CN201051155Y - 一种比较片机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于一种光学镀膜设备领域。现有技术采用多个独立的比较片技术方案，因此监测结果误差大、导致光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间少以及晶体探头和比较片监测结果相差过大。本实用新型提供了一种新型的比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，在比较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向真空室设置；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所述分区之一重叠设置。采用本实用新型的技术方案可以得到更精确的监测结果，提高光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间。

Description

一种比较片机构

技术领域

本实用新型属于光学镀膜设备领域，特别涉及其中的比较片机构。

背景技术

在为光学元器件如镜片镀膜时，为了监控薄膜厚度，在接近被镀工件(需要镀膜的基片)设置有比较片。比较片位置尽可能与被镀基片接近，比较片与被镀工件一同被蒸镀。在蒸镀过程中，通过光学监控系统可以直接测量由于比较片的厚度变化引起的膜系的透(反)射率变化值，由于比较片与被镀基片的镀制过程十分近似，那么对比较片的监控结果就可以视为对被镀基片的监控结果，从而达到精确控制基片镀制过程的目的。另外，利用石英晶体的厚度变化会引起石英晶体的振频发生变化这一原理，在光学镀膜设备中还采用石英晶体探头的监测方式对被镀基片的膜层厚度进行监控。由于比较片和晶体探头两种监测方式的原理不同，各有所长，结合两种监控系统，可以实现以采用比较片的光控方式为主，采用晶体探头的晶控方式为辅的薄膜镀制监控系统，精确监控薄膜厚度。

现有比较片和晶体探头的工作方式如下：采用若干个独立的比较片，镀一层膜时采用一个比较片进行监测，进行下一层镀膜时更换新的比较片；晶体探头独立于比较片机构进行监测。

现有技术存在的不足在于：多个独立的比较片之间不可避免地存在几何精度误差，而采用比较片进行监测的前提就是比较片本身的光学参数是已知和一致的，不同比较片存在的误差必然导致监测结果有误差，进而影响监控的质量；另外每个比较片都要配备换位机构及定位装置，这必然导致整个比较片机构庞大，而在光学镀膜的真空室的空间是一定的，比较片机构占用空间大是以减少被镀工件的面积为代价的，这就使光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效空间减少，影响生产效率；晶体探头独立于比较片机构设置，使得晶体探头的监测位置和比较片的监测位置相距过远，由于真空室内较远的不同位置的蒸镀条件可能有比较大的不同，这就有可能导致两者的监测结果相差过大，不利于薄膜厚度的精确控制。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决现有比较片监测技术存在的监测结果误差大、比较片机构庞大导致光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间少以及晶体探头和比较片监测结果相差过大的问题，本实用新型提供了一种新型的比较片机构。

本实用新型的主要思想是在一个大比较片上进行分区，每个分区作为镀一层膜时的比较片，这样就解决了不同比较片间存在几何精度误差的问题，同时也减少了比较片机构的空间；将晶体探头设置在比较片机构中，使晶体探头的监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了两者的监测结果相差过大的问题。

本实用新型的技术方案如下：

比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，在比较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向真空室；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所述分区之一重叠设置。

上述分区结构包括一盘状体及该盘状体底部设置的若干个起分区作用的互不连通的通孔，所述盘状体为圆盘状，其外圆周设置有齿轮结构。上述若干个互不连通的通孔为圆孔，且所述圆孔的圆心均在盘状体底部一个同心圆的圆周上。互不连通的通孔的数量是9。

盘状体朝向真空室一侧的底部圆心设置有定位轴，所述定位轴设置于定位法兰盘上。

包括一传动齿轮，所述传动齿轮与盘状体外圆周的齿轮啮合，传动齿轮设置于传动轴上。

上述传动轴一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘上。

还包括晶体探头，所述晶体探头设置于定位法兰盘上。

技术效果：

本实用新型通过设置一个比较片和对比较片分区的分区结构，即对一个比较片进行分区，可使每个大比较片上被分的分区作为镀一层膜时的比较片，由于一个比较片的几何精度等参数是一致的，这样就解决了不同比较片间存在几何精度误差的问题，提升了监测效果。同时，采用一个大比较片，去除了多余的比较片都要配备的换位机构及定位装置，简化了整个比较片机构的结构，减少了比较片机构占用的空间，增加了光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效空间。由于比较片机构体积缩小，这就有可能将晶体探头设置在比较片机构中，从而使晶体探头的监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了两者的监测结果相差过大的问题，达到提升监测效果的目的。

设置齿轮机构来驱动比较片分区换位，使比较片分区能够准确定位。

采用盘状体底部通孔的方式来对大比较片分区，是为了便于盘状体的加工；互不连通的通孔的圆心在盘状体一个同心圆的圆周上的设置，便于盘状体通过简单的旋转即可实现比较片分区的换位。

附图说明

图1为本实用新型比较片机构的结构图；

图2为图1的俯视图；

图3为盘状体、与盘状体啮合的传动齿轮以及定位法兰盘之间的位置关系图。

图中标记列示如下：

1、比较片；2、盘状体；3、齿轮结构；4、定位法兰盘；5、被镀工件；6、传动轴；7传动齿轮；8、盘状体通孔；9、定位法兰盘通孔；10、晶体探头；11、定位轴。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的技术方案进行描述。

