CN201080508Y - 一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置 - Google Patents
一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN201080508Y CN201080508Y CNU2007200722766U CN200720072276U CN201080508Y CN 201080508 Y CN201080508 Y CN 201080508Y CN U2007200722766 U CNU2007200722766 U CN U2007200722766U CN 200720072276 U CN200720072276 U CN 200720072276U CN 201080508 Y CN201080508 Y CN 201080508Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- melt
- furnace
- film
- substrate
- furnace body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置,包括,炉体,其具有一个一端开口的腔体结构,其开口处设炉盖,炉盖上开有通孔;第一发热体,设置于炉体腔体结构内侧;炉管,设于炉体腔体结构内,其底部放置耐火砖;坩埚,设于耐火砖上;籽晶杆,通过炉体炉盖伸入炉体腔体内的炉管腔内,对应于坩埚;炉体内壁开有凹槽;第二发热体,环设于炉体内壁凹槽内;第一、第二发热体均具有各自独立的温度控制系统;本实用新型通过设置第二发热体,通过控制坩埚上方的空气温度,以调节被衬底吸附的熔体的粘度,影响熔体在籽晶杆旋转主用下被甩熔体的量,使衬底底部吸附的熔体表面平整,并达到影响膜厚度的效果,保证垂直浸渍液相外延膜生长方法能够生长所需要的膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种薄膜生长装置,特别涉及一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置。
背景技术
液相外延(Liquid Phase Epitoxy,LPE)制备膜是一种重要的液相薄膜生长技术,与固相成膜技术不同,LPE薄膜生长时其生长的原料在高温熔化,呈熔融状态,这样产生的好处是熔体中原料各组份可以充分混合均匀,通过选择合适的衬底,可以获得高质量甚至单晶薄膜。这种方法适用于生长组成复杂的固相成膜法难以生长的膜。
LPE薄膜生长方法主要有垂直浸渍方法和小舟法。
垂直浸渍LPE薄膜生长方法的典型过程为:首先在熔体熔点温度附近将固定在籽晶杆上的衬底(有时有过渡层)垂直进入熔体中,衬底上粘附一层熔体,将籽晶杆上提,使衬底与熔体脱离进入空气中;然后迅速旋转籽晶杆,使衬底上没有成膜的熔体在旋转作用下脱离膜表面,在这个过程中衬底(有时有过渡层)表面的熔体迅速固化形成膜;最后通过温度控制系统,按照一定降温速率将炉体降温至室温,取下衬底(有时有过渡层)获得生长膜。因此这种LPE膜生长包括熔体粘附到衬底、脱离熔体的衬底旋转和熔体在衬底上固化成膜三个过程。
传统的垂直浸渍LPE膜生长方法由于熔体与上方空气的温度有一定差别,通常上方空气温度低,后两个过程即脱离熔体的衬底旋转和熔体在衬底(有时有过渡层)上固化成膜同时进行,这样产生的缺点是:
一、通常脱离熔体后衬底上粘附的熔体降温固化过程不能控制,衬底(有时有过渡层)表面固化成膜和被吸附在衬底(有时有过渡层)上的熔体与空气接触的部分熔体几乎同时降温固化,熔体固化很快,如衬底表面接触的熔体在衬底(有时是过渡层)作用下快速成膜;
二、衬底材料底部吸附的熔体通常不是均匀分布,在衬底底部会随机出现一些地方熔体聚集过多的现象,在熔点附近这些熔体粘度很大,加上熔体快速固化,旋转衬底很难将衬底表面的的熔体甩平,导致积聚熔体过多的地方部分熔体则通常凝固成粉末状。其结果是这样生长获得的膜表面有许多粉末点,膜表面不平整,而且膜的厚度几乎不能够人为控制,生长获得的膜质量不稳定,很难获得较大面积的完整膜。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置,通过控制近邻熔体上方部分区域空气的温度,使深入到熔体中的衬底提拉脱离熔体进入这部分区域后,衬底上吸附的熔体不会立刻固化,而仍保持熔液状态,在这种状态下快速旋转籽晶杆使衬底和被吸附的熔体快速旋转,紧邻衬底底部衬底吸附的熔体被受旋转作用下,一些地方过多聚集的熔体高速旋转作用力的作用下被甩离衬底,达到使这部分熔体脱离衬底表面的效果;同时这时衬底上吸附的熔体温度可以人为控制,使这部分熔体的粘度可以调节,选择合适的籽晶杆旋转速度,就可以达到调节衬底底部吸附熔体的量的效果,当将籽晶杆上移至低温区是衬底表面吸附的熔体在衬底(有时有过渡层)的作用下固化结晶成膜,获得的膜的厚度就可以根据需要调节。
