CN1892202A - 表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法。该表面检测装置，包含：与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆；具有分别结合于移送杆两端的发光部和收光部的光传感器，以用于在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面平行的方向收发光线；驱动部，以用于朝着与检测对象的检测表面平行但与光传感器的发光方向不同的方向移送移送杆；位置调节器，以用于调节检测对象的检测表面与光传感器发光路径之间的距离。由此，可以正确地检测出基板上表面或底面的杂质，而且因结构变得简单而可以降低生产成本。

Description

表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法

                          技术领域

本发明涉及一种杂质检测装置及检测方法，尤其涉及为了可以在基板上稳定地涂敷光刻胶而用于检测位于基板上表面或底面的杂质的检测装置及其方法。

                         背景技术

在当前的信息化社会中，显示器件作为视觉信息的传递媒体其重要性比任何时候都受到人们的关注。形成当前主流的阴极射线管(Cathode Ray Tube，又称布朗管)在重量及体积方面存在较大的问题。因此，目前正在不断开发可以克服阴极射线管的这种限制的许多种平板显示器件(Flat Panel Display)。

平板显示器件包含液晶显示面板(LCD：Liquid Crystal Display)、场发射显示器(Field Emission Display)、等离子显示面板(Plasma Display Panel)及电致发光(Electroluminescence)等器件，这些器件中的大部分已经被制成产品而在市场上进行销售。

液晶显示面板可以满足电子产品轻薄短小的趋势，而且最近批量生产能力得到提高，因而正在很多应用领域中迅速替代阴极射线管。

尤其，利用薄膜晶体管(Thin Film Transistor，下面简称“TFT”)驱动液晶单元的液晶显示面板具有画质优秀、耗电低的优势，而且最近随着批量生产技术的有效提高和研究开发的新成果液晶显示面板正迅速朝着大型化和高清晰度的方向发展。

通过这种液晶显示面板显示图像的液晶显示装置是利用电场调节液晶的透光率来显示图像。为此，液晶显示装置包含按矩阵形态排列液晶单元的液晶显示面板和用于驱动该液晶显示面板的驱动电路。

图1为表示一般的液晶显示面板的示意图。

如图1所示，在一般的液晶显示面板1中滤色片阵列基板20与TFT阵列基板30中间夹着液晶层10而贴合。图1中示出的液晶显示面板1为全部有效画面的一部分。

在滤色片阵列基板20中上部玻璃基板22的背面形成滤色片24及共同电极26。上部玻璃基板22的前面贴附偏光板28。滤色片24中布置红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的滤色片，通过透出特定波长区域的光来显示颜色。相邻颜色的滤色片24之间形成没有图示的黑色矩阵(Black Matrix)。黑色矩阵设置在红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的滤色片24之间用于分离红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的滤色片24，并通过吸收从相邻单元入射的光来防止对比度的降低。

TFT阵列基板30中在下部玻璃基板32的前表面上有多条数据线34和栅极线40相互交叉而设置，在其交叉部上形成TFT(38)。并且，在下部玻璃基板32前表面上数据线34与栅极线40之间的单元区域形成像素电极36。

TFT(38)由连接于栅极线40的栅极、连接于数据线34的源极、隔着沟道与源极相对的漏极构成。TFT(38)通过贯通漏极的接触孔连接于像素电极36。这种TFT(38)通过响应由栅极线40传送的栅极信号向像素电极36选择性地供应由数据线34传送的数据信号。TFT(38)通过响应由栅极线40传送的扫描信号而切换数据线34与像素电极36之间的数据传送路径，从而驱动像素电极36。TFT阵列基板30的背面贴附偏光板42。

像素电极36位于由数据线34与栅极线40划分的单元区域，并由透光率较高的透明导电性物质构成。该像素电极36根据经过漏极供应的数据信号与形成在上部玻璃基板22的共同电极26发生电位差。液晶层10响应施加到自身的电场而调节经过TFT阵列基板30入射的光的透光量。当像素电极36与共同电极26之间发生电位差时，位于下部玻璃基板32与上部玻璃基板22之间的液晶层10的液晶根据介电异向性而旋转。据此，从光源经过像素电极36而供给的光将入射到上部玻璃基板22。

