CN201122586Y

CN201122586Y - 真空镊子用吸附片和真空镊子

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Publication number: CN201122586Y
Application number: CNU2007201265202U
Authority: CN
Inventors: 小柳和真
Original assignee: New Japan Radio Co Ltd
Current assignee: New Japan Radio Co Ltd
Priority date: 2007-06-12
Filing date: 2007-08-08
Publication date: 2008-09-24
Anticipated expiration: 2017-08-08
Also published as: JP3134752U; TWM329239U

Abstract

本实用新型提供一种不会遮蔽操作员的视野而可使吸附片的插入尺寸恒定的真空镊子用吸附片和真空镊子。包括：镊子主体部，在内部形成了吸引通路；吸附片，与连接在镊子主体部前端的平板基板接触；吸附片的表面呈具备了吸引口的平面状，在其背面，包括突出于背面一侧、相互隔开配置的多个凸起部，在其内部，包括吸附片表面的吸引口和与真空镊子主体内部的吸引通路连通的内部吸引通路。

Description

真空镊子用吸附片和真空镊子

技术领域

本实用新型涉及吸附保持并运送半导体晶片、玻璃基板、金属盘等平板基板的真空镊子用吸附片和真空镊子，特别是涉及从以规定的间隔被收容在收容容器内的多个平板基板之中逐片抽取平板基板，或者在将平板基板逐片收容在收容容器内时所使用的真空镊子用吸附片和真空镊子。

背景技术

从以规定的间隔被收容在收容容器内的多个平板基板之中逐片抽取平板基板，或者在逐片收容在收容容器内时所使用的真空镊子，例如成为图3所示的结构。在图3所示的真空镊子中，吸附片20经连接构件30与镊子主体10的前端连接。镊子主体10在吸附保持平板基板时以操作员所握持的部分使吸附片20的表面与平板基板接触并吸附。

在吸附片20中，预先形成在成为吸附面1的表面开口的吸引口2，在内部形成内部吸引通路3。内部吸引通路3在与吸引口2连通的同时，从吸附片20的镊子主体10一侧的侧面部所设置的开口(连接口)，与在连接构件30和镊子主体10的内部所形成的吸引通路4连通。吸引通路4成为通过与泵40连接而被吸引的结构。

例如，如被收容在托架上的半导体晶片那样，在从以恒定的间隔被收容的平板基板之中抽取1片的情况下，在以恒定间隔排列的平板基板之间插入吸附片20，使吸附面1与平板基板的背面接触，使之吸引并吸附保持。此时，如在平板基板之间的间隙深深插入吸附片20，则在增高与邻接于欲吸附的平板基板的背面一侧的平板基板的表面接触的可能性。因此，如图4(A)所示，对现有的吸附片20而言，由于使插入平板基板间的狭窄间隙的插入尺寸恒定，所以成为具备突出于所吸附的平板构件的表面一侧的挡块5的结构(例如请见特开平2-23547号公报)。另外，如图4(B)所示，成为具备用于固定平板基板的沟槽6的结构(例如请见实开平5-29149号公报)。

实用新型内容

在现有的真空镊子中，通过在吸附片20中形成挡块5及沟槽6，成为不使吸附片20深深地插入所需深度或其以上的结构。然而，突出于吸附面1的表面一侧的挡块5及沟槽6却遮蔽了操作员的视野。另一方面，在未配备挡块5等的平板状的吸附片20中，插入尺寸并非恒定，与插入到平板基板之间的吸附片20的与背面一侧邻接的平板基板表面接触，招致裂痕或污染等的发生，这是我们所不希望的。特别是在平板基板是形成了半导体元件的半导体晶片的情况下，招致成品率降低，这也是我们所不希望的。本实用新型的目的在于，提供一种不会遮蔽操作员的视野而可使吸附片的插入尺寸恒定的真空镊子用吸附片和真空镊子。

为了达到上述目的，本申请第1方面的真空镊子用吸附片是一种与平板基板的一个表面接触，构成吸附保持上述平板基板的真空镊子的前端部的吸附片，其特征在于，包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第2方面的真空镊子用吸附片是一种与平板基板的一个表面接触，构成吸附保持上述平板基板的真空镊子的前端部的导电性的吸附片，其特征在于，包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第3方面的真空镊子是一种吸附保持平板基板的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述平板基板接触，该吸附片包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第4方面的真空镊子是一种吸附保持平板基板的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及导电性的吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述平板基板接触，该吸附片包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第5方面的真空镊子是一种吸附保持半导体晶片的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及导电性的吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述半导体晶片接触，该吸附片包括：平面状表面部，具备了与上述半导体晶片的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第6方面的真空镊子是一种吸附保持形成了半导体元件的半导体晶片的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及导电性的吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述半导体晶片接触，该吸附片包括：平面状表面部，具备了与上述半导体晶片的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第7方面的真空镊子是一种在第5方面或第6方面中的任一方面所述的真空镊子，其特征在于，上述凸起部由以与上述半导体晶片的定位边部(Orientation Flat)接触的尺寸隔开配置的2个凸起部构成。

附图说明

图1(A)是本实用新型的真空镊子用吸附片的主视图；

图1(B)是本实用新型的真空镊子用吸附片的后视图；

图1(C)是本实用新型的真空镊子用吸附片的右侧视图；

图1(D)是本实用新型的真空镊子用吸附片的俯视图；

图1(E)是本实用新型的真空镊子用吸附片的仰视图；

图1(F)是从左侧面和平面一侧表示本实用新型的真空镊子用吸附片的背面的立体图；

图1(G)是从右侧面和底面一侧表示本实用新型的真空镊子用吸附片的正面的立体图；

图1(H)是图1(A)中的本实用新型的真空镊子用吸附片沿a-a’面的剖面图；

图2(A)是本实用新型的真空镊子的平行基板被取出之前状态的第一说明图；

图2(B)是本实用新型的真空镊子的平行基板被取出之前状态的第二说明图；

图3是现有的真空镊子的说明图；

图4(A)是现有的真空镊子的吸附片的第一说明图；

图4(B)是现有的真空镊子的吸附片的第二说明图。

具体实施方式

本实用新型的真空镊子与现有例同样地，成为将吸附片与在内部具备了吸引通路的镊子主体部的前端连接的结构。而且，构成真空镊子的前端部的本实用新型的真空镊子用吸附片与现有例不同，成为在背面一侧具备了凸起部的结构。该凸起部在从以规定的间隔被收容的多个平板基板之中逐片抽取平板基板或在收容平板基板时与邻接的平板基板接触，使吸附片插入平板基板间的狭窄间隙的插入尺寸恒定。另外，凸起部相互隔开配置，不会遮蔽操作员的视野。以下，详细地说明本实用新型的实施例。

实施例1

首先，说明本实用新型的真空镊子用吸附片。再有，所谓本实用新型中的正面，是指吸附面1的整个面呈现、在吸附面1的下部设置吸引口的面，以正面为基准来确定上下和前后左右。图1(A)是本实用新型的真空镊子用吸附片的主视图；图1(B)是本实用新型的真空镊子用吸附片的后视图；图1(C)是本实用新型的真空镊子用吸附片的右侧视图；图1(D)是本实用新型的真空镊子用吸附片的俯视图；图1(E)是本实用新型的真空镊子用吸附片的仰视图；图1(F)是从左侧面和平面一侧表示本实用新型的真空镊子用吸附片的背面的立体图；图1(G)是从右侧面和底面一侧表示本实用新型的真空镊子用吸附片的正面的立体图；图1(H)是图1(A)中的本实用新型的真空镊子用吸附片沿a-a’面的剖面图；

吸附片20的表面成为与所吸附的平板基板的一个表面(例如平板基板的背面)接触的吸附面1。参照图1(A)、图1(G)、图1(H)，吸附面1的一部分被形成凹状缺口的吸引口2。参照图1(D)、图1(G)、图1(H)，吸引口2与在吸附片20的内部所形成的内部吸引通路3连通。参照图1(F)、图1(H)，内部吸引通路3的另一端在吸附片20上部的侧面部7开口。参照图1(B)、图1(C)、图1(F)、图1(H)，该开口与后面将要述及的图3所示的现有例同样地，经连接构件30成为与在真空镊子的主体部内部所形成的吸引通路连接的连接口3A。参照图1(B)、图1(C)、图1(D)、图1(E)、图1(F)、图1(G)、图1(H)，本实用新型的吸附片20在成为吸附面1的表面为平板状、在背面具备凸起部8方面与现有例不同。特别是，参照图1(B)、图1(D)、图1(E)、图1(F)、图1(G)在凸起部8被相互隔开配置方面成为很大的特征。

本实用新型的吸附片20如后面将要述及的在与真空镊子的前端连接而使用时，在成为吸附面1的表面一侧不会遮蔽操作员的视野，可一边目视所吸附的平板基板的表面和背面，一边操作。另一方面，在背面一侧，由于凸起部8相互隔开配置，所以可一边从凸起部8之间目视所吸附的平板基板的背面和与背面一侧邻接的平板基板的表面，一边操作，可操作性极佳。

本实用新型的吸附片20由于有非常简单的结构，所以可由导电性树脂形成。通过使用导电性树脂，可防止吸附片20的带电，可防止带电物质附着在吸附片20上而污染平板基板，防止带电的电荷对平板基板造成影响，从而是理想的。导电性树脂一般可使用在洁净室中所使用的树脂。具体地说，例如，主要可使用将环状烯烃聚合物与碳纤维熔融混匀后的树脂，可选择不致因摩擦或冲击而产生灰尘的材料。

