四分之一波方式设计。

图3与图3A的光谱图曲线中，在可见光范围400nm～700nm间的穿透率约为20％，其曲线并非完全的一均匀直线。一般折射率愈大，则反射率越大。在可见光部份不同颜色的光折射率n依序从小变大属于正色散情形，但是变动幅度很小，如图3与图3A的光谱所示的变动幅度(非平滑直线)很小对本装置的摄像成像品质(色偏)没影响。

图3与图3A的光谱图曲线中，对红外有很高的穿透率，在波长范围720nm～1100nm间的曲线有两个不同处；图3中在720nm处往上爬升到约850nm为最高峰持续到1,000nm后再往下降。而图3A中在780nm处往上爬升到约900nm为最高峰持续到1,000nm。

本实用新型将光谱图的主要参数与下列膜层设计完成后，再转交委托镀膜厂商制作的样品A镀有二十二层：

第一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.5500；

第二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.5100；

第三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.7700；

第四层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.3300；

第五层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.1800；

第六层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.4600；

第七层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.7500；

第八层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.7800；

第九层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.2000；

第十层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1200；

第十一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.9000；

第十二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.8100；

第十三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝2.4300；

第十四层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.5100；

第十五层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.8400；

第十六层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.8900；

第十七层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.6300；

第十八层：镀二氧化硅，光学膜厚＝2.3100；

第十九层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.7300；

第二十层：镀二氧化硅，光学膜厚＝2.1900；

第二十一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝4.2000；

第二十二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0500。

本实用新型将光谱图的主要参数与下列膜层设计完成后，又再委托镀膜厂制作的样品B镀有二十五层：

第一层：镀二氧化硅，光学膜厚＝5.0000；

第二层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.1600；

第三层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.8600；

第四层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.3600；

第五层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1500；

第六层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.5600；

第七层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.5700；

第八层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.9800；

第九层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.5500；

第十层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.4800；

第十一层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0000；

第十二层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.6200；

第十三层：镀二氧化硅，光学膜厚＝3.1000；

第十四层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.0300；

第十五层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0000；

第十六层：镀二氧化钛，光学膜厚＝2.9700；

第十七层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0500；

第十八层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.4500；

第十九层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.4500；

第二十层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.4600；

第二十一层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.4500；

第二十二层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.4400；

第二十三层：镀二氧化硅，光学膜厚＝2.2200；

第二十四层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.4200；

第二十五层：镀二氧化硅，光学膜厚＝3.0700。

如图3与图3A所示镀膜遮罩200有20％的穿透率，所以镀膜遮罩200是属于一种半透明的。如果把镀膜遮罩200面向光源亮一点的地方，人眼通过镀膜遮罩200看过去就可清楚看到对面的景物。所以，对镀膜遮罩200本身来说它是半透明的。如果，把镀膜遮罩200摆放在桌面(或其他不透明物面作背景)上，人眼看到大部份的反射(80％)使镀膜遮罩200就像一面镜子，人眼看到自己的影像。

今日在薄膜光学上，我们很容易由向量法或导纳轨迹法在光学级基板上，镀折射率高低交互变化的多层四分之一波膜堆可获得预期的穿透率T％。而且理论上也同时可以证明用相同多膜层数，四分之一波膜堆比非四分之一波膜堆所得到的反射率R％要高。而膜层数越多则反射率也越大，也就是说，很容易控制穿透与反射的比例。

目前现有可用的镀膜材料在可见光区高折射率小于等于2.4而低折射率大于等于1.35，所以单一的四分之一波膜堆的高反射带的宽度是有限的。因此，要满足本实施例在可见光区能够像金属模一样有较宽的反射带，有必要将全介电质膜高反射带拓宽。

拓宽的方法其中之一，是使膜系之每层厚度有规则的递增(可依等比级数或等差级数)，如此可使很宽的区域内的任何波长都有足够多的膜层，其光学厚度也足够接近四分之一波。不过如此做成的高反射区反射率会有许多下降的波纹，必须用优化法再行优化。其它的方法还有将一个中心波长稍短的四分之一波膜堆栈加在另一个四分之一波膜堆上。