贴附于滤色片阵列基板20和TFT阵列基板30上的偏光板28、42只能透过向某一方向偏振的光，当液晶层10的液晶为90度的扭曲向列(TN)模式时它们的偏振方向相互垂直。滤色片阵列基板20和TFT阵列基板30的朝向液晶的表面形成没有图示的配向膜。

为了在滤色片阵列基板20和TFT阵列基板30上形成图案，在形成电极及线物质的上部玻璃基板22及下部玻璃基板32上涂敷光刻胶(PR：photoresist)，然后通过进行利用光掩模向光刻胶选择性地照射紫外线光的曝光工艺和显影曝光的光刻胶的显影工艺形成光刻胶图案。然后，通过利用该光刻胶图案作为掩模的蚀刻工艺蚀刻电极及线物质而形成图案。

图2为表示安装现有的表面检测装置的光刻胶层涂层装置的示意图。

图2所示的光刻胶层涂层装置包含用于放置上部玻璃基板22和下部玻璃基板32的支撑台50、在所述玻璃基板上涂敷光刻胶物质的狭缝喷嘴52、安装在狭缝喷嘴52上用于检测杂质的表面检测装置54。

狭缝喷嘴52离所述玻璃基板具有150μm以下的间距，并在向所述玻璃基板的长度方向移动的过程中在基板的表面上涂敷光刻胶物质而形成光刻胶层56。在这种狭缝喷嘴52移动方向的前端贴附表面检测装置54。

如果在支撑台50或上部玻璃基板22、下部玻璃基板32上存在杂质的状态下涂敷光刻胶层56，则所述杂质不仅会损坏狭缝喷嘴52，而且会损坏所述玻璃基板，导致液晶显示面板上发生缺陷。

为了防止产生这种问题，表面检测装置54安装在狭缝喷嘴52移动方向的前端，从而当狭缝喷嘴52移动时产生激光束60，以检测支撑台50、上部玻璃基板22及下部玻璃基板32上的杂质，如图2所示。

一般的光刻胶层涂层装置如图2所示，从表面检测装置54产生的激光束60利用光接触点扫描上部玻璃基板22及下部玻璃基板32的表面。

但是，如上所述的现有的涂层装置由于从表面检测装置54产生的激光束60的扫描区域非常窄，因而不能检测位于扫描区域之外的杂质，因此不能完全检测支撑台50或上部玻璃基板22、下部玻璃基板32上的杂质。

若要解决所述的问题需要设置多个表面检测装置54，以用于扫描支撑台50或上部玻璃基板22、下部玻璃基板32的整个表面，但设置多个表面检测装置54不仅会提高生产成本，而且还使结构变得非常复杂。

                           发明内容

本发明是为了解决如上所述的问题而提出的，其目的在于提供一种可以通过更为简单的结构正确地检测支撑台或基板上的所有杂质的表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法。

为了实现上述目的依据本发明所提供的表面检测装置包含：具有发光部和收光部的光传感器，以用于在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面平行的方向收发光线；驱动部，以用于沿着与检测对象的检测表面平行但与光传感器的发光方向相交叉的方向相对于检测对象移送光传感器。

并且，光传感器的发光部和收光部设在被检测表面的两侧端外侧，并朝着与移送方向相垂直的方向发光，以使光线横跨所述检测对象的检测表面。

并且，依据本发明所提供的表面检测装置还包含：位置调节器，以用于调节检测对象的检测表面与所述光传感器发光路径之间的高度；与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆，并在其两端结合发光部和收光部。此时，位置调节器构成为升降移送杆的结构，以用于改变检测表面与移送杆之间的间距。并且，所述移送杆和用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴可以形成为一体。

