CN1995692A - 抽油杆盘片式涡流振荡降粘防蜡器 - Google Patents

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张建国
肖建洪
史宝光
侯治民
贾斐
张涛
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Abstract

本发明提供了一种抽油杆盘片式涡流振荡降粘防蜡器，属于有杆采油装备技术领域，由上接头、中心杆体、下接头顺序连接构成，安装在抽油杆上任意井深位置，在中心杆体上并列安装10～18块盘片式振动片，每块盘片式振动片上开有4～8条缝槽，每条缝槽的宽度为3～5毫米，两相邻盘片式振动片之间的距离为30～50毫米，相邻盘片式振动片的缝槽不在同一平面上。在抽油杆上下运行过程中，盘片式振动片与液体之间产生机械剪切搅拌作用，导致液体粘度降低。液体经振动片上的缝槽上下流动时，由于相邻振动片上的缝槽均错开一定的角度而产生剧烈的涡流振荡，该涡流振荡破坏了蜡晶结构，达到防蜡降粘的目的。

Description

抽油杆盘片式涡流振荡降粘防蜡器
技术领域：
本发明属于有杆采油装备技术领域，特别是油井中的降粘防蜡器。
背景技术：
高含蜡高凝固点原油在生产过程中因温度降低造成结蜡现象，使管内流体粘度增高、流动阻力增加，严重时甚至造成油井停产。目前国内外解决此类问题主要有以下几种方法：①加热法，即定期用热油或热水循环洗井来溶化油井中的石蜡，疏通管流通道。该方法的不足之处是增加作业占井时间而影响产量，另外，用热水洗井容易造成油层污染而影响油井正常生产。②化学清防蜡法，通过连续或定期向油井中加入化学药剂，来抑制蜡晶增长或清除已经结蜡形成堵塞管段的蜡堵现象。但这种方法要根据不同蜡组分来选择合适的化学药剂，且生产现场难以实现高效连续加药，而且化学药剂的价格较高。③机械式刮蜡器，利用机械作用来磨损清除所结蜡块让油流将其携带出井口，但它的问题是易造成卡堵，有时也不易下入结蜡严重部位，且作业占井时间长影响生产，不具备有效的防结蜡作用。④强磁防蜡器，是利用磁场作用来达到防止结蜡的一种防蜡方法，但磁场强度与磁通量等参数及混合流体成分含量诸因素会影响防蜡效果，随着防蜡器老化会降低防蜡效果。⑤声波振动降粘防蜡器，该技术是利用流体动能激发声波发生器而产生声波振动，来阻止蜡晶结晶生长达到延缓结蜡的一种防蜡技术。但该种防蜡器的结构有局限性，它只能接在抽油泵下，难以用于泵上的管柱，所以导致结蜡点较深的油井防蜡效果不理想。
发明内容：
本发明的目的是要提供一种抽油杆盘片式涡流振荡降粘防蜡器，以解决油井结蜡问题。
本发明的目的是这样实现的，涡流振荡防蜡器由10～18块盘片式振动片在中心杆体上并列安装组成，连接在抽油杆上任意井深位置，每块盘片式振动片上开有4～8条缝槽，每条缝槽的宽度为3～5毫米，两相邻盘片式振动片之间的距离为30～50毫米，相邻盘片式振动片的缝槽不在同一平面上。
附图说明：
图1是依据本发明所提出的抽油杆盘片式涡流振荡降粘防蜡器的结构示意图。
图2是图1所示盘片式振动片沿A-A线的剖视图。
具体实施方式：
下面结合附图来详细描述本发明的具体结构。
如图1所示，本防蜡器由上接头1、中心杆体2、下接头5顺序连接构成，在中心杆体2上并列安装10～18块盘片式振动片3，每块振动片3上开有4～8条缝槽，每条缝槽的宽度为3～5毫米，两相邻盘片式振动片之间的距离为30～50毫米，相邻盘片式振动片的缝槽错开一定的角度，振动片的下方靠近下接头5处安装扶正保护器4，用来保护振动片在下放时不被碰坏。中心杆体的两端是上、下接头，分别连接抽油杆，可以安装在任意井深位置。在抽油杆上下运行过程中，盘片式振动片3与液体之间产生机械剪切搅拌作用，导致液体粘度降低，同时产生的复频振动波在液体中传播也对液体产生作用。液体经振动片上的缝槽上下流动时，由于相邻振动片上的缝槽均错开一定的角度而产生剧烈的涡流振荡，在涡流振荡场的附加作用下使液体得到进一步的处理，由此破坏蜡晶结构，降低原油粘度达到防蜡降粘的目的。该装置用于高含蜡高凝固点原油且采用有杆抽油举升方式的油井生产中。

Claims (1)

1.一种抽油杆盘片式涡流振荡降粘防蜡器，由上接头(1)、中心杆体(2)、下接头(5)顺序连接构成，安装在抽油杆上任意井深位置，其特征是，在中心杆体(2)上并列安装有10～18块盘片式振动片(3)，两相邻盘片式振动片之间的距离为30～50毫米，每块盘片式振动片上开有4～8条缝槽，每条缝槽的宽度为3～5毫米，相邻盘片式振动片的缝槽不在同一平面上。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104329052A (zh) * 2014-11-25 2015-02-04 东营咸亨工贸有限公司 油井机械波涡流降粘防蜡装置
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication