CN201105022Y - 低温等离子体灭菌机 - Google Patents

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CN201105022Y CNU2007200998691U CN200720099869U CN201105022Y CN 201105022 Y CN201105022 Y CN 201105022Y CN U2007200998691 U CNU2007200998691 U CN U2007200998691U CN 200720099869 U CN200720099869 U CN 200720099869U CN 201105022 Y CN201105022 Y CN 201105022Y
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temperature plasma
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plasma sterilizer
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CNU2007200998691U
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邹德润
邹晨光
邹晨星
邹辰明
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Mudanjiang Plasma Application Of Physical Technology Co., Ltd.
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Mudanjiang Plasma Application Of Physical Technology Co Ltd
TIANJIN KAISIPU TECHNOLOGY Co Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种低温等离子体灭菌机。其特点是包括设有可开启和关闭的门的灭菌工作室、真空装置、注液装置、射频装置、温控装置，所述灭菌工作室分别与所述真空装置、注液装置、射频装置、温控装置相连接，所述灭菌工作室内固接与注液装置相通的接液盘，接液盘与灭菌工作室相通。本实用新型提高了过氧化氢的利用率，在过氧化氢的注入量相等的情况下，提高了过氧化氢等离子体浓度，在保证必要等离子体浓度的情况下减少了过氧化氢的注入量；减少了单独的气化装置，使整体结构更加简单，成本低。

