CN200993927Y - 一种真空灭弧室用的新型触头 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种真空灭弧室用的新型触头，它包括凸触头(1)和凹触头(2)，凸触头(1)和凹触头(2)均为圆柱体，凸触头(1)的一个端面为凸出形，凹触头(2)的一个端面为凹陷形，凸触头(1)和凹触头(2)成对使用，两个触头接触时，凸触头(1)的凸出伸入到凹触头(2)的凹陷中，并紧密接触。本实用新型在不增大真空灭弧室直径的情况下增大触头的接触面积，降低接触电阻，从而增大开断能力。有效的解决由两个相同的圆柱形平板触头对接所存在的体积大，接触面积小，同轴度差的问题。

Description

一种真空灭弧室用的新型触头
技术领域
本实用新型涉及一种真空灭弧室中的触头结构，属于电气开关领域。
背景技术
真空灭弧室的分断能力、电寿命、耐压强度、关合能力、载流、过电流及长期导通电流能力等与触头结构和材料有密切的关系。因此，触头是组成真空灭弧室的关键元件之一。如今采用最广泛的是对接的型式，传统真空灭弧室中的触头是由两个相同的圆柱形平板触头对接而成的。这种结构不可避免的存在以下问题：动静端对中不好；体积相对较大。圆柱形触头的分断能力与触头直径有关，在真空灭弧室外径不能扩大而要求增大开断能力的情况下(市场需要小型化)，增大触头直径必将缩小触头与屏蔽筒之间的距离，造成耐压不合格。上、下(或左、右)两触头很难保证同轴度，造成对接触头的实际接触面积比理想状态小，使接触电阻增大，影响通流能力。如果要保持外径不变，触头与屏蔽筒距离不变，只能采取增大触头接触面积的方式。
实用新型内容
本实用新型的目的在于，提供一种真空灭弧室用的新型触头。在不增大真空灭弧室直径的情况下增大触头的接触面积，降低接触电阻，从而增大开断能力。有效的解决由两个相同的圆柱形平板触头对接所存在的体积大，接触面积小，同轴度差的问题。
本实用新型的技术方案：一种真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：它包括凸触头1和凹触头2，凸触头1和凹触头2均为圆柱体，凸触头1的一个端面为凸出形，凹触头2的一个端面为凹陷形，凸触头1和凹触头2成对使用，两个触头接触时，凸触头1的凸出伸入到凹触头2的凹陷中，并紧密接触。
上述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1的凸出面和凹触头2的凹陷面均为锥形面，且凸触头1和凹触头2的锥形面的锥度相同，其锥度大于0度且小于180度。
前述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1的凸出面和凹触头2的凹陷面均为圆弧面或球面，且凸触头1和凹触头2的圆弧面或球面的曲率相同。
前述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1和凹触头2的外表面的尖端倒圆。
前述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1和凹触头2的圆柱直径相等，或凸触头1的圆柱直径大于凹触头2的圆柱直径，或凹触头2的圆柱直径大于凸触头1的圆柱直径。
前述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1和凹触头2的直径方向分别开有放射状的槽3，或不开槽。
前述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1凸出部位的顶端是平的，或是曲率小于接触面的圆弧，或是弧形凹陷。
前述的真空灭弧室用的新型触头中，凸触头1和凹触头2均使用CuCr(20～50)、WCulO、CuCrFe、CuCrSe、Cu(W+WC)或CLR材料制作。
与现有技术相比，本实用新型所用的真空灭弧室用的锥形触头，是一对凸凹相对接的锥形触头，两个锥形的锥度一样，边缘仍是圆柱形，不影响真空灭弧室的其它部件的设计，触头有效表面积得到增加，并且真空灭弧室的体积大大减小，改变了传统真空灭弧室中触头是一对完全相同的圆柱形平板触头对接的结构。本实用新型的一对触头，一个是凸锥形，另一个是凹锥形，两个锥形的锥度大小一样，保证两个触头配合密切，并且不受同轴度的影响，合闸时凸凹两个触头会自动重合在一起。在不增大真空灭弧室直径的情况下增大触头的接触面积，降低接触电阻，从而增大开断能力。本实用新型设计新颖，制作工艺简单，节约整管成本，提高其开断能力，特别是在小型化的真空断路器、真空接触器、真空负荷开关等领域独占鳌头，当今原材料涨价，此新型触头结构解决了涨价带来的成本提高问题，保证了产品质量，又不增加生产成本。本实用可以广泛适用于各种真空灭弧室；既适用于真空断路器用真空灭弧室，也适用于真空接触器用真空灭弧室、真空负荷开关用真空灭弧室。
附图说明
附图1是本实用新型的结构示意图；
附图2是凸触头的主视图：
附图3是附图2的俯视图：
附图4是凹触头的主视图：
附图5是附图4的俯视图；
附图6是圆柱形触头分断电流与直径的关系曲线；
附图7是现有技术的结构示意图；
附图8～附图14是本实用新型的其它结构形式。
具体实施方式
实施例。一种真空灭弧室用的新型触头，它改变了现有技术中两个触头平面接触的状态，图7是现有技术中的两个平面触头接触的结构示意图，在现有技术中，两个触头是平面接触，触头的直径越大，接触面也越大，圆柱形触头的分断能力与触头直径有关，如图6所示。如果要提高电流的分断能力，只能加大圆柱形触头的直径，不利于产品的小型化。
本实用新型中的两个触头的端面采用锥面或弧面，在不改变直径的前提下可以增加触头的接触面积，图1是本实用新型的结构示意图。从图中可以看出，它包括凸触头1和凹触头2，凸触头1和凹触头2均为圆柱体，凸触头1的一个端面为凸出形，凹触头2的一个端面为凹陷形，凸触头1和凹触头2成对使用，两个触头接触时，凸触头1的凸出伸入到凹触头2的凹陷中，并紧密接触。凸触头1的凸出面和凹触头2的凹陷面均为锥形面，如图8至图14所示，且凸触头1和凹触头2的锥形面的锥度相同，其锥度大于0度且小于180度。凸触头1的凸出面和凹触头2的凹陷面也可以是圆弧面或球面，如图1、图2和图4所示，且凸触头1和凹触头2的圆弧面或球面的曲率相同。凸触头1和凹触头2的外表面的尖端倒圆，避免尖端放电，提高耐压强度。凸触头1和凹触头2的圆柱直径相等，如图11所示，或凸触头1的圆柱直径大于凹触头2的圆柱直径，如图9所示，也可以凹触头2的圆柱直径大于凸触头1的圆柱直径。如图1、8、10、12、13和14所示，凸触头1和凹触头2的直径方向分别开有放射状的槽3，如图3和图5所示，也可以不开槽。凸触头1凸出部位的顶端是平的，如图1、2、8、9、11、12和14中的凸触头所示，或是圆弧面的，如图10所示，或是弧形凹陷，如图13所示。凸触头1和凹触头2均使用CuCr(20~50)、WCulO、CuCrFe、CuCrSe、Cu(W+WC)或CLR材料制作。