为达到上述目的,本实用新型的技术方案是:
一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置,包括,炉体,其具有一个一端开口的腔体结构,其开口处设炉盖,炉盖上开有通孔;第一发热体,分别设置于炉体腔体结构内侧,与一温度控制系统相电连接;炉管,设置于炉体腔体结构内,其底部放置耐火砖;坩埚,设置于炉管内的耐火砖上;籽晶杆,通过炉体炉盖上通孔伸入炉体腔体结构内的炉管腔内,对应于坩埚;所述的炉体腔体结构内壁沿圆周方向还开有凹槽;第二发热体,环设于炉体内壁凹槽内,与另外一温度控制系统相电连接。
进一步,所述的炉体包括炉壳、保温砖。
本实用新型通过控制近邻坩埚(熔体)上方部分区域空气的温度,使深入到熔体中的衬底提拉脱离熔体进入这部分区域后,衬底上吸附的熔体不会立刻固化,而仍保持熔液状态,在这种状态下快速旋转籽晶杆使衬底和被吸附的熔体快速旋转,紧邻衬底底部衬底吸附的熔体被受旋转作用下,一些地方过多聚集的熔体高速旋转作用力的作用下被甩离衬底,达到使这部分熔体脱离衬底表面的效果;同时这时衬底上吸附的熔体温度可以人为控制,使这部分熔体的粘度可以调节,选择合适的籽晶杆旋转速度,就可以达到调节衬底底部吸附熔体的量的效果,当将籽晶杆上移至低温区是衬底表面吸附的熔体在衬底(有时有过渡层)的作用下固化结晶成膜,获得的膜的厚度就可以根据需要调节。
本实用新型的有益效果
本实用新型通过设置第二发热体,通过控制熔体上方的空气温度,可以调节被衬底吸附的熔体的粘度,在衬底旋转力的作用下,使衬底底部吸附的熔体表面平整,并影响被甩熔体的量,从而达到影响膜厚度的效果,保证了垂直浸渍LPE膜生长方法能够生长组分均匀的组分复杂的膜的同时,能够获得生长获得大面积厚度较均匀的高质量膜,而且通过调节熔体上方的温度和籽晶杆旋转速率可以调节膜的厚度,使LPE膜生长技术生长高质量薄膜成为可能。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的结构示意图。
具体实施方式
参见图1,本实用新型的可控垂直浸渍液相外延膜生长装置,包括,炉体1,其具有一个一端开口101的腔体结构100,其开口101处设炉盖102,炉盖102上开有通孔1021,该炉体1包括炉壳103、保温砖104;所述的炉体腔体结构100内壁沿圆周方向还开有凹槽105;第一发热体2,设置于炉体1腔体结构100内侧,与一温度控制系统(图中未示,其为现有技术,在此不再赘述)相电连接;炉管3,设置于炉体1腔体结构100内,其底部放置耐火砖4;坩埚5,设置于炉管3内的耐火砖4上;籽晶杆6,通过炉体1炉盖上通孔1021伸入炉体1腔体结构100内的炉管3腔内,对应位于坩埚5上方;第二发热体7,环设于炉体1内壁凹槽105内,与另外一温度控制系统相电连接(图中未示)。
本实用新型通过设置第二发热体7,对坩埚5(熔体)上方的空气温度控制,实现调节被籽晶杆6下端衬底吸附的熔体的粘度,在衬底旋转力的作用下,使衬底底部吸附的熔体表面平整,并影响被甩熔体的量,从而达到影响膜厚度的效果,保证了垂直浸渍LPE膜生长方法能够生长组分均匀的组分复杂的膜。
Claims (2)
1.一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置,包括,
炉体,其具有一个一端开口的腔体结构,其开口处设炉盖,炉盖上开有通孔;
第一发热体,设置于炉体腔体结构内侧,与一温度控制系统相电连接;
炉管,设置于炉体腔体结构内,其底部放置耐火砖;
坩埚,设置于炉管内的耐火砖上;
籽晶杆,通过炉体炉盖上通孔伸入炉体腔体结构内的炉管腔内,对应于坩埚;其特征是,还包括,
所述的炉体腔体结构内壁沿圆周方向还开有凹槽;
第二发热体,环设于炉体内壁凹槽内,并与另一温度控制系统相电连接。
2.如权利要求1所述的可控垂直浸渍液相外延膜生长装置,其特征是,
所述的炉体包括炉壳、保温砖。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNU2007200722766U CN201080508Y (zh) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | 一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNU2007200722766U CN201080508Y (zh) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | 一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN201080508Y true CN201080508Y (zh) | 2008-07-02 |
Family