并且，依据本发明所提供的表面检测装置包含：与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆；一端结合于移送杆、另一端朝检测对象的检测表面延长的条带，以用于在被施加外力时发生扰曲；检测单元，以用于检测条带的扰曲状态；驱动部，以用于朝着与检测对象的检测表面平行的方向相对于所述检测对象移送所述移送杆。

并且，条带的另一端具有长度方向与检测对象的检测表面相平行的检测杆，此时检测杆延长而形成为横跨检测对象的检测表面两端的形状。

此时，检测单元可以使用结合于条带的应变仪，也可以使用随着条带的扰曲而接触的接触传感器。

并且，依据本发明所提供的表面检测装置还包含位置调节器，以用于调节检测对象的检测表面与条带另一端之间的距离。并且，所述移送杆和用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴可以形成为一体。

依据本发明所提供的表面检测方法，包含步骤：利用具有发光部及收光部的光传感器在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面相平行的方向进行发光及收光；按照平行于检测对象的检测表面但与光传感器的发光方向相交叉的方向相对于检测对象移送光传感器；当光传感器的收光部不能接收光线时，停止用于向检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴的操作。

并且，依据本发明所提供的表面检测方法还包含在停止所述狭缝喷嘴的操作之后将所述狭缝喷嘴移送到涂敷初始位置或涂敷终止位置的步骤。将所述狭缝喷嘴移送到涂敷终止位置时，提升狭缝喷嘴并移送到前方。

并且，依据本发明所提供的表面检测方法，还可以包含步骤：在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面平行的方向相对于检测对象移送受外力时发生扰曲的条带；检测条带的扰曲状态；当检测到条带的扰曲状态时，停止用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴的操作。

并且，依据本发明所提供的表面检测方法还包含在停止所述狭缝喷嘴的操作之后将所述条带及所述狭缝喷嘴移送到涂敷初始位置或涂敷终止位置的步骤。将所述条带及所述狭缝喷嘴移送到涂敷终止位置时，提升所述条带及所述狭缝喷嘴并移送到前方。

                          附图说明

图1为表示一般的液晶显示面板的示意图；

图2为表示安装现有的表面检测装置的光刻胶层涂层装置的示意图；

图3为依据本发明第一实施例所提供的表面检测装置的示意图；

图4为依据本发明第一实施例所提供的表面检测装置的正视图；

图5为沿着图4的A-A线截取的本发明第一实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图；

图6为依据本发明第二实施例所提供的表面检测装置的示意图；

图7为依据本发明第二实施例所提供的表面检测装置的正视图；

图8为沿着图7的B-B线截取的本发明第二实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图；

图9为当基板上表面有杂质时条带因杂质发生扰曲的本发明第二实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图；

图10为本发明第三实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图；

图11为当基板上表面有杂质时条带因杂质发生扰曲的本发明第三实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图；

图12为表示图3中示出的本发明第一实施例所提供的表面检测装置的变形例的示意图。

主要符号说明：100为表面检测装置，110为移送杆，120为移动支架，130为光传感器，140为条带，150为检测杆，160为应变仪，170为接触传感器，200为支撑台，300为基板，400为狭缝喷嘴。

                     具体实施方式

以下，参照附图详细说明依据本发明所提供的表面检测装置的实施例。

图3为依据本发明第一实施例所提供的表面检测装置的示意图，图4为依据本发明第一实施例所提供的表面检测装置的正视图，图5为沿着图4的A-A线截取的本发明第一实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图。

图3及图4中示出的本发明第一实施例所提供的表面检测装置100位于狭缝喷嘴400移动方向的前方，该狭缝喷嘴400用于向安装在支撑台200的基板300上面涂敷光刻胶层410。这种表面检测装置100包含：比基板300宽度长并且与基板300的上表面向上隔离一定间隔的移送杆110；具有分别结合于移送杆110两端的发光部132和收光部134的光传感器130，以用于在与基板300的上表面相隔预定间距的上方按照与基板300的上表面平行的方向收发光线；具有连接于移送杆110两端的移动支架120的驱动部(未图示)，以用于向着与基板300的上表面平行但与光传感器130的发光方向不同的方向移送移送杆110。