有关镀膜的设计基本上可从标准膜系开始着手，例如高反射镜不管波宽大小或单或双波数，都一律以四分之一波膜堆基础来设计。当初始设计无法满足需求的光学成效时，就利用目前商用设计的电脑软件来优化或合成。有些优化所用的是数学技巧而且不断的改进中。例如最常用的有简形优化法、最小平方调适法以及合成法。

本实施例就是将设计好的各膜层参数数据，再委托厂商以真空蒸镀完成的样品A与样品B的镀膜遮罩200，主要涉及镀膜遮罩200的应用，而其中的镀膜过程与相关技术未涉及本实用新型专利范围。

如图3与图3A的光谱图曲线中，对可见光波域(400nm～700nm)形成反射率约为80％与穿透率约为20％的分光效果。对红外确有很高的穿透率约为99％(由于玻璃材质与镀膜作业上的过程，事实上经分光谱仪测试约92％)。

对红外的穿透率在90％以上在实际应用上已经足够，若有特殊需求想增加红外照射强度通常只要把红外发光二极管30功率提高就可应付。

纵然对红外有很高的穿透率，还是要移除摄像机内置的红外截止滤光片IPF(Infrared cut filter)才能发挥效果，否则穿通过去的红外在红外截止滤光片被截止而无法进入影像感测器上感测成像。

本实施例为方便试验也制作了一片黑色遮罩片300。

请参阅图4为基本工业彩色学的示意图。

请参阅图4A为三原色光与三色料关系的示意图。

图4中，其中三个大圆图分别为青色(C)Cyan、洋红(M)Magenta、与黄色(Y)Yellow。三个小椭圆形图分别为蓝色(B)、红(R)、与绿色(G)。

把青色(C)、洋红(M)、与黄色(Y)等三原色依相同比例成份混合可组成黑色色体(如中央所示的Black)。同样再把蓝色(B)、红(R)、与绿色(G)等三原色依相同比例成份混合也可组成黑色色体(如中央所示的Black)。

再如果把蓝色(B)、红(R)、与绿色(G)等三原色依不相同比例成份混合也可组成黑色色体。例如再将黄色(Y)料和蓝色(B)料两色料相混合也可以得到黑色(Black)，洋红色(M)料与绿色(G)料相混合也可以得到黑色(Black)，青色(C)料与红色(R)料相混合也可以得到黑色(Black)。

以上的黑色(如中央所示的Black)虽不完全有一样的黑度，但可称为黑色或类似黑。

在印刷工业上把青色(C)、洋红(M)与黄色(Y)等三原色依相同比例成分混合可组成黑色，但这并非纯正的黑色，其所谓的CMYK的K就是纯正的黑色。一般这种纯正的黑色称为碳黑。由此可知，将一种、两种或三种色料混合可得黑色色料。

由彩色学上可知图4A所示的白光W(White)的三原色分别是主要中心波长在700nm的红光RED，主要中心波长在520nm的绿光GREEN以及主要中心波长在460nm的蓝光BLUE，分别简称RGB的三色光所组成。基本上，颜色如同“红色的香苹果”一样，是一种人类的生理感觉。它的存在有赖于观察者亲身的感受。例如说，没有空气的存在，人们感受不到苹果的香味。没有光线的存在，人们感受不到苹果的红色。可见光的波长约从380nm～780nm(光谱图常也有称为400nm～700nm)，经过三陵镜会分解为红、橙、黄、绿、蓝、紫排列的彩色可见光。理论上波长627nm～780nm范围是红色、589nm～627nm是橙色、550nm～589nm是黄色、480nm～550nm是绿色、450nm～480nm是蓝色、380nm～450nm是紫色。比红色更长波称为红外(IR)，比紫色更短波称为紫外线。

