CN200967608Y - 擦抹容器的改良结构 - Google Patents
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Abstract
一种擦抹容器的改良结构,具有一个可收容擦抹液的瓶体,在其上方设有一连接座,而连接座上则连接一顶部设有一可滚动球体的球座。在连接座与球座之间设有一位移机构及阻挡机构。位移机构使得球座与连接座具有第一位移位置及第二位移位置。连接座与球座在第一位移位置时,阻挡机构形成关闭状态,瓶体中的擦抹液被阻断无法流出球体,通过滚动的球体与皮肤接触,而可达到按摩功能。当位移机构使得连接座与球座在第二位移位置时,阻挡机构被开启,而瓶体中的擦抹液可流通经过连接座至球座顶部的球体流出,以达成擦抹功能。达到方便擦抹且可防止球体与擦抹物接触产生压力而使球座下降。
Description
技术领域
本实用新型关于一种擦抹容器,特别是用于乳液、液体药剂、消除疼痛擦抹液等的擦抹,且可当作按摩工具使用的擦抹容器的改良结构。
背景技术
目前市售的擦抹容器,例如消除疼痛擦抹容器,多具有一收容擦抹液的瓶体,并在瓶体上方设置一可让擦抹液缓慢流出并适合与皮肤接触的擦抹头,经由瓶体的倒置或按压,使擦抹液自瓶体内向擦抹头流出。
在已知的结构中,有一种擦抹头具有一球座,在其端部设置一可转动球体,使得擦抹液流经球体而舒适的擦抹于使用者皮肤表面。此种传统的擦抹容器皆只能作擦抹容器使用,而不具备其他任何功能。因此,是否能在擦抹器上设计一些结构,使得擦抹容器除了可擦抹外还具备有按摩功能,是为本实用新型主要讨论的范畴。
发明内容
本实用新型提供一种擦抹容器的改良结构,以克服上述传统结构的缺陷,扩大了擦抹容器的适用范围及功能。
本实用新型技术方案:一种擦抹容器的改良结构,其特征在于,包括:
一用以收容擦抹液的瓶体,具有一开口;
一连接座,连接在上述瓶体的开口处,
一球座,与上述连接座相连接,其上方具有一球槽及贯通连接座及球槽的通道;
一球体,可滚动地装置在上述球槽内,该球体的一半以上收纳在球槽内及另一部份露出在球槽外;
一具有第一位移位置及第二位移位置的位移机构,位于上述连接座及球座上;及
一阻挡机构,位于上述球座的通道上。
其中,进一步包括一用以限制上述位移机构第一及第二位移位置距离的限位机构,其位于上述球座及连接座之间。
其中,进一步包括一用以使连接座在第二位移位置定位球座的定位机构,位于上述球座及连接座之间。
其中,位移机构包含有一位于上述连接座表面的上斜凸条及一位于上述球座内的下斜凸条,该上斜凸条下缘为一上斜面及该下斜凸条上缘为下斜面,下斜面与上斜面相接触。
其中,瓶体上端具有一可与连接座内部下方所设置的一内螺纹相螺合而将瓶体与连接座连接的螺纹部系。
其中,连接座具有一基座,上述内螺纹位于该基座内壁上;该基底的上方具有一直径小于基底的突座,而突座上方进一步具有一口径小于突座的管体;上述球座底部具有一套筒,该套筒套合在连接座的突座上。
其中,位移机构的上斜凸条位于连接座的突座表面,而下斜凸条位于球座的套筒内壁。
其中,套筒内壁具有两个定位块,而突座上相对具有两个可将定位块卡入的定位槽。
其中,球座上方球槽为漏斗形,并在该漏斗形的球槽底部位置具有用以支撑球体底缘的对称支撑块。
其中,球座在球槽与套筒之间具有一用以将二者连结的连结部,该连结部内具有上述通道;而该通道包含相连通的第一通道及第二通道;该第一通道位于下方,第二通道位于上方;该第一通道的口径大于上述连接座的管体,且该第一通道底缘具有一圈挡环,其止挡在上述管体上缘所设的另一挡环处。
其中,第二通道口径大于上述连接座管体上设置的一止挡柱,且该第二通道内部具有一软质垫圈,该垫圈内径小于止挡柱。
其中,止挡柱与管体之间具有多个供擦抹液流通的开槽。
其中,进一步包括一可盖合于上述瓶体上方,以封闭球座、球体及连接座的盖体。
其中,盖体内部顶端具有一用以接触球体而使球体定位,以防止球体滚动的圈压环。
本实用新型功能及有益效果:
通过上述结构,本实用新型连接座与球座在第一位移位置时,阻挡机构形成关闭状态,瓶体中的擦抹液被阻断无法流出球体,通过滚动的球体与皮肤接触,而可达到按摩功能。当位移机构使得连接座与球座在第二位移位置时,阻挡机构被开启,而瓶体中的擦抹液可流通经过连接座至球座顶部的球体流出,以达成擦抹功能。
本实用新型通过操作使上及下斜面接触面移动,使得连接座及球座具有上述第一位移位置及第二位移位置。
本实用新型定位机构使得球座旋转至阻挡机构开启时会使球座定位,以方便擦抹动作,防止球体与擦抹物接触产生压力而使球座下降。
从而,本实用新型具有可靠的结构及扩展的适用范围。
以下,将依据图面所示的实施例而详加说明本实用新型结构及操作功能。
附图说明
图1:是本实用新型的分解图,
图2:是本实用新型的部分组合图,
图3:是本实用新型的组合图,
图4:是本实用新型的组合平面部份剖视图,
图5:是本实用新型去除盖体后的平面部份剖视图,
图5A:是本实用新型依据图5中连接座、球座及球体的平面放大图,以显示位移机构的第一位移位置,