并且，在移送杆110和移动支架120的结合部分设有用于调节移送杆110高度的位置调节器122，因而可以调节基板300上表面与光传感器130发光路径之间的间距。因此，用户通过调节基板300上表面与光传感器130发光路径之间的间距，从而可以将检测装置设定为只检测超过一定大小的杂质。即，如果杂质非常小也会给基板300带来较大影响，则通过缩短基板300上表面与光传感器130发光路径之间的间距而使杂质发光装置还可以检测微细的杂质；如果比基准值小的杂质不影响基板300，则通过将基板300上表面与光传感器130发光路径之间的间距设定为基准值，使杂质发光装置只检测基准值以上的杂质。

如图4及图5所示，当基板300的上表面或底面没有杂质时，从发光部132入射的光正常地传递到收光部134。但是，当基板300的上表面有杂质时，从发光部132传递的光被杂质遮挡，从而不能传递到收光部134。当基板300的底面有杂质时，由于基板300以与杂质相同的高度突出，因而从发光部132传递的光被基板300遮挡而不能传递到收光部134。

如上所述，当起动光传感器130使发光部132与收光部134之间进行发光与收光，则朝着与光传感器130的发光方向相垂直的方向移送移送杆110，同时扫描整个基板300。

如果光传感器130正常进行发光与收光，则移送杆110继续被移送，而安装在移送杆110后面的狭缝喷嘴向基板300的上表面涂敷光刻胶层410。此时，如果光传感器130的收光部134不能正常进行收光，则表面检测装置100判断基板300上有杂质，因而驱动部停止移送杆110的移送动作，狭缝喷嘴也停止涂层工作。当停止移送杆110的移送及狭缝喷嘴的涂层动作时，将狭缝喷嘴移送到前方或后方。将狭缝喷嘴移送到前方时，为了防止杂质损坏所述狭缝喷嘴的端部而将所述狭缝喷嘴提升之后移送到前方。然后，从支撑台200取回未完成涂层工艺的基板300而进行洗涤过程。经过洗涤过程而恢复到初始状态的基板300再次进行涂层工艺。当基板底面有杂质时，如果在没有提升狭缝喷嘴的状态下朝前方移送狭缝喷嘴，则狭缝喷嘴和基板接触而可能在基板上产生划痕，而且还可能使高价的狭缝喷嘴端部因杂质而损坏。而当基板上表面有杂质时，如果在没有提升狭缝喷嘴的状态下朝前方移送狭缝喷嘴，则狭缝喷嘴使杂质向前方移动而可能在基板上产生划痕，而且狭缝喷嘴自身也可能因杂质而受损。由于这种划痕可能导致基板不能再次使用，而且狭缝喷嘴价格较高，因而为了保护基板及狭缝喷嘴需要经过将狭缝喷嘴提升之后移送到前方的作业。

如果移送杆110通过整个基板300上表面时光传感器130的收光部134都能正常进行收光，则认为基板300上表面或底面没有杂质，因而狭缝喷嘴一次完成基板300上表面的涂层工作。

如上所述，由于依据本发明所提供的表面检测装置100利用一个光传感器130也能检测基板300的整个上表面和底面，因而不仅可以节省生产成本，还可以使结构变得简单。此外，依据本发明所提供的表面检测装置100不仅可以检测出基板300上表面及底面的杂质，而且还可以检测表面形成凸起的不合格基板300。

本实施例中为了能够在移送一次移送杆110时扫描整个基板300，使发光部132与收光部134的间距大于基板300宽度，但发光部132与收光部134的间距可以根据需要进行扫描的范围大小来进行调节。