如图4A试验，白光W(White)通过青色(C)Cyan透明色板时红光(R)被吸收，绿光(G)与蓝光(B)通过。绿光(G)与蓝光(B)通过洋红(M)透明色板时绿光(G)又被吸收，仅剩蓝光(B)通过。当蓝光(B)通过黄色(Y)透明色板时蓝光(B)被吸收。白光W(White)通过青色(C)Cyan、洋红(M)、黄色(Y)等三透明色板最后变成黑色(Bk)。简单表示如下：

(Y)+(M)+(C)＝(Bk)＝(W)-(R)-(G)-(B)

上面分别的三个透明原色板的“透明”必须具有一定程度的透明度，不具透明的原色板无法通过可见光也无法通过红外光。

由图4原理将一种、两种或三种色料混合可得黑色色料，再将此黑色色料混入透明光学级PC(Polycarbonate)聚碳酸酯树脂射出成型后切割完成了一片黑色遮罩片300。

光学级聚碳酸酯树脂与其他在工业用塑料中透明性好的树脂，例如PMMA(透明度93％)、PC(透明度88％)、PS(透明度89％)、CR-39(透明度90％)、SAN树脂(透明度90％)、MS树脂(透明度90％、聚-4甲基戊烯-(TPX)(透明度>90％)。另外，像聚甲烯酸甲酯、苯乙烯共聚物(MAS)、PET、PP以及PVC等透明度均很好，仅要找到可相容的透明色料也可适用作为黑色遮罩片300的基材。透明树脂首先必须有高透明度，必然要求表面质量要求严格，尽量不要有任何斑纹、气孔、泛白、雾晕、黑点、变色、光泽不佳等缺陷。其透明以及表面光滑的目的主要是可以让红外顺利通过，避免或减少散射，也就是说，镀膜遮罩200阻挡可见光但不阻挡红外。这就可再说明如图2A所示，L12穿透镀膜遮罩200到达黑色遮罩片300后被黑色遮罩片300吸收掉；同样，红外L2a也可穿透镀膜遮罩200后进入成像镜头20后成像。

图2A所示的镀膜遮罩200要如图1A所示紧密镶在外壳体10的前方，不要有空隙让外部不需要的光进入外壳体10内造成不必要的干涉或反光影响成像品质。

如图2A所示如果移除掉黑色遮罩片300，会如何？

如图2A所示，L12穿透镀膜遮罩200到达红外发光二极管30上，如果红外发光二极管30是以透明树脂封装的，则有时会在透明树脂的封装上造成些微的反光。如果人眼靠近镀膜遮罩200，这个反光就反射到人眼而被人发现。如果人眼离开镀膜遮罩200有一段距离，人眼就看不到这个反光。

如果镀膜遮罩200的安装位置需装设在与人有近距离时，镀膜遮罩200后在红外发光二极管30的上方遮掩一黑色遮罩片300，就可避免红外发光二极管30上的反光被人眼近处看到。

目前，市场上有出现一种染深蓝色的红外发光二极管30，这种深蓝色的红外发光二极管30就算移除掉黑色遮罩片300，人眼靠近镀膜遮罩200也不容易看到这个反光。

镀膜遮罩200镶在外壳体10上，在斜角度(例如45度视角)光下人眼靠近镀膜遮罩200仔细看，也会看到外壳体10内部的反光，这时加入一片黑色遮罩片300在镀膜遮罩200后面，也可起到遮住这内部反光的效果。

所以，黑色遮罩片300的“黑色”作用就是要吸收掉对人眼的可见光。如果在无可见光反光的情况下就不一定要有黑色遮罩片300的存在。

目前，市场上CCD或Cmos影像感测器常见黏贴有一滤光片称为光学低通滤光片OLPF(Optical low pass filter)，因为OLPF牵涉了相当多还在专利保护阶段的技术，OLPF的好坏等于直接决定了成像画质的主要关键，许多生产厂商都将此一信息列为机密严格控管。OLPF的主要工作用来过滤输入光线中不同频率波长光讯号，以传送至CCD，并且避免不同频讯号干扰到CCD对色彩的判读。

