CN106653467A - 一种真空灭弧室触头结构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空灭弧室触头结构,包括静触头和动触头,所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面,所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面;其中,所述球形凸面上设置有多个外凹槽,所述球形凹面上设置有多个内凹槽。本发明一方面将动触头和静触头分别设置为球形凸面和球形凹面,其增加了动触头和静触头的接触面积和燃弧面积,其有利于提高电弧的扩散;另一方面在球形凸面和球形凹面上分别设置外凹槽和内凹槽,其进一步的增加了燃弧面积。
Description
技术领域
本发明涉及电气设备技术,尤其是涉及一种真空灭弧室触头结构。
背景技术
真空灭弧室作为中高压电力开关的核心部件,其主要作用是切断电源后迅速熄灭电弧抑制电流,避免合闸引起意外发生,而触头是产生电弧、熄灭电弧的核心部件,触头主要为动触头和静触头。触头在使用初期,一般均采用平板触头,但是平板触头在相同直径下接触面积和燃弧面积较小,易导致电弧扩散性差,而且触头多次接触、闭合易导致接触面变形、接触不良等问题。
发明内容
本发明的目的在于克服上述技术不足,提出一种真空灭弧室触头结构,解决现有技术中接触面积和燃弧面积导致电弧扩散性差的技术问题。
为达到上述技术目的,本发明的技术方案提供一种真空灭弧室触头结构,包括静触头和动触头,所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面,所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面;其中,所述球形凸面上设置有多个外凹槽,所述球形凹面上设置有多个内凹槽。
优选的,每个所述外凹槽和内凹槽分别沿所述球形凸面和球形凹面呈螺旋状布置。
优选的,所述外凹槽和内凹槽的横截面均呈弧形,且所述外凹槽和内凹槽的边缘分别与所述球形凸面和球形凹面平滑过渡。
优选的,多个所述外凹槽与多个所述内凹槽相对应设置。
与现有技术相比,本发明一方面将动触头和静触头分别设置为球形凸面和球形凹面,其增加了动触头和静触头的接触面积和燃弧面积,其有利于提高电弧的扩散;另一方面在球形凸面和球形凹面上分别设置外凹槽和内凹槽,其进一步的增加了燃弧面积。
附图说明
图1是本发明的真空灭弧室触头结构的连接示意图;
图2是本发明的外凹槽的分布示意图;
图3是本发明的内凹槽的分布示意图;
图4是本发明的外凹槽的剖视图;
图5是本发明的内凹槽的剖视图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参阅图1~5,本发明的实施例提供了一种真空灭弧室触头结构,包括静触头2和动触头1,所述动触头1相对所述静触头2一侧形成有球形凸面11,所述静触头2相对所述动触头1一侧形成一与所述球形凸面11相配合的球形凹面21;其中,所述球形凸面11上设置有多个外凹槽111,所述球形凹面21上设置有多个内凹槽211。
如图1所示,本实施例动触头1的球形凸面11配合抵接于静触头2的球形凹面21,其增加了动触头1与静触头2的接触面积和燃弧面积,有利于电弧的扩散,同时设置为球形凸面11和球形凹面21有利于提高其接触的紧密性,降低其变形的几率。而且在设置时,球形凸面11上的多个外凹槽111可与球形凹面21上的多个内凹槽211相对应设置,也可相错位设置,本实施例优选将多个外凹槽111与多个内凹槽211相对应设置,其有利于增加球形凸面11和球形凹面21的接触面积。
如图2、图3所示,本实施例每个所述外凹槽111和内凹槽211分别沿所述球形凸面11和球形凹面21呈螺旋状布置,其增加了外凹槽111和内凹槽211的长度,进一步的增加了燃弧面积,而且也有利于动触头1和静触头2的散热效率。
如图4、图5所示,为了避免外凹槽111和内凹槽211边缘形成尖端放电,本实施例所述外凹槽111和内凹槽211的横截面均呈弧形,且所述外凹槽111和内凹槽211的边缘分别与所述球形凸面11和球形凹面21平滑过渡,其也有利于增加燃弧面积。
与现有技术相比,本发明一方面将动触头1和静触头2分别设置为球形凸面11和球形凹面21,其增加了动触头1和静触头2的接触面积和燃弧面积,其有利于提高电弧的扩散;另一方面在球形凸面11和球形凹面21上分别设置外凹槽111和内凹槽211,其进一步的增加了燃弧面积。
以上所述本发明的具体实施方式,并不构成对本发明保护范围的限定。任何根据本发明的技术构思所做出的各种其他相应的改变与变形,均应包含在本发明权利要求的保护范围内。
Claims (4)
1.一种真空灭弧室触头结构,其特征在于,包括静触头和动触头,所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面,所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面;其中,所述球形凸面上设置有多个外凹槽,所述球形凹面上设置有多个内凹槽。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室触头结构,其特征在于,每个所述外凹槽和内凹槽分别沿所述球形凸面和球形凹面呈螺旋状布置。
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室触头结构,其特征在于,所述外凹槽和内凹槽的横截面均呈弧形,且所述外凹槽和内凹槽的边缘分别与所述球形凸面和球形凹面平滑过渡。
4.根据权利要求3所述的真空灭弧室触头结构,其特征在于,多个所述外凹槽与多个所述内凹槽相对应设置。
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Cited By (1)
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2016
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