Description

低温等离子体灭菌机
技术领域
本实用新型涉及一种灭菌消毒的设备，特别涉及一种低温等离子体灭菌机。
背景技术
在等离子体灭菌机工作过程中，需要做到定量注入过氧化氢，从而保证灭菌效果的稳定，目前国内外公开的等离子体灭菌机中，过氧化氢经过2次气化后，以气体的方式注入到灭菌工作室内。这种方法大大降低了过氧化氢液体的利用率，假设灭菌工作室的容积是100升，两次气化所需的气化室容积分别为10升，需要注入的过氧化氢的量为2毫升，那么，这2毫升的过氧化氢相当于对120升的腔体进行灭菌工作，而不是100％的都作用在100升容积的灭菌工作室内，可这两个气化室内是不会放置需要灭菌的器械的，这样就造成了过氧化氢的浪费，使灭菌工作室内过氧化氢气体的浓度降低；另外气化后的过氧化氢经过2次气化后需要接触的零部件较多，行程较长，大大增加了过氧化氢遇冷凝结的机率，这也会造成真正到达灭菌工作室内的过氧化氢大打折扣；另外过氧化氢经过2次气化，所需装置较多，制造复杂，增加了不必要的成本。
发明内容
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种提高过氧化氢利用率并在保证必要等离子体浓度的情况下减少过氧化氢的注入量的低温等离子体灭菌机。
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种低温等离子体灭菌机，包括设有可开启和关闭的门的灭菌工作室、真空装置、注液装置、射频装置、温控装置，所述灭菌工作室分别与所述真空装置、注液装置、射频装置、温控装置相连接，所述灭菌工作室内固接与注液装置相通的接液盘，接液盘与灭菌工作室相通。
本实用新型还可以采用如下技术方案：
所述的所述灭菌工作室内设有一个与其内腔形状适配、与其内壁间距均匀的网孔状电极圈，所述电极圈与灭菌工作室内壁绝缘间隔，与射频装置的电源正负极分别相连，所述电极圈与灭菌工作室内壁间形成放电区，所述接液盘穿过放电区间。
所述接液盘上设置均布网孔。
所述电极圈的网孔直径为5～8mm。
所述电极圈与灭菌工作室内壁的间距为10～20mm。
所述温控装置为绑在灭菌工作室内外表上的加热带。
所述灭菌工作室的可开启和关闭的门为自动门。
所述真空装置包括进气过滤装置和排气过滤装置。
所述灭菌工作室内设置载物架。
所述灭菌工作室含有预留接口。
本实用新型具有的优点和积极效果是：本实用新型由于采用灭菌工作室内固接与注液装置相通的接液盘，接液盘与灭菌工作室相通的结构，接液盘直接接取来自注液装置的液态过氧化氢，过氧化氢液体的气化和等离子体化都在灭菌工作室内进行，液态过氧化氢只需经一次气化即可提供灭菌工作室灭菌所需的过氧化氢的等离子体，提高了过氧化氢的利用率，在过氧化氢的注入量相等的情况下，提高了过氧化氢等离子体浓度，在保证必要等离子体浓度的情况下减少了过氧化氢的注入量；减少了单独的气化装置，使整体结构更加简单，成本低。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：1-自动门，2-接液盘，4-器械或物品，5-注液装置，6-温控装置，7-预留接口，8-电极圈，9-灭菌工作室，10-进气过滤装置，11-真空装置，12-排气过滤装置，13-载物架，14-射频装置。
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下：
请参见图1，本实用新型有一个可开启和关闭的自动门1的灭菌工作室9，当自动门1关闭时，灭菌工作室9即处于密封状态，灭菌工作室9分别与真空装置11、注液装置5、射频装置14、温控装置6相连接，灭菌工作室9内固接与注液装置5相通的接液盘2，接液盘2可通过在接液盘上设置均布网孔的方式与灭菌工作室9相通。液态过氧化氢通过注液装置5注入灭菌工作室9内的接液盘2上，由于低压和环境温度的共同作用，液体过氧化氢在接液盘2上气化，并扩散到整个灭菌工作室9内，过氧化氢液体的气化和等离子体化都在灭菌工作室9内进行，提高了过氧化氢的利用率，减少了单独的气化装置，使整体结构更加简单。所述注液装置5用于存储过氧化氢和将定量的液态过氧化氢注入灭菌工作室9内；所述射频装置14用于给灭菌工作室9内的负载提供能量，产生等离子体。
所述灭菌工作室9内设置一个与其内腔形状适配、与其内壁间距均匀的、平行于灭菌工作室9内壁的网孔状电极圈8，电极圈8与灭菌工作室9内壁绝缘间隔，与射频装置14的电源正负极分别相连，电极圈8与灭菌工作室9内壁间形成放电区，过氧化氢气体在两者之间通过两者之间的放电被激发，生成过氧化氢等离子体，接液盘2穿过放电区间。
所述电极圈8网孔直径为5-8mm，材质为不锈钢，表面处理为双面抛光，亮度为8K以上级别，采用焊接工艺围成圆筒型。
所述电极圈8与灭菌工作室9内壁的间距为10～20mm。
所述温控装置6为绑在灭菌工作室9内外表上的加热带，对灭菌工作室9内的温度进行控制。
所述灭菌工作室9内设有可自由移动、自由拆卸的载物架13，方便操作者摆放和移动需要放到灭菌工作室9内的器械。
所述真空装置11用于调节灭菌工作室9内的压强；真空装置11含有过滤进、出灭菌工作室9气体的进气过滤装置10和排气过滤装置12，用于过滤杂质。
所述灭菌工作室9含有预留接口7，用于设备的升级和参数的检测。
本实用新型灭菌的实现过程：
打开灭菌工作室9外的自动门1，拉出载物架13，将需要灭菌的器械或物品4放置到载物架13上；灭菌工作室9外的温控装置6开始加热，使灭菌工作室9内的温度达到工作温度范围；注液装置5为注液做好备；真空装置11开始工作，对灭菌工作室9抽真空，并对排出灭菌工作室9外的空气进行过滤，当灭菌工作室9内压强达到工作压强后，过氧化氢液体注入灭菌工作室9内的接液盘2上，由于低压和环境温度的共同作用，液体过氧化氢在接液盘2上气化，并扩散到整个灭菌工作室9内，大约几分钟后，启动射频装置14对灭菌工作室内的过氧化氢气体进行放电，产生过氧化氢等离子体，作用适当时间后，打开真空装置11的进气阀，使空气经过过滤后进入灭菌工作室9，直到灭菌工作室9内的压强重新回复到一个大气压，过氧化氢转变成水和氧气，灭菌工作结束。此时打开灭菌工作室9的门取出被灭菌器械或物品。
本实用新型不仅适用于过氧化氢，还可适用于其他消毒或灭菌剂。

Claims (10)

1.一种低温等离子体灭菌机，包括设有可开启和关闭的门(1)的灭菌工作室(9)、真空装置(11)、注液装置(5)、射频装置(14)、温控装置(6)，所述灭菌工作室(9)分别与所述真空装置(11)、注液装置(5)、射频装置(14)、温控装置(6)相连接，其特征在于：所述灭菌工作室(9)内固接与注液装置(5)相通的接液盘(2)，接液盘(2)与灭菌工作室(9)相通。
2.根据权利要求1所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述灭菌工作室(9)内设有一个与其内腔形状适配、与其内壁间距均匀的网孔状电极圈(8)，所述电极圈(8)与灭菌工作室(9)内壁绝缘间隔，与射频装置(14)的电源正负极分别相连，所述电极圈(8)与灭菌工作室(9)内壁间形成放电区，所述接液盘(2)穿过放电区间。
3.根据权利要求1或2所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述接液盘(2)上设置均布网孔。
4.根据权利要求2所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述电极圈(8)的网孔直径为5～8mm。
5.根据权利要求2所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述电极圈(8)与灭菌工作室(9)内壁的间距为10～20mm。
6.根据权利要求1所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述温控装置(6)为绑在灭菌工作室(9)内外表上的加热带。
7.根据权利要求1所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述灭菌工作室(9)的可开启和关闭的门(1)为自动门。
8.根据权利要求1所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述真空装置(11)包括进气过滤装置(10)和排气过滤装置(12)。
9.根据权利要求1所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述灭菌工作室(9)内设置载物架(13)。
10.根据权利要求1所述的低温等离子体灭菌机，其特征在于所述灭菌工作室(9)含有预留接口(7)。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103127538A (zh) * 2011-11-28 2013-06-05 钱军 多用途灭菌方法及其多功能灭菌器
CN109091690A (zh) * 2018-09-20 2018-12-28 华蓥市职业教育培训中心 一种新型低温等离子灭菌器
RU2697714C1 (ru) * 2018-09-17 2019-08-19 Общество с ограниченной ответственностью "Мед ТеКо" Плазменный пероксидный стерилизатор
CN110496313A (zh) * 2019-09-05 2019-11-26 牡丹江等离子体物理应用科技有限公司 低温等离子治疗仪
CN113966804A (zh) * 2020-07-24 2022-01-25 中国科学院理化技术研究所 一种基于等离子体技术的食品杀菌装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103127538A (zh) * 2011-11-28 2013-06-05 钱军 多用途灭菌方法及其多功能灭菌器
CN103127538B (zh) * 2011-11-28 2015-05-20 钱军 多用途灭菌方法及其多功能灭菌器
RU2697714C1 (ru) * 2018-09-17 2019-08-19 Общество с ограниченной ответственностью "Мед ТеКо" Плазменный пероксидный стерилизатор
CN109091690A (zh) * 2018-09-20 2018-12-28 华蓥市职业教育培训中心 一种新型低温等离子灭菌器
CN110496313A (zh) * 2019-09-05 2019-11-26 牡丹江等离子体物理应用科技有限公司 低温等离子治疗仪
CN110496313B (zh) * 2019-09-05 2024-03-19 牡丹江等离子体物理应用科技有限公司 低温等离子治疗仪
CN113966804A (zh) * 2020-07-24 2022-01-25 中国科学院理化技术研究所 一种基于等离子体技术的食品杀菌装置

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