光学低通滤光片通常有三至五片玻璃，其中有一片称为红外吸收玻璃用来吸收红外的，作用与红外截止滤光片一样阻挡红外的通过。具有光学低通滤光片的摄像机要在夜间(环境光线不足)时必须移除红外吸收玻璃，否则红外无法通过。

目前的光学低通滤光片已经允许部份的、相对较多的IR通过，例如Nikon的D70/D70s以至于后来的D50。

事实上许多内置的红外截止滤光片都是不能够百分之百将红外隔绝的，只要我们另外增加一红外光源辅助下还是可以摄取到红外的黑白影像(好像目前职业摄像师所用的照相机在镜头外加装一黑色的红外截止滤光镜一样)。

近年来流行的一般日夜型摄像机声称日夜均可摄像，白天(环境光线充足)可摄取可见光的彩色影像而在夜间(环境光线不足)可摄取红外的黑白影像。主要是其滤光感测的范围除了可见光以外也包含有一部份红外，如图5。

请参阅图5为现有技术日夜型摄像机的光谱图。

常见的一般日夜型摄像机如图5所示在红外部份是在中心波长为850nm的部份。所以，夜间在对应红外光源辅助下可以摄取红外的黑白影像。

在实际应用市场上，这种红外辅助光源发射的红外以850nm为中心波长的占绝大多数，众所周知使用850nm红外发光二极管主要缺点是人眼可看到“红爆”容易暴露出红外摄像机的位置。相对的，红外辅助光源发射的红外以940nm为中心波长的使用者占少数，主要缺点是红外感应的效率相对很低，大约是850nm的三分之一。但其相对优点是无“红爆”的现象。所以，较具隐密性。

近年来国际市场上也出现880nm，其红爆现象比850nm小很多，其对红外感应的效率比940nm高一些。对本装置而言相对是较理想的选择。

一般常见的成像像感测器主要分为CCD(Charge-Coupled Device)光电荷耦合器件和CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)互补金属氧化物半导体集成电路两种。

由于CCD与CMOS目前的技术对波长范围在400nm～1,000nm的可见光与红外均可感应，因此在足够环境照度下大都可摄取到可见光的彩色影像与红外的黑白影像。对于不可见的红外影像通常是在可见光环境照度不足下，藉助红外光源照射被摄物的反射成像。

因为一般常见的成像感测器可感应从可见光一直延伸至红外区。例如CCD摄像机对于红光区非常敏感，摄取可见光影像时会有一点偏红，必须加装一红外截止滤光片滤去红外光才能得到真实的色彩。

请参阅图5A为红外通过滤光片的光谱图。

如图5A，光谱图上看到约760nm以后通过。至于从哪里的波长以后通过起各厂家并无一定界限，在780nm或在680nm起在本装置均可称为红外通过滤光片54。

为了在环境照度充足(白天)下可以摄取到真实的色彩，以及在环境照度不充足(夜间)下可以摄取到红外的黑白影像。近年来较高档的监视摄像机内部都放置有俗称双滤片切换的装置。

双滤片切换装置是指一红外截止滤光片53与一光学玻璃片可相互切换的装置。其切换的方式常见的有两种：一种是小型直流马达驱动，另一种是磁铁磁力驱动。

滤光片滤光方式常见的有两种：一种是利用材料的吸收把不要的光吸收，另一种是利用镀膜选取需要的波段。

利用材料的吸收其价钱与制作技术相对比较低，但是只能让一个或一部份光谱通过，而其他光谱都滤掉。利用镀膜相对较贵，但是可以选择一部分光谱通过或是一部分光谱不能通过，滤光效果相对也比较好。

双滤片切换装置主要作用是环境照度充足下在影像感测器前切入红外截止滤光片，使入射的入射光滤除掉红外的部份，让剩余的可见光进入可以摄取到真实的色彩。环境照度不充足下在影像感测器前切入光学玻璃片(移除红外截止滤光片)，使入射的入射光包含红外与部份的可见光进入，可以摄取到红外的黑白影像。