Claims (8)

1.一种真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：它包括凸触头(1)和凹触头(2)，凸触头(1)和凹触头(2)均为圆柱体，凸触头(1)的一个端面为凸出形，凹触头(2)的一个端面为凹陷形，凸触头(1)和凹触头(2)成对使用，两个触头接触时，凸触头(1)的凸出伸入到凹触头(2)的凹陷中，并紧密接触。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)的凸出面和凹触头(2)的凹陷面均为锥形面，且凸触头(1)和凹触头(2)的锥形面的锥度相同，其锥度大于0度且小于180度。
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)的凸出面和凹触头(2)的凹陷面均为圆弧面或球面，且凸触头(1)和凹触头(2)的圆弧面或球面的曲率相同。
4.根据权利要求2或3所述的任一权利要求所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)和凹触头(2)的外表面的尖端倒圆。
5.根据权利要求4所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)和凹触头(2)的圆柱直径相等，或凸触头(1)的圆柱直径大于凹触头(2)的圆柱直径，或凹触头(2)的圆柱直径大于凸触头(1)的圆柱直径。
6.根据权利要求5所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)和凹触头(2)的直径方向分别开有放射状的槽(3)，或不开槽。
7.根据权利要求6所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)凸出部位的顶端是平的，或是曲率小于接触面的圆弧，或是弧形凹陷。
8.根据权利要求7所述的真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：凸触头(1)和凹触头(2)均使用CuCr(20～50)、WCu10、CuCrFe、CuCrSe、Cu(W+WC)或CLR材料制作。
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