CN1991936B - 显示装置以及显示装置制造方法 - Google Patents

Abstract

一种显示装置，包括第一结构基板，其中在第一结构基板上划分有多个像素区域，且上述这些像素区域的至少其中之一，具有自发光区域与光反射区域。挡墙结构位于该第一结构基板上，且围绕该自发光区域与该光反射区域的边缘，而隔离该自发光区域与该光反射区域。自发光显示结构设置在该第一结构基板上的该自发光区域。反射式显示结构设置在该第一结构基板上的该光反射区域。又，第二结构基板覆盖在该挡墙结构上。

Description

显示装置以及显示装置制造方法

技术领域

本发明涉及一种显示器技术，且特别涉及一种具有半自发光半反射型显示器的结构与制造方法。

背景技术

信息的内容中，除了文字与语音的方式外，图像也是重要的方式，可以使信息的内容更具体生动。随着科技的进步，现在包含文字的图像，可以通过显示器显示。特别是，由多个像素单位所组成数字化显示器，已渐渐成为显示器的主流。平面型显示器，根据其显示的方式，可以分成多种类型。其中一些显示器的像素可以主动发光，例如由有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)所制成的显示器，也有一些显示器的像素需要外部光源，例如液晶显示器(liquid crystaldisplay，LCD)。又，液晶显示器的外部光源，可以由背光模块提供，或由环境的光所提供。

由于一些显示器，特别是较小型的便携式电子装置所配备的显示器，会经常移动于不同亮度的室内与室外环境，会造成显示质量的不佳。为了解决此问题，例如传统的液晶显示器的像素设计成具有反射区域与穿透的区域，其中反射区域是利用入射的环境光做作为显示的光源，而穿透的区域则利用背光模块产生显示的光源。

以美国专利申请公开号US2002/0196387的描述，其设计是将反射区和自发光区设置为多层堆叠的结构。在此传统的堆叠结构中，反射区和自发光区的元件由于堆叠的结构，个别元件在作用上会相互干扰，且个别元件的工艺也会互相影响且复杂。例如由于元件的耐热程度不同，后续的高温工艺可能会对已形成的低温元件造成损坏。如此等各种问题，仍需要进一步解决。

因此，制造业者仍继续寻求，可以达到良好的显示质量，又同时可以降低制造成本等等的设计。本发明提出单层结构，使反射区和自发光区设计成左右设置的结构，内容会描述于后。

发明内容

本发明的目的之一是提供一种显示装置，对于像素单元而言，利用挡墙结构，分成自发光区域与光反射区域，以简化像素结构。由于有挡墙结构，自发光区域与反射发光区域相互不干扰，可以提高显示质量。

本发明的目的之一是提供一种制造显示装置的方法，对于像素单元而言，利用压印方式制造挡墙结构，以分成自发光区域与光反射区域，以利于简化制造流程与成本。

本发明提供一种显示装置.此显示装置包括第一结构基板，其中在第一结构基板上划分有多个像素区域，且这些像素区域的至少其中之一，具有自发光区域与光反射区域.挡墙结构位于该第一结构基板上，且围绕该自发光区域与该光反射区域的边缘，而隔离该自发光区域与该光反射区域.自发光显示结构设置在该第一结构基板上的该自发光区域，该自发光显示结构包括下电极层、发光主动层以及上电极层，其中发光主动层介于下电极层与上电极层之间，通过施加电流或电压给发光主动层以发出光.反射式显示结构设置在该第一结构基板上的该光反射区域.又，第二结构基板覆盖在该挡墙结构上.

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，该反射式显示结构，包括液晶显示(LCD)结构、电泳(electrophoresis)显示结构、电润湿(electrowetting)显示结构等可形成反射式显示的结构。

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，该自发光显示结构包括有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode)结构层。

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，该自发光显示结构实质上由该第一结构基板向该第二结构基板的方向发光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，该反射式显示结构包括反射电极层，位于该第一结构基板上，用以反射入射的环境光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，还包括防止反射结构层在该第二结构基板上，且对应该自发光区域，以防止该自发光区域反射入射的环境光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，包括填充层，位于由该第一结构基板、该自发光显示结构以及该挡墙结构三者所围成的空间。