也就是说光学玻璃片是透明的，对可见光与红外都可通过。早期置入的光学玻璃片其目的仅是要达成“移除红外截止滤光片”时，可以减少光程差。

本实施例为了在环境照度充足下，一方面要可以摄取到真实的色彩，另一方面也要可以摄取到单纯的红外影像。就把双滤片切换装置中的光学玻璃片移除，取而代之的是一红外通过滤光片。

红外截止滤光片ICF(Infrared Cut filter)与红外通过滤光片IPF(Infrared Passfilter)是相对的。ICF不让红外通过，IPF是让红外通过。

入射光通过双滤片切换装置，切入ICF时是通过可见光，而切入IPF时是通过红外。可见光与红外因波长不同，入射光的成像会失焦。例如切入ICF时影像很清楚但是切入IPF时影像有点模糊不清有失焦(焦点跑掉了)现象。

为减少失焦现象，本实施例是把ICF镜片厚度作成0.5mm而把ICF镜片厚度作成0.4mm的不同厚度。试验结果失焦不明显。

因此，再将设计好的各膜层参数数据再委托厂商镀膜完成一红外截止滤光片。

请参阅图5A为红外通过滤光片光谱图。

光谱图的主要参数如下列：

(1)纵坐标为穿透率百分比T％；(2)横坐标为光谱波长(单位nm)。(a)白光环境、(b)正面入射角(0度)、(c)参考波长为460nm.、(d)以四分之一波方式设计。

图5A红外通过滤光片膜层设计共有四十三层。

第一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.7100；

第二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1000；

第三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.1000；

第四层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1000；

第五层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.8600；

第六层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.9600；

第七层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.0200；

第八层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0700；

第九层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.8800；

第十层：镀二氧化硅，光学膜厚＝0.9400；

第十一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.9800；

第十二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0900；

第十三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.0300；

第十四层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1000；

第十五层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.0100；

第十六层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.0000；

第十七层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.1200；

第十八层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.6100；

第十九层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.3300；

第二十层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.2400；

第二十一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.2700；

第二十二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.6900；

第二十三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.7500；

第二十四层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1400；

第二十五层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.1200；

第二十六层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.1900；

第二十七层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.5700；

第二十八层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.3900；

第二十九层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.4800；

第三十层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.5600；

第三十一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.4900；

第三十二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.6000；

第三十三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.6000；

第三十四层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.2300；

第三十五层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.9700；

第三十六层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.2000；

第三十七层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.9000；

第三十八层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.2000；

第三十九层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.5900；

第四十层：镀二氧化硅，光学膜厚＝1.5500；

第四十一层：镀二氧化钛，光学膜厚＝1.2400；

第四十二层：镀二氧化硅，光学膜厚＝2.2900；

第四十三层：镀二氧化钛，光学膜厚＝0.3000。

由光谱图看到在780nm以前均被砍掉，所以780nm以后的红外逐渐上升通过到850nm后几乎高穿透。

镀膜后切片完成一IPF红外通过滤光片54。

如图6是在图2A的红外光源模组30a与成像模组板40之间，附加一双滤片切换装置50。

如图6A所示，一种双滤片切换装置50包含有一对电磁铁51a与52a，分别固定在长方型双滤片切换装置50的两端、有一对普通磁铁51b与52b分别对应于电磁铁51a与52a上。其中，普通磁铁51b黏着于红外截止滤光片53上、普通磁铁52b黏着于红外通过滤光片54上。

当电磁铁51a通电时，产生磁力吸引普通磁铁51b，使红外截止滤光片53移动到双滤片切换装置50的一端。同理，当电磁铁52a通电时，产生磁力吸引普通磁铁52b，使红外通过滤光片54移动到双滤片切换装置50的另一端。