结合图1和图2可见，本实用新型的主要结构包括一个定位法兰盘4，在定位法兰盘4上部设置有晶体探头10、圆形盘状体2、设置在盘状体2上的比较片1及传动齿轮7，定位法兰盘4的下方是真空室。包围定位法兰盘4外圆周设置屏蔽套，以定位法兰盘4为底，屏蔽套和定位法兰盘4构成封闭的桶体，整个桶体设置在真空室中，桶体可以保护设置在其中的部件避免受到蒸镀材料的污染。立柱的一端设置在定位法兰盘4上，另一端设置于真空室的上法兰盘(所述立柱另一端的连接在图中没有标示出来，属于现有技术)。

盘状体2的底部设置有若干个起分区作用的互不连通的盘状体通孔8，在本实施例中这些盘状体通孔8为圆孔，且所述圆孔的圆心均在以盘状体2的圆心为圆心的一个同心圆的圆周上，便于盘状体2通过简单的旋转即可实现比较片1的旋转换位。本实用新型采用一个大的比较片1的结构，而不是采用多个比较片的结构形式。比较片1装置于盘状体的上部，比较片1的工作面为比较片1朝向真空室的一面，比较片1的工作面朝向盘状体2的底部设置。上述的盘状体将比较片1分割成多个分区，所述的分区是指盘状体通孔8和比较片1重叠形成的区域。在被镀工件镀每一层膜时单个上述分区作为比较片参与工作，采用盘状体2底部通孔的方式来对比较片1分区，是为了便于盘状体2的加工。由于一个比较片的几何精度等参数是一致的，这样就解决了现有技术中不同比较片间存在几何精度误差的问题，提升了监测效果。在盘状体2底部盘状体通孔8圆心所在上述同心圆的圆心处设置有定位轴11(见图3)，定位轴11与盘状体2底部垂直。定位轴11还垂直于定位法兰盘4并设置于定位法兰盘4上，盘状体2可以绕定位轴11旋转。定位法兰盘4上还设置有定位法兰盘通孔9，定位法兰盘4的下方就是真空室，真空室底部的底板上设置有蒸发源，设置有比较片1的盘状体2上的盘状体通孔8可以与定位法兰盘通孔9重叠，将比较片1的部分工作表面直接暴露于真空室用于镀膜过程，盘状体2绕定位轴11旋转，可以将不同的盘状体通孔8与定位法兰盘通孔9重叠，这样就根据需要可以不断将比较片1上的分区应用于镀膜监测。盘状体2的外圆周设置有齿轮结构，传动齿轮7与所述齿轮结构啮合，传动齿轮7设置于传动轴6上，传动轴6一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘4上。当传动齿轮7转动，即可带动盘状体2旋转，从而达到将比较片1的不同分区进行换位的目的。齿轮驱动盘状体2利用了齿轮传动旋转角度准确的特点，使盘状体通孔8和定位法兰盘通孔9能够准确对位。

采用本实用新型的技术方案，去除了多余的每个比较片都要配备的换位机构及定位装置，简化了整个比较片机构的结构，减少了比较片机构占用的空间，增加了光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效空间。

将晶体探头设置在比较片机构中，从而使晶体探头的监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了现有技术中两者的监测结果相差过大的问题，达到提升监测效果的目的。

应当指出，以上所述具体实施方式可以使本领域的技术人员更全面地理解本实用新型，但不以任何方式限制本实用新型。因此，尽管本说明书参照附图和实施例对本实用新型已进行了详细的说明，但是，本领域技术人员应当理解，仍然可以对本实用新型进行修改或者等同替换，例如面阵CCD相机和激光器的选型，还可以有多种选择；而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本实用新型专利的保护范围当中。

Claims (12)

1.一种比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，其特征在于在比较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向真空室设置；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所述分区之一重叠设置。

2.根据权利要求1所述的一种比较片机构，其特征在于所述分区结构包括一盘状体及该盘状体底部设置的有若干个起分区作用的互不连通的通孔。

3.根据权利要求2所述的一种比较片机构，其特征在于所述盘状体为圆盘状，其外圆周设置有齿轮结构。

4.根据权利要求3所述的一种比较片机构，其特征在于所述若干个互不连通的通孔为圆孔，且所述圆孔的圆心均在盘状体底部一个同心圆的圆周上。

5.根据权利要求2至4之一所述的一种比较片机构，其特征在于盘状体朝向真空室一侧的底部圆心设置有定位轴，所述定位轴设置于定位法兰盘上。

6.根据权利要求5所述的一种比较片机构，其特征在于所述互不连通的通孔的数量是9。

7.根据权利要求3或4所述的一种比较片机构，其特征在于包括一传动齿轮，所述传动齿轮与盘状体外圆周的齿轮啮合，传动齿轮设置于传动轴上。

8.根据权利要求5所述的一种比较片机构，其特征在于包括一传动齿轮，所述传动齿轮与盘状体外圆周的齿轮啮合，传动齿轮设置于传动轴上。

9.根据权利要求7所述的一种比较片机构，其特征在于所述传动轴一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘上。

10.根据权利要求8所述的一种比较片机构，其特征在于所述传动轴一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘上。

11.根据权利要求1所述的一种比较片机构，其特征在于还包括晶体探头，所述晶体探头设置于定位法兰盘上。

12.根据权利要求5所述的一种比较片机构，其特征在于还包括晶体探头，所述晶体探头设置于定位法兰盘上。

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