依照本发明的较佳实施例，在上述的显示装置中，该反射式显示结构包括反射电极层，位于该第二结构基板上，用以反射入射的环境光。

本发明提供一种制造显示装置的方法，包括提供第一结构基板，其中该第一结构基板划分有多个像素区域，且上述这些像素区域的至少其中之一，具有自发光区域与光反射区域。挡墙结构被形成于该第一结构基板上，其中该挡墙结构围绕该自发光区域与该光反射区域的边缘，且隔离该自发光区域与该光反射区域。自发光显示结构被形成在该第一结构基板上的该自发光区域，该自发光显示结构包括下电极层、发光主动层以及上电极层，其中发光主动层介于下电极层与上电极层之间，通过施加电流或电压给发光主动层以发出光。反射式显示结构被形成在该第一结构基板上的该光反射区域。第二结构基板被提供。又，该第二结构基板覆盖在该挡墙结构上。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，形成该挡墙结构于该第一基板上的该步骤，是以压印工艺所形成。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，其中形成该自发光显示结构与形成该反射式显示结构的两个步骤，是分别进行或是混合一起进行。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，所形成的该自发光显示结构，实质上由该第一结构基板向该第二结构基板的方向发光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，形成该反射式显示结构的步骤，包括形成反射电极层，位于该第一结构基板上，用以反射入射的环境光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，该第二结构基板的该自发光区域，包括防止反射结构层，以防止该自发光区域反射入射的环境光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，所形成的该自发光显示结构，实质上由该第二结构基板向该第一结构基板的方向发光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，所提供的该第一结构基板包括防止反射结构层在该自发光区域，以防止该自发光区域发出反射光。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，形成自发光显示结构的该步骤，包括形成填充层，于由该自发光显示结构上，其高度与该挡墙结构等高。

依照本发明的较佳实施例，在上述的制造显示装置的方法中，形成反射式显示结构的该步骤，包括预先形成反射电极层，位于该第二结构基板上，用以将入射的环境光反射。

本发明因采用压印形成的挡墙结构，以直接区分出自发光区域与反射发光区域，以简化像素结构，且有利于方便制造，降低成本。且，由于有挡墙结构，自发光区域与反射发光区域相互不干扰，可以提高显示质量。

为让本发明之上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。

附图说明

图1为根据本发明一实施例的具有自发光与反射(selflight-emitting and reflective)型显示器的剖面结构示意图。

图2A～2D为根据本发明一实施例的显示装置的制造流程图。

图3A～3F为根据本发明一实施例的显示装置的制造流程图。

图4为根据本发明一实施例的像素布局。

图5A～5B为电泳显示结构的机制。

图6A～6B为电润湿显示结构的机制。

主要元件标记说明

100：像素结构

102、300：第一结构基板

102a、300a：自发光区域

102b、300b：光反射区域

104、314：挡墙

106：下电极层

108、308：发光主动层

110、307：上电极层

112：粗面化结构层

114、309：反射电极层

116、316：下电极结构层

118、313：液晶层

120、306：上电极层

122、314：第二结构基板

124：空间

126、302：偏极片

128、304：1/4波板

130：功能层

312：填充层

402、404：像素

500、502：电极

504：空间

506：粒子

508、606：入射光

510、608：反射光

600：电极

602：水层

604：油性滴层

具体实施方式

基于发光二极管的技术发展，例如有机发光二极管(OLED)，或是聚合物发光二极管(polymer light-emitting diode，PLED)已经被提出。本发明于是提出具有半自发光半反射型显示器的结构与制造方法。以下举一些实施例作为说明，但是本发明不限制在所举的实施例。

图1为根据本发明一实施例的具有自发光与反射(emissive andreflective)型显示器的剖面结构示意图。于此先就结构的特征描述，其制造流程会于后面描述。参照图1，具有自发光半与反射型显示器的结构100，例如是以有机发光二极管与反射式LCD(reflective LCD)两个元件结构所组成。显示器的结构100包括第一结构基板(structuralsubstrate)102，其上有划分有多个像素区域。而这些像素区域的至少其中的一个像素区域或是全部的像素区域，具有自发光区域(emissiveregion)102a与光反射区域(reflective region)102b。图1仅以一个像素结构描述。第一结构基板102，例如是下基板，在下基板上有所需要的驱动电路结构、对应液晶的配向膜(alignment film)、以及其他功能层(functional layer)等等的结构，其细节应为一般所属技术领域的技术人员可以了解，包括根据实际的设计所需要的结构，在此不予详述。