此外，本实施例中移送杆110的移送方向垂直于光传感器130的发光路径，但是移送杆110的移送方向还可以设定为按一定角度倾斜于光传感器130的发光路径。

图6为依据本发明第二实施例所提供的表面检测装置的示意图，图7为依据本发明第二实施例所提供的表面检测装置的正视图。

如图6及图7所示，本发明的第二实施例所提供的表面检测装置100利用上端结合于移送杆110、下端朝基板300上表面延长的条带140来替代第一实施例的光传感器130，以用于检测是否存在杂质。

移送杆110上结合多个条带140，各条带140的下端连接于检测杆150，该检测杆150形状较长而横跨基板300的上表面，并与基板300的上表面间隔预定距离。由于检测杆150形状较长而横跨基板300的上表面，因而不管杂质在基板300的任何位置都能与杂质发生干涉，而条带140由于检测杆150与杂质之间发生干涉将被扰曲。因此，依据本发明所提供的表面检测装置可以通过移送一次移送杆110来测定整个基板300上是否存在杂质。

此时，检测杆150的长度可以根据需要测定是否有杂质的范围而进行增减，而且如果条带140宽度被制作为可以横跨基板300时，可以省略检测杆150。

并且，可以通过操作设在移送杆110与移动支架120之间的位置调节器122来改变移送杆110的高度，从而调节基板300与检测杆150之间的间距。由于调节基板300与检测杆150间距的目的和效果与第一实施例所述的调节基板300与传感器发光路径之间的间距的目的和效果相同，因而在此省略其说明。

图8为沿着图7的B-B线截取的本发明第二实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图，图9为当基板上表面有杂质时条带因杂质发生扰曲的本发明第二实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图。

由于条带140受很小的外力也会被扰曲，因而在贴附于基板300上表面的杂质500与检测杆150相干涉的状态下如果继续移送杆110的移送动作，条带140将被扰曲，如图9所示。

此时，条带140被扰曲的程度通过贴附于条带140上的应变仪160来测定，当条带140被扰曲的程度超过一定基准时驱动部停止移送杆110的移送动作，狭缝喷嘴的涂层工艺也被中断。当停止移送杆110的移送动作及狭缝喷嘴的涂层动作时，将移送杆110及狭缝喷嘴移送到前方或后方。其后的过程与本发明的第一实施例所描述的过程相同。

图10为本发明第三实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图，图11为当基板上表面有杂质时条带因杂质发生扰曲的本发明第三实施例所提供的表面检测装置的部分剖视图。

如图所示，本发明所提供的表面检测装置100可以利用通过条带140的扰曲而接触的接触传感器170来构成用于检测条带140扰曲程度的检测单元。

接触传感器170的端子分别设在移送杆110与条带140相互对应的位置，当条带140由贴附于基板300上表面的杂质500扰曲时相互接触，如图11所示。如上所述，当接触传感器170的两个端子相互接触时，表面检测装置100检测出基板300上有杂质而停止移送杆110的移送动作，狭缝喷嘴也停止涂层工作。当停止移送杆110的移送动作及狭缝喷嘴的涂层动作时，将移送杆110及狭缝喷嘴移送到前方或后方。其后的过程与本发明的第一实施例所描述的过程相同。

图3至图11中示出了狭缝喷嘴400和检测装置100分别由不同的驱动单元驱动的实施例，但如果参照作为图3中示出的本发明第一实施例所提供的表面检测装置变形例的图12，可以获知狭缝喷嘴400和检测装置100可以由连接杆600形成为一体。因此，与图3至图11中示出的实施例相比可以由单个驱动单元控制狭缝喷嘴400和检测装置100，因而可以利用较简单的结构检测杂质。并且，利用连接杆600实现的单一的结构还可以适用于图8至图11中示出的第二实施例及第三实施例。

综上所述，虽然利用最佳实施例详细描述了本发明，但本发明的保护范围并非限定于特定实施例，而是要根据权利要求来进行解释。

尤其，虽然本实施例中表面检测装置主要用于在基板的涂层工艺之前检测基板上是否有杂质，但本发明所提供的表面检测装置还可以用于检测基板以外的各种产品上是否有杂质，或者测定产品的粗糙程度。