双滤片切换装置50的切换电源可使红外截止滤光片53与红外通过滤光片54在双滤片切换装置50内移动(如图作上下移动)。

双滤片切换装置50有一入射光L50可以入射的光视窗Lw，光视窗Lw开口的面积与红外截止滤光片53、红外通过滤光片54等相同。

双滤片切换装置50正常运作时，光视窗Lw每次仅出现有一红外截止滤光片53或者是一红外通过滤光片54，若同时出现两片各一部份则表示双滤片切换装置50不正常运作。

假设光视窗Lw出现红外截止滤光片53时，则称为切入红外截止滤光片53。同样，光视窗Lw出现红外通过滤光片54时，则称为切入红外通过滤光片54。

入射光L50包含有可见光与红外。

若在可见光明显大于红外情况下：

切入红外截止滤光片53时可摄取到真实的彩色影像；

切入红外通过滤光片54时可摄取到微弱(有雪花班点状)的红外影像。

若在可见光大约等于红外情况下：

切入红外截止滤光片53时可摄取到真实的彩色影像；

切入红外通过滤光片54时可摄取到较佳的红外影像。

若在可见光明显小于红外情况下：

切入红外截止滤光片53时可摄取到微弱的彩色影像；

切入红外通过滤光片54时可摄取到较佳的红外影像。

所以，

在可见光明显大于红外情况下，就切入红外截止滤光片53。

在可见光明显小于红外情况下，就切入红外通过滤光片54。

其中，入射光L50包含有可见光与红外，何者较大？何者较小？在习知的应用上常借由一光敏电阻31对环境光(一般是可见光)不同而输出不同阻抗数值转换后设定控制。例如，一般控制在相对环境照度为10Lux时光敏电阻31控制电路启动红外发光二极管30与双滤片切换装置50，点亮红外发光二极管30与切入红外通过滤光片54。为更精确测出环境照度的需求，常将光敏电阻31设置在成像镜头20的附近，光敏电阻感应面与成像镜头20的光入射面同方向，如图1。

图6A为双滤片切换装置50在切入红外截止滤光片53时之示意图，用以区分图6B。图6B为双滤片切换装置50在切入红外通过滤光片54时之示意图。

在本实用新型成像装置中，若光敏电阻31是设置在外壳10内如图1A，光敏电阻31对光的感应在通过镀膜遮罩200明显与透明玻璃100不同。

同样10Lux照度通过镀膜遮罩200(例如在穿透率为20％时)后仅剩余2Lux。因此，设置在本实用新型装置内的光敏电阻31，启动设定数值应调高到50Lux。

请参阅图7为薄膜反射率R％与光学厚度的变化关系图。

由光学薄膜干涉现象可知，当光垂直入射单层膜时，且光学厚度Nd(为薄膜反射率与薄膜厚度的乘积)为(2λ₀/2)、λ₀、(3λ₀/2)…，膜层对波长的反光强度不变；若光学厚度Nd为(λ₀/4)、(3λ₀/4)、(5λ₀/4)…，反射率将为极大值或极小值，且其值决定于膜的折射率n是大于还是小于基板的折射率nS。当n>nS时，反射率为极大值，在n<nS时，反射率为极小值，如图7所示。由图7可见，一层光学厚度为入射光波长四分之一奇数倍，让反射波形成破坏性干涉，即可得反射率为0的减反射效果。但对其他波长的反射率并非为0，因而为了在可见光范围可得宽广的反射率通常都是多层结构，适当选择膜层的折射率与膜层设计就可得到适当的反射率。由图7可见分析可见，一层光学厚度为四分之一波长，且折射率够低的薄膜，可作为抗反射膜，使表面反射率降低，例如在玻璃(BK₇，n＝1.53)表面镀上单层氟化镁(MgF₂，n＝1.38)，即为一种简单结构的抗反射膜。相对的，若在玻璃表面镀上一层折射率足够高的材料，它将大大增加玻璃表面的反射率，因此这种薄膜可作为一种很好的分光镜，单层的二氧化钛(TiO₂，n＝2.2)或硫化锌(ZnS，n＝2.35)薄膜常作为这种用途，反射率约可达30％左右。