实施例2

接着，说明本实用新型的真空镊子。如图3所示，实施例1中说明过的吸附片20经连接构件30与镊子主体部10和泵40连接，以此构成真空镊子。用图2(A)与图2(B)说明使用本实用新型的真空镊子，从以规定的间隔被收容于容器内的多个平板基板之中逐片抽取平板基板的情形。如图2(A)所示，在从以规定的间隔被收容的多个平板基板50之中欲抽取的平板基板50a的背面一侧，插入吸附片20。当以规定的尺寸被尽量插入时，则凸起部8与邻接于平板基板50a的背面一侧的平板基板50b的端部接触，吸附片20不进入此尺寸或其以上。此时，在吸附面1上所形成的吸引口2由于是在凸起部8的形成位置的下侧形成，所以如图2(B)所示，吸附面1可吸附在平板基板50a的背面，抽取平板基板50a。

如实施例1说明过的那样，在吸附片20中，由于成为吸附面1的表面一侧为平板状，所以不会遮蔽操作员的视野，可一边目视平板基板50a的表面和背面，一边操作。另一方面，在背面一侧，如图2(A)与图2(B)所示，由于凸起部8相互隔开配置，所以可一边从凸起部8之间目视平板基板50a的背面和平板基板50b的表面，一边操作。其结果是，可予以细心的注意来进行操作，使吸附片20不与平板基板50b的表面接触。

如图2(A)和图2(B)所示，在凸起部8的下部与邻接的平板基板50b的端部接触之后，由于吸引平板基板50a，所以如果使凸起部8的下部与邻接的平板基板50b的端部一致来配置，则总是可在规定的插入位置吸附平板基板50a，也可将吸附不良等的发生防止于未然。

再有，图2(A)和图2(B)记述了半导体晶片作为平板基板50的一例的情形。在半导体晶片中，在外周的一部分(图2(A)和图2(B)的半导体晶片的上端部)形成定位边部。而且，在将半导体晶片收容于托架上时，一般情况是，将该定位边部与上侧对齐，以恒定的间隔收容。因此，如图2(A)所示，将本实用新型的真空镊子的凸起部8配置成与定位边部接触。即，理想情况是，通过使2个凸起部8的隔开尺寸比定位边部的尺寸(图2(B)中，为直线部分的尺寸)窄，可大致在规定的位置吸附半导体晶片。

除运送半导体晶片外，本实用新型的真空镊子用吸附片和真空镊子可用于运送玻璃基板、金属盘等平板状的基板。

工业上的可利用性

连接了本实用新型的吸附片的真空镊子借助于配备凸起部，可使吸附片20的插入尺寸恒定。

另外，连接了本实用新型的吸附片的真空镊子由于在吸附片的吸附面一侧遮蔽视野的突出部分不完整，所以可一边目视所吸附的平板基板的表面和背面，一边操作。另一方面，在吸附面的背面一侧，虽然配备了多个凸起部，但由于是各自隔开配置，所以可一边从该间隙目视所吸附的平板基板的背面和与背面一侧邻接的平板基板的表面，一边操作。其结果是，在吸附平板基板时，在邻接的平板基板的表面上不发生裂痕或污染。特别是在平板基板是形成了半导体元件的半导体晶片的情况下，由于不会招致成品率降低，从而是合适的。

进而，如果赋予吸附片以导电性，则可防止吸附片的带电，可防止带电物质附着而污染平板基板，并防止带电的电荷对平板基板造成影响。在平板基板是半导体晶片的情况，特别是形成了半导体元件的半导体晶片的情况下，可防止污染及半导体元件的静电击穿，从而是合适的。

进而，在使用本实用新型的真空镊子，配备定位边部，将定位边部与上侧对齐，吸附保持被收容在托架上的半导体晶片的情况下，如果将2个凸起部以得到与定位边部接触的尺寸的方式隔开配置，则在被收容在托架上的半导体晶片之间吸附位置大致为恒定，从而是合适的。

Claims

1. 一种真空镊子用吸附片，是与平板基板的一个表面接触，构成吸附保持上述平板基板的真空镊子的前端部的吸附片，其特征在于，包括：

平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；

上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；

侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及

多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

2. 一种真空镊子用吸附片，是与平板基板的一个表面接触，构成吸附保持上述平板基板的真空镊子的前端部的导电性的吸附片，其特征在于，包括：

3. 一种真空镊子，这是吸附保持平板基板的真空镊子，其特征在于，

包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述平板基板接触，

该吸附片包括：

4. 一种真空镊子，这是吸附保持平板基板的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及导电性的吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述平板基板接触，

该吸附片包括：

5. 一种真空镊子，这是吸附保持半导体晶片的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及导电性的吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述半导体晶片接触，

该吸附片包括：

平面状表面部，具备了与上述半导体晶片的一个表面相接而吸附的吸引口；

6. 一种真空镊子，这是吸附保持形成了半导体元件的半导体晶片的真空镊子，其特征在于，

包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及导电性的吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述半导体晶片接触，

该吸附片包括：

7. 根据权利要求5或权利要求6中的任一项所述的真空镊子，其特征在于，

上述凸起部由以与上述半导体晶片的定位边部接触的尺寸隔开配置的2个凸起部构成。