图6:同图5,但球座已被升高,
图6A:是本实用新型依据图5中连接座、球座及球体的平面放大图,以显示位移机构的第二位移位置,
图7:是本实用新型的球座的剖面图,
图8:是本实用新型连接座的剖面图,
图9:是本实用新型连接座的俯视图,
图10:是本实用新型连接座的平面视图,
图11:是本实用新型应用于擦抹功能的示意图,
图12:是本实用新型应用于按摩功能的示意图。
具体实施方式
请参见图1至图4,本实用新型所提供的擦抹容器具有一个可收容擦抹液的瓶体10,在其上方设有一连接座20,而连接座20上则连接一顶部设有一可滚动球体30的球座40,以及一盖体50可盖合于球座40及连接座20。
瓶体10的上端形成有螺纹部11,其与连接座20的内螺纹22相螺合,以覆盖瓶体上方开口12。可配合参见图8至图10,内螺纹22是设在连接座20的基底21内侧,而基底21外侧则设有一外螺纹23;在基底21的上方形成一直径较小的突座24,而突座24上开设有一对定位槽241(参见图9);突座24上方形成一口径更小的管体25,并在管体25上方开口位置形成一止挡柱26;在止挡柱26与管体25之间形成多个开槽27,以供擦抹液流动的通道。在突座24外壁形成一上斜凸条28,上斜凸条28下缘为上斜面281(可参见图10)。在管体25上缘有一圈挡环29。
球座40,可参见图7,其底部具有一套筒41,该套筒41适以套合于连接座20的突座24上;套筒41内壁形成一下斜凸条42,下斜凸条42上缘为下斜面421,且下斜面421与突座24表面上斜凸条28的上斜面281相接触(可参见图5A),通过上斜凸条28及下斜凸条42以形成位移机构。套筒41内壁还设有两个定位软块44,定位块44与突座24上的定位槽241构成定位机构。
球座40上方为漏斗形的球槽43,球槽43内部空间适以收纳一半以上的球体30,使球体30以可滚动方式组合于球槽43内。在漏斗形的球槽43接近底部位置设有对称的支撑块45以支撑球体底缘,并使球体30底缘不会与球槽43发生黏合现象,可参见图5。
球座40在球槽43与套筒41之间以一连结部46连结。连结部46内具有相连通的第一通道47及第二通道48;第一通道47位于下方,第二通道48位于上方。第一通道47的口径大于连接座20的管体25,且于底缘有一圈挡环471,其与管体25上缘的挡环29相互形成止挡作用,以限制连接座20与球座40两者位移的行程(可参见图5及图6)。第二通道48口径大于连接座20的止挡柱26,且于内部设有一软质垫圈481,该垫圈481内径小于止挡柱26;通过第二通道48、垫圈481及止挡柱26构成阻挡机构。
盖体50,可参见图4,内壁下方具有螺纹部51,可与连接座20的底座21上外螺纹23相螺合,使得盖体50盖合于瓶体10上方,以封闭球座40、球体30及连接座20。同时,盖体50内部顶端形成一圈压环52,在盖合于瓶体10时,该压环52会接触球体30而使其定位,以防止球体30滚动。
本实用新型使用时,可将盖体50移除,使球座40、球体30及连接座20显露,如图5所示。配合图5A,此时,由于构成位移机构的上斜凸条28及下斜凸条42间接触的上斜面281及下斜面421是在完全接触位置,使得连接座20及球座40在第一位移位置,也就是连接座20的基底21顶面与球座40套筒41的底缘是相接触的。此时,连接座20的止挡柱26伸入球座40的第二通道48内,并以垫圈481与止挡柱26接触,以封闭第二通道48,并止挡瓶体10内的擦抹液流出。
如果对球座40施予旋转力而相对连接座20旋转,则位移机构的上斜凸条28与下斜凸条42的接触面开始分离,而会使得球座40相对连接座20上升,以至图6所示的第二位移位置,也就是连接座20的基底21顶面与球座40套筒41的底缘具有间隙距离t。此时,止挡柱26以退出第二通道48使得第二通道48开通,使擦抹液可流过第二通道48而至球体30底缘,如图6中流线所示。此时,可如图11所示,将整个擦抹容器倒置,并将球体30与被擦抹物60(例如皮肤)接触,使得球体30向支撑块45接触,则擦抹液可经由球体30与球槽43之间所形成的间隙以及球体30的滚动,而流至被擦抹物60表面。
当在图6A所示的第二位移位置时,连接座20管体25上的挡环29与球座40第一通道47内的挡环471相接近,以防止连接座20与球座40分离,并限制连接座20与球座40的最大位移量;通过连接座20管体25上的挡环29及球座40第一通道47内的挡环471,以构成一限位机构。同时,定位机构的定位块44正好卡入定位槽241内,使球座40与连接座20产生定位效果。
擦抹液是自瓶体10内,经过连接座20的基座21、管体25、止挡柱26周围的开槽27,而缓慢流入球座40的第一通道47、第二通道48,然后被滚动的球体30带出球体30露出球槽43的部份,以方便擦抹。