基本上单层膜的叠加就是多层膜。当使用多层薄膜时，可以依照我们的需求，运用高低折射率薄膜堆叠，做各式各样的薄膜设计，以产生我们所要求的光学特性。常见的如抗反射镜、高反射镜、分光镜、截止滤光镜、带通滤光镜、带止滤光镜等等。而电脑的出现，不但使光学薄膜设计(电脑辅助软件)更为方便，且光学薄膜的相关研究更是一日千里。至今，光学薄膜制作的困难点已经很少出现在设计上，只要特性要求合理，总是能设计出适用的多层膜结构，关键的问题在于薄膜制镀工艺的改进，如何精确地控制每一层的厚度和折射率，以得到期望的光学性质和机械特性，甚至考量制作的量产化及成本的降低，另外如薄膜材料的开发、先进镀膜技术的开发与薄膜的量测等，皆为薄膜工程上所要探讨的重要课题。

本实用新型的镀膜遮罩200是以电脑辅助的光学薄膜设计制作的多层薄膜结构。

至于，镀膜遮罩200的“镜子”的镜面效果，反射率越大则镜面效果越好。但是，提高反射率就会降低穿射率。

如果降低穿射率后在一般的环境下会影响成像品质变差，这就要再提高穿射率。提高穿射率就降低镜面效果。

要“提高镜子的镜面效果”以及要“得到最佳成像品质”是不容易同时兼顾的。如何在拿揑同时兼顾的最佳平衡点，对成品经销商而言并无一定的标准。尤其对不同的照明环境，例如24小时高照明经营的大卖场或经常是低照度的地下停车场等都有不同的兼顾之最佳平衡点。

请再回顾上面如由图3与图3A的光谱图所制作的样品A与样品B具有20％穿射率，是本实用新型一较佳实施例，但并非限制在刚好20％。在实际测试环境中穿射率在20％与23％之间并无多大差异。甚至于在大卖场的环境下测试结果发现穿射率在20％与40％之间也并无多大差异，这完全端视环境的照度。

就一般实验而言，反射率大于穿透率就可显示出有“镜子”的镜面效果。也就是说，穿透率在10％与40％之间是一般环境下较实用的范围。

穿透率在10％不是不行，仅是一般环境照度(例如约200 Lux)下使用者对成像品质变差比较不可接受而已。但是，对于最近出品的高解析度低照度的CCD摄像机例如，韩国三星Samsung编号SDB-40规格显示以F1.2镜头彩色最低照度为0.3Lux、黑白(夜间)最低照度为0.002 Lux，这在以穿射率在10％时的确可摄取到令人满意的品质，这是属于高阶产品。对于低阶的CMOS例如10万像素而言，要达到满意的品质约穿射率在40％或以上，这种低阶的CMOS已逐渐退出市场。对CMOS例如30万像素者穿射率在20％时在环境照度约300 Lux下确也可摄取到令人满意的品质。

镀膜遮罩200除可应用在室内以外，也可以设置应用在室外。仅是用在室外比用在室内所附加的装置设备相对较多，常见的方式是在外壳体10上方前缘加一凸出遮阳板用以遮掩强烈的太阳光，避免直接反射到人眼造成人眼视觉的干涉。

综上观之，本实用新型的具有镀膜遮罩的成像装置，适用隐藏监视摄像。

一般日夜型摄像装置的内部结构与本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置的内部结构主要不同的结构与效果是：

一般日夜型摄像装置内部结构(如图2)有一片透明玻璃片100；本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置内部结构(如图2A)有一片镀膜遮罩200。透明玻璃片100会使外壳体10内部的成像模组板40与红外光源模组30a明显曝露，而镀膜遮罩200可使外壳体10内的成像模组板40与红外光源模组30a达到隐藏。

如图1与图2A所示，本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置除了包含有一镀膜遮罩200还有一成像模组板40。

其中，镀膜遮罩200上是在一透明基材(玻璃或PC树脂)上镀有一多层介电质薄膜(如图3与图3A)，它对红外(如图2与图2A的L1a、L2a)可以通过，而对可见光(如图2与图2A的L1、L2)形成一具有高反射率(R％)与低穿透率(T％)的分光比(例如图3与图3A的R＝80％与T＝20％)。高反射率(R％)的可见光(80％)使镀膜遮罩200外表面所反射的光呈现亮丽的反射镜面。低穿透率(T％)的可见光(20％)可穿透镀膜遮罩200进入成像镜头20成像，穿透率在10％与40％之间在普遍的环境下为较佳实施例。

成像模组板40有一成像镜头20，此成像镜头20贴近于镀膜遮罩200的背面(如图2A)。如果成像镜头20的镜头凸出不易贴近于镀膜遮罩200的背面时可以套入一镜头遮光圈套20a，以免红外的反光进入成像镜头20。

成像模组板40上可附加有一双滤片切换装置50，可切换红外截止滤光片53与红外通过滤光片54的双滤光片。

成像模组板40上可附加有一红外光源模组30a。

成像模组板40设置在一外壳体10内。

外壳体10形状可以是圆筒型、方型、椭圆形等其他各种的立体空间。

其中，黑色遮罩片300的作用就是要吸收不必要的可见光，达成一种遮罩的功能。因此，黑色遮罩片300可说是镀膜遮罩200的一辅助品，在某些场合才有机会用到。

红外光源模组30a也可以独立置放于外壳体10的外部。目前市场上的红外发光二极管30发射的中心波长有850nm、880nm、与950nm等。红外光源模组30a板上可以采用单独一种、或两种、或三种之混合。对本实施例的红外光源模组30a而言，其发射的中心波长以880nm、与950nm为宜。

以上的实施方式，熟习此技艺的人士可由本说明书所揭示之内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型具有镀膜遮罩的成像装置亦可藉由其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节亦可基于不同观点与应用，本说明书中的各项细节亦可基于不同观点与应用，在不悖离本实用新型之精神下进行各种修饰与变更。

Claims

1、一种具有镀膜遮罩的成像装置，适用于摄影，包括：一外壳体(10)、置于该外壳体(10)内部的成像膜组板(40)，所述成像膜组板(40)至少包含一成像镜头(20)，其特征在于，

在所述外壳体(10)的前端镶有一镀膜遮罩(200)，该镀膜遮罩对可见光波域具有高反射与低穿透的分光比，对红外波域具有高穿透率；

所述成像镜头(20)贴近于该镀膜遮罩(200)的背面。

2.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，所述外壳体(10)的形状为圆筒型、方型或椭圆形。

3、如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，所述镀膜遮罩(200)的镀膜材料为二氧化硅或二氧化钛，且镀膜遮罩(200)可见光的穿透率为10％～40％。

4.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，所述镀膜遮罩(200)的基材为透明聚碳酸树脂。

5.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，所述镀膜遮罩(200)的基材为透明玻璃。

6.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，该成像装置还包含镜头遮光圈套(20a)，该镜头遮光圈套(20a)套入成像镜头(20)的四周，其前端紧贴镀膜遮罩(200)。

7.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，该成像装置还包含红外光源膜组(30a)，该红外光源膜组(30a)为一中央有一空心圆的印刷电路板，其空心圆的圆孔用以套入成像镜头(20)，在印刷电路板的圆周围布置有复数只的红外发光光源。

8.如权利要求7所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，所述红外光源膜组(30a)发射的中心波长在880nm至950nm之间。

9.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，该成像装置还包含黑色遮罩片(300)，该黑色遮罩片(300)中央开出一空心圆孔，用以套入成像镜头(20)，遮住红外发光光源。

10.如权利要求1所述的具有镀膜遮罩的成像装置，其特征在于，在所述成像膜组板(40)上附加有一可切换红外截止滤光片(53)与红外通过滤光片(54)的双滤片切换装置(50)，所述双滤片切换装置(50)包含有一对电磁铁(51a)与(52a)，分别固定在长方型双滤片切换装置(50)的两端；一对普通磁铁(51b)与(52b)，分别对应于电磁铁(51a)与(52a)上，其中所述普通磁铁(51b)黏着于红外截止滤光片(53)上，所述普通磁铁(52b)黏着于红外通过滤光片(54)上。