ID=39614185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNU2007200722766U Expired - Fee Related CN201080508Y (zh) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | 一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN201080508Y (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103849930A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-06-11 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法 |
-
2007
- 2007-07-06 CN CNU2007200722766U patent/CN201080508Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103849930A (zh) * | 2014-01-17 | 2014-06-11 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法 |
CN103849930B (zh) * | 2014-01-17 | 2016-12-07 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1255191A (en) | Process and apparatus for producing semi-conductor foils | |
CN105019024B (zh) | 一种利用温度梯度可调节的温场装置生长近化学计量比铌酸锂晶体的方法 | |
US9777395B2 (en) | Silicon single crystal growing device and method of growing the same | |
CN101311332B (zh) | 结晶区温度梯度调节器与坩埚下降法单晶生长装置 | |
US20120006254A1 (en) | Quartz glass crucible for pulling single-crystal silicon and process for producing single-crystal silicon | |
CN106319621A (zh) | 一种大尺寸直拉硅单晶生长方法 | |
CN201080508Y (zh) | 一种可控垂直浸渍液相外延膜生长装置 | |
CN202610387U (zh) | 一种厚度可控的液相外延薄膜制备装置 | |
CN106757312A (zh) | 一种硅单晶提拉炉 | |
KR101271649B1 (ko) | 단결정 실리콘 시드를 이용한 고품질 다결정 실리콘 잉곳의 제조방법 | |
JP3551242B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法及び装置 | |
CN101338451A (zh) | 一种采用液相外延法制备膜的方法 | |
JP2760957B2 (ja) | 融液中の対流場を制御した単結晶育成方法 | |
CN206616295U (zh) | 一种硅单晶提拉炉 | |
CN116607215B (zh) | 一种铌酸锂晶体的生长方法及装置 | |
CN101503769A (zh) | 一种大长径比规则多孔铜的制造方法 | |
KR102643619B1 (ko) | 단결정 성장 장치 | |
CN105887187B (zh) | 一种硅单晶生长掺杂剂浓度稳定控制方法 | |
KR20200041167A (ko) | 실리콘카바이드 단결정의 제조 장치 및 제조 방법 | |
CN112831842B (zh) | 一种便于籽晶移植的籽晶生长装置 | |
KR20100071507A (ko) | 실리콘 단결정 제조 장치, 제조 방법 및 실리콘 단결정의 산소 농도 조절 방법 | |
JP2002068883A (ja) | 単結晶製造装置ならびにこれを用いた単結晶の製造方法 | |
JPS5997592A (ja) | 単結晶の製造方法 | |
JPH09255471A (ja) | 単結晶の製造方法及び製造装置 | |
RU2070476C1 (ru) | Устройство для получения монокристаллических отливок |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080702 Termination date: 20100706 |