在球座40套筒41内的定位块44是与连接座20的突座24外表紧迫相接触,其功用是使得球座40与连接座20相互旋转升高球座40的动作时产生阻力,以防止不使用收存时因擦抹容器被振动而发生球座40与连接座20相对旋转的误使阻挡机构被开启动作。同时,在球座40相对连接座20旋转最高的第二位移位置时,定位块44正好卡入突座24上的定位槽241以达到定位效果,并在球体30与被擦抹物60接触产生压力时,可防止球座40相对连接座20下降,保持阻挡机构在开启状态,以方便使用者擦抹动作。
本实用新型擦抹容器在当作按摩工具使用时,如图12所示,其中球座40与连接座20是在第一位移位置,而阻挡机构是在封闭状态,使得瓶体10内的擦抹液不会自球体30流出。此时,由于球体30可自由滚动,与被按摩物70表面接触,以提供按摩功能。
显然,本实用新型所提供的擦抹容器较习知技术更增加了按摩功能。而图面所示者,仅为本实用新型较佳实施例,但不以此限制本实用新型专利范围;凡依据本实用新型技术思想所为的简易或等效变化,例如其他种已知形式的位移机构及阻挡机构变化,仍属本实用新型专利保护范围之中。
Claims (14)
1.一种擦抹容器的改良结构,其特征在于,包括:
一用以收容擦抹液的瓶体,具有一开口;
一连接座,连接在上述瓶体的开口处,
一球座,与上述连接座相连接,其上方具有一球槽及贯通连接座及球槽的通道;
一球体,可滚动地装置在上述球槽内,该球体的一半以上收纳在球槽内及另一部份露出在球槽外;
一具有第一位移位置及第二位移位置的位移机构,位于上述连接座及球座上;及
一阻挡机构,位于上述球座的通道上。
2.依据权利要求1所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,进一步包括一用以限制上述位移机构第一及第二位移位置距离的限位机构,其位于上述球座及连接座之间。
3.依据权利要求1所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,进一步包括一用以使连接座在第二位移位置定位球座的定位机构,位于上述球座及连接座之间。
4.依据权利要求1所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,位移机构包含有一位于上述连接座表面的上斜凸条及一位于上述球座内的下斜凸条,该上斜凸条下缘为一上斜面及该下斜凸条上缘为下斜面,下斜面与上斜面相接触。
5.依据权利要求4所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,瓶体上端具有一可与连接座内部下方所设置的一内螺纹相螺合而将瓶体与连接座连接的螺纹部系。
6.依据权利要求5所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,连接座具有一基座,上述内螺纹位于该基座内壁上;该基底的上方具有一直径小于基底的突座,而突座上方进一步具有一口径小于突座的管体;上述球座底部具有一套筒,该套筒套合在连接座的突座上。
7.依据权利要求6所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,位移机构的上斜凸条位于连接座的突座表面,而下斜凸条位于球座的套筒内壁。
8.依据权利要求7所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,套筒内壁具有两个定位块,而突座上相对具有两个可将定位块卡入的定位槽。
9.依据权利要求8所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,球座上方球槽为漏斗形,并在该漏斗形的球槽底部位置具有用以支撑球体底缘的对称支撑块。
10.依据权利要求9所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,球座在球槽与套筒之间具有一用以将二者连结的连结部,该连结部内具有上述通道;而该通道包含相连通的第一通道及第二通道;该第一通道位于下方,第二通道位于上方;该第一通道的口径大于上述连接座的管体,且该第一通道底缘具有一圈挡环,其止挡在上述管体上缘所设的另一挡环处。
11.依据权利要求10所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,第二通道口径大于上述连接座管体上设置的一止挡柱,且该第二通道内部具有一软质垫圈,该垫圈内径小于止挡柱。
12.依据权利要求10所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,止挡柱与管体之间具有多个供擦抹液流通的开槽。
13.依据权利要求1所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,进一步包括一可盖合于上述瓶体上方,以封闭球座、球体及连接座的盖体。
14.依据权利要求13所述的擦抹容器的改良结构,其特征在于,盖体内部顶端具有一用以接触球体而使球体定位,以防止球体滚动的圈压环。
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