又，挡墙结构104，位于第一结构基板102上，且围绕自发光区域102a与光反射区域102b的边缘。挡墙结构104同时隔离自发光区域102a与光反射区域102b，以形成分开的两个空间，可以分别容置自发光显示结构与反射式显示结构。自发光显示结构例如是有机发光二极管(OLED)或是聚合物发光二极管(PLED)，其包括下电极层106、发光主动层(light-emitting active layer)108、以及上电极层110，其中发光主动层108介于下电极层106与上电极层110之间。通过施加电流或电压给发光主动层106以发出光。

另外，反射式显示结构在图1的实施例，是以LCD结构为例。对于LCD结构，于此也仅为一些主要的相关结构，其他相关的结构例如驱动电路与功能层也都可制造在第一结构基板102上。在注入液晶之前，在第一结构基板102上设置有下电极结构层116。此下电极结构层116可以将入射的环境光反射，也就是反射式的LCD结构是以环境光作为光源。为了具有均匀的反射效果，下电极结构层116包括粗面化结构层(roughening-surface structural layer)112以及反射电极层114在粗面化结构层112上.粗面化结构层112的表面被粗化，以使入射的光可以均匀散射到其他方向.反射电极层114是与粗面化结构层112的表面形式相同，也具有粗面结构.反射电极层114是金属材料，除了当作驱动液晶的电极层外，还具有将入射光反射的功能.

接着，液晶层118，以喷墨印刷(Ink Jet Printing)等方式被注入到由挡墙结构104对应光反射区域102b所围成的容置空间。另外，第二结构基板122，覆盖于挡墙结构104上，将自发光区域102a与光反射区域102b封闭。第二结构基板122与第一结构基板102相同情形，其上有实际设计所需要的元件结构，其中包含上电极层120。此上电极层120与反射电极层114是用以控制液晶层118的液晶分子的排列方向，以控制反射光的亮度。这些液晶显示机制为一般所属技术领域的技术人员所知，于此不予详述。又，对应光反射区域102b的第二结构基板122也例如可以包括彩色滤光层及偏极片(未示于图1)。

在光反射区域102b的LCD结构，是利用环境光作为显示光源，而在自发光区域102a的OLED结构，可以自行发光。如此，当显示器在强环境光下，由于光反射区域102b是利用环境光作为显示光源，因此可以维持图像的显示对比，以增进显示质量。反之，当显示器在弱环境光下，由于光反射区域102b的光源减弱，此时自发光区域102a的OLED结构可以提供所需要的显示对比，对应环境仍维持良好的显示质量。

又，上述在光反射区域102b的LCD结构也不是唯一的选择，可以是其他的结构的设计，其中还例如是电泳(electrophoresis)显示结构或是电润湿(electrowetting)显示结构。

图5A～5B为电泳显示结构的机制。图6A～6B为电润湿显示结构的机制。请先参照图5A，于二电极500、502之间的空间504，分布有电中性的粒子506，然而粒子506具有电偶特性，也就是说粒子506上的正负电荷分布在粒子506两端，但是其电荷量为零。另外，粒子506具有预定的颜色。于图5B，当电极500施加电压时(此时电极502为接地)，一部分的粒子506会被吸附到电极500。施加的电压与被吸附粒子506的数量有一定关系。当入射的白光508通过电极500的反射，依照被吸附颜色粒子506的数量，产生颜色的灰度值(gray level)，以显示针对此像素所要的颜色亮度。

关于电润湿显示结构的机制，请先参照图6A，对于容置空间装有流体层，例如水层602，在底部反射电极层600上有油性滴层604。油性滴层604具有预定的颜色，例如是黑色，而反射电极层600例如是白色。在反射电极层600未施加电压时，油性滴层604覆盖反射电极层600，呈现黑色。如图6B所示，当反射电极层600施加电压，则会增加油性滴层604的内聚效应，其内聚效应的大小与所施加的电压有函数关系。因此，通过重施加在反射电极层600的电压，可以控制油性滴层604在反射电极层600的面积，因此可以产生所要颜色的灰度值。

上述的电泳(electrophoresis)显示结构或是电润湿(electrowetting)显示结构，可以取代一般的LCD结构，至于其所需要的驱动电路与元件结构，可根据实际的设计而变化。

以下也针对图1的结构，举出制造方法的一实施例。图2A～2D为根据本发明一实施例的显示装置的制造流程图。于图2A，第一结构基板102被提供作为后续结构的基础。在第一结构基板102上，可以预先形成一些结构层。

接着，挡墙结构104形成于第一结构基板102上，且围绕自发光区域102a与光反射区域102b的边缘.挡墙结构104例如是以压印的方式形成.后续的工艺，以广泛的角度而言包括将自发光显示结构，形成在第一结构基板102上的自发光区域102a.反射式显示结构，被形成在第一结构基板102上的光反射区域102b.第二结构基板122覆盖在挡墙结构104上.以下较详细描述.

继续参照图2A，粗面化结构层112形成于第一结构基板102上的光反射区域102b，其可用压印的方式形成，其表面会进行粗面化工艺。另外配向膜(图中未示出)可先形成于第一结构基板102上。接着、在自发光区域102a形成下电极层106，在光反射区域102b形成反射电极层114。于一较佳方式，下电极层106与反射电极层114可以是相同材料，同时形成。上述的元件结构，都可以利用压印方式完成。又，挡墙结构104也可以在上述元件结构形成后才后续形成。换句话说，形成顺序可以根据实际制造变换。

参照图2B，接着针对自发光显示结构，依序形成发光主动层108与上电极层110于下电极层106上，以完成有机发光二极管的结构。此有机发光二极管的结构会由下电极层106往上电极层110的方向发光。接着，针对反射式显示结构，注入液晶层118于反射电极层114上的容置空间。

参照图2C，将第二结构基板122覆盖于挡墙结构104上。第二结构基板122与第一结构基板102的情形一样，以预先形成一些元件结构，其中例如包括对应光反射区域102b的上电极层120。第二结构基板122将液晶层118封住在对应光反射区域102b的空间，由上电极层120与反射电极层114控制液晶分子的方向。

如图1的描述，在光反射区域102b的LCD结构，是利用环境光作为显示光源，而在自发光区域102a的OLED结构，可以自行发光。

参照图2D，由于自发光区域102a也同时会接收环境光，而能有一部分会被上电极层110反射出，影响显示质量。此时，可以在第二结构基板122上设置一防止反射的结构。例如形成偏极片126与1/4波板128于第二结构基板122上。当非偏极的环境光入射到偏极片126时，仅线性偏极光通过，接着通过1/4波板128后转换成右旋圆偏极光，被自发光区反射后转为左旋圆偏极光，再经过1/4波板128后再转为线性偏极光，但此时的线性偏极方向已与原通过偏极片的线性偏振方向垂直，因此光线无法通过偏极片126。另外，根据实际设计的需要，第二结构基板122上也形成需要共用的其他功能层130，例如第二偏极层等。

又，图2D的显示机制是由第一结构基板102往第二结构基板122发光显示。此时，在自发光区域102a上的空间124，可能是空洞的状态。又，例如当第二结构基板122覆盖挡墙结构104时，可能液晶分子会渗入空间124中。因此，依照相同设计的原则，可以做其他变化，使发光的方向与图1的方向相反。

图3A～3F为根据本发明一实施例的显示装置的制造流程图。于图3A，在第一结构基板300上形成偏极片302。此偏极片302可以共用于自发光区域与光反射区域。另外根据实际需要，可以还包括其他共用的功能层结构与电路结构。

于图3B，在第一结构基板300的自发光区域300a，依序形成另一偏极片304以及1/4波板308。又，在第一结构基板300的光反射区域300b，形成上电极层306。例如可以用压印的方式完成。又，偏极片304与上电极层306之间留有空隙，即是自发光区域300a与光反射区域300b的边缘。

于图3C，例如利用压印方式，在第一结构基板300上形成挡墙结构310，前述的空隙填满.要注意的是(Remarkably)，挡墙结构310也可以先制造完成，而后才制造偏极片302、1/4波板304与上电极层307.其形成的顺序不必限制，而偏极片302也可以被挡墙结构310隔离.换句话说第一结构基板300可以包含上述的元件结构，而预先制造完成.

接着，在自发光区域300a的偏极片302上形成先前实施例的发光结构，例如有机发光二极管等，其还例如包括上电极层307、发光主动层308与反射电极层309。接着，填充层312对应自发光区域300a，形成于第一结构基板300上方的空间填满，其高度与挡墙结构310的高度一致。

参照图3D，液晶层313形成于第一结构基板300上方对应光反射区域300b，且由挡墙结构310所围成的容置空间。

参照图3E，第二结构基板314覆盖于挡墙结构310上，如此将第一结构基板300上方的自发光区域300a与光反射区域300b封闭。要注意的是，第二结构基板314，如前实施例所述，已预先形成有其他的元件结构，其中例如反射电极结构层316对应光反射区域300b，已形成于第二结构基板314上。当第二结构基板314覆盖于挡墙结构310时，反射电极结构层316与上电极结306配合驱动液晶层313的液晶分子。反射电极结构层316也可以有粗面化的结构。

又，当第二结构基板314覆盖于挡墙结构310时，液晶层313可能会溢出一些液晶。此时，由于填充层312已将自发光区域300a的空间填满，因此不会影响自发光区域300a的发光。又，填充层312也可以使发光结构稳固地被设置在第一结构基板300与第二结构基板314之间。

参照图3F，根据此制造方法所制成的结构，其发光方向如箭头所示。换句话说，图3F的发光方向与图1的发光方向相反。在自发光区域300a，其偏极片302与1/4波板304构成防止反射的结构。在光反射区域300b，入射的环境光可以由反射电极层316反射，通过液晶层313后射出。

对于实际的设计与应用而言，上述一些实施例的方法与结构可以互相结合应用，本发明并非仅限制于个别实施例的安排设计。又，在第一结构基板与第二结构基板上，根据设计的不同，已预先制造成对应的元件结构，而制造元件结构时，自发光区域与光反射区域的元件结构可以分开制造，也可一起制造。例如两区域的制造温度条件不同且有影响时，可以先制造耐高温元件，而后才制造低温元件，以防止低温元件被温度因素造成损坏。

又，针对多个像素所组合的像素阵列，自发光区域与光反射区域可以交互变换的方式排列。图4为根据本发明一实施例的像素布局。于图4，以两个相邻像素402、404为例，每一个像素可以是前述的像素结构，但是例如像素402的自发光区域402a是在光反射区域402b的左侧，而像素404的自发光区域404a是在光反射区域404b的右侧。又，如果是彩色显示，则一个像素是由三个前述的像素结构，分别产生红、绿、蓝的三原色光所组成。这都是实际设计的变化。

本发明提出利用挡墙结构，将像素分成自发光区域与光反射区域，而制造对应的显示元件结构。本发明的一些元件结构，可以利用压印方式制造完成。本发明提供的像素结构，至少有简单的结构，且制造方法简单。如此，本发明可以降低成本、增加产能、提高合格率。

虽然本发明已以较佳实施例披露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明之精神和范围内，当可作些许之更动与改动，因此本发明之保护范围当视权利要求所界定者为准.

Claims (29)

1.一种显示装置，其特征是包括：

第一结构基板，其中该第一结构基板上划分有多个像素区域，且上述这些像素区域的至少其中之一，具有自发光区域与光反射区域；

挡墙结构，位于该第一结构基板上，且围绕该自发光区域与该光反射区域的边缘，且隔离该自发光区域与该光反射区域；

自发光显示结构，设置在该第一结构基板上的该自发光区域，该自发光显示结构包括下电极层、发光主动层以及上电极层，其中发光主动层介于下电极层与上电极层之间，通过施加电流或电压给发光主动层以发出光；

反射式显示结构，设置在该第一结构基板上的该光反射区域；以及

第二结构基板，覆盖在该挡墙结构上。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是该反射式显示结构，包括液晶显示结构或电泳显示结构或电润湿显示结构。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是该自发光显示结构包括有机发光二极管结构层或是聚合物发光二极管结构层。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是该自发光显示结构实质上由该第一结构基板向该第二结构基板的方向发光。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征是该反射式显示结构包括反射电极层，位于该第一结构基板上，以将入射的环境光反射。

6.根据权利要求4所述的显示装置，其特征是该反射式显示结构的电极层，位于该第二结构基板上。

7.根据权利要求4所述的显示装置，其特征是还包括防止反射结构层在该第二结构基板上，且对应该自发光区域，以防止该自发光区域发出反射光。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是该自发光显示结构实质上由该第二结构基板向该第一结构基板的方向发光。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征是还包括防止反射结构层在该第一结构基板与该自发光显示结构之间，且对应该自发光区域以防止该自发光区域发出反射光。

10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征是还包括填充层，位于由该第一结构基板、该自发光显示结构以及该挡墙结构三者所围成的空间。

11.根据权利要求8所述的显示装置，其特征是该反射式显示结构包括反射电极层，位于该第二结构基板上，以将入射的环境光反射。

12.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是还包括共用的功能片设置在该自发光区域与该光反射区域。

13.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是该反射式显示结构包括彩色滤光层。

14.根据权利要求1所述的显示装置，其特征是上述这些像素区域包括多个不同色彩像素以达到色彩显示图像，或是皆是相同色彩像素以灰度值显示图像。

15.一种制造显示装置的方法，其特征是包括：

提供第一结构基板，其中该第一结构基板划分有多个像素区域，且上述这些像素区域的至少其中之一，具有自发光区域与光反射区域；

形成挡墙结构于该第一结构基板上，其中该挡墙结构围绕该自发光区域与该光反射区域的边缘，且隔离该自发光区域与该光反射区域；

形成自发光显示结构，在该第一结构基板上的该自发光区域，该自发光显示结构包括下电极层、发光主动层以及上电极层，其中发光主动层介于下电极层与上电极层之间，通过施加电流或电压给发光主动层以发出光；

形成反射式显示结构，在该第一结构基板上的该光反射区域；

提供第二结构基板；以及

将该第二结构基板覆盖在该挡墙结构上。

16.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是形成该挡墙结构于该第一基板上的该步骤，是以压印工艺所形成。

17.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是形成该自发光显示结构与形成该反射式显示结构的两个步骤，是分别进行或是混合一起进行。

18.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是形成该反射式显示结构的步骤，包括形成液晶显示结构或电泳显示结构或电润湿显示结构。

19.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是形成该自发光显示结构的步骤，包括形成有机发光二极管结构层或是聚合物发光二极管结构层。

20.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是所形成的该自发光显示结构，实质上由该第一结构基板向该第二结构基板的方向发光。

21.根据权利要求20所述的制造显示装置的方法，其特征是形成该反射式显示结构的步骤，包括形成反射电极层，位于该第一结构基板上，以将入射的环境光反射。

22.根据权利要求20所述的制造显示装置的方法，其特征是该第二结构基板的该自发光区域，包括防止反射结构层，以防止该自发光区域发出反射光。

23.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是所形成的该自发光显示结构，实质上由该第二结构基板向该第一结构基板的方向发光。

24.根据权利要求23所述的制造显示装置的方法，其特征是所提供的该第一结构基板包括防止反射结构层在该自发光区域，以防止该自发光区域发出反射光。

25.根据权利要求23所述的制造显示装置的方法，其特征是形成自发光显示结构的该步骤，包括形成填充层，于由该自发光显示结构上，其高度与该挡墙结构等高。

26.根据权利要求23所述的制造显示装置的方法，其特征是形成反射式显示结构的该步骤，包括预先形成反射电极层，位于该第二结构基板上，用以将入射的环境光反射。

27.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是还包括形成共用的光学功能片，在该自发光区域与该光反射区域。

28.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是形成反射式显示结构的该步骤，包括形成彩色滤光层于其间。

29.根据权利要求15所述的制造显示装置的方法，其特征是所提供的该第一结构基板中，上述这些像素区域的位置被预先设定，以形成多个不同色彩像素而达到色彩显示图像，或是皆是相同色彩像素以灰度值显示图像。

Images