此外，在本技术领域中具有通常知识的工作者应该知道，在不脱离本发明保护范围的情况下可以进行各种修改和变更。

依据本发明所提供的表面检测装置不仅可以正确地检测出基板上表面或底面的杂质，还可以检测出表面上形成凸起的不合格基板，而且由于内部结构变得简单而可以降低生产成本。

并且，依据本发明所提供的表面检测装置通过与用于向检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴形成为一体，因而可以更简单地检测杂质。

并且，依据本发明所提供的表面检测方法具有可以利用一个光传感器来检测整个基板上是否有杂质的优点。

Claims (19)

1、一种表面检测装置，其特征在于包含：

具有发光部和收光部的光传感器，以用于在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与所述检测对象的检测表面平行的方向收发光线；

驱动部，以用于沿着与所述检测对象的检测表面平行但与所述光传感器的发光方向相交叉的方向相对于所述检测对象移送所述光传感器。

2、根据权利要求1所述的表面检测装置，其特征在于所述光传感器的所述发光部和收光部设在所述检测对象的检测表面的两侧端外侧。

3、根据权利要求2所述的表面检测装置，其特征在于所述光传感器朝着与移送方向相垂直的方向发光，以使光线横跨所述检测对象的检测表面。

4、根据权利要求1至3中的任意一项所述的表面检测装置，其特征在于还包含位置调节器，以用于调节所述检测对象的检测表面与所述光传感器发光路径之间的高度。

5、根据权利要求4所述的表面检测装置，其特征在于还包含与所述检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆，并在其两端结合发光部和收光部，所述位置调节器构成为升降所述移送杆的结构，以用于改变所述检测表面与所述移送杆之间的间距。

6、根据权利要求5所述的表面检测装置，其特征在于所述移送杆和用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴形成为一体。

7、一种表面检测装置，其特征在于包含：

与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆；

一端结合于所述移送杆、另一端朝所述检测对象的检测表面延长的条带，以用于在被施加外力时发生扰曲；

检测单元，以用于检测所述条带的扰曲状态；

驱动部，以用于朝着与所述检测对象的检测表面平行的方向相对于所述检测对象移送所述移送杆。

8、根据权利要求7所述的表面检测装置，其特征在于所述条带的另一端具有长度方向与检测对象的检测表面相平行的检测杆。

9、根据权利要求8所述的表面检测装置，其特征在于所述检测杆延长而形成为横跨所述检测对象的检测表面两端的形状。

10、根据权利要求7至9中的任意一项所述的表面检测装置，其特征在于所述检测单元为结合于所述条带的应变仪。

11、根据权利要求7至9中的任意一项所述的表面检测装置，其特征在于所述检测单元为随着所述条带的扰曲而接触的接触传感器。

12、根据权利要求7至9中的任意一项所述的表面检测装置，其特征在于还包含位置调节器，以用于调节所述检测对象的检测表面与所述条带另一端之间的距离。

13、根据权利要求12所述的表面检测装置，其特征在于所述移送杆和用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴形成为一体。

14、一种表面检测方法，其特征在于包含步骤：

利用具有发光部及收光部的光传感器在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检测表面相平行的方向进行发光及收光；

按照平行于所述检测对象的检测表面但与所述光传感器的发光方向相交叉的方向相对于所述检测对象移送所述光传感器；

当所述光传感器的收光部不能接收光线时，停止用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴的操作。

15、根据权利要求14所述的表面检测方法，其特征在于还包含在停止所述狭缝喷嘴的操作之后将所述狭缝喷嘴移送到涂敷初始位置或涂敷终止位置的步骤。

16、根据权利要求15所述的表面检测方法，其特征在于将所述狭缝喷嘴移送到涂敷终止位置时，提升所述狭缝喷嘴并移送到前方。

17、一种表面检测方法，其特征在于包含步骤：

在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与所述检测对象的检测表面平行的方向相对于检测对象移送受外力时发生扰曲的条带；

检测所述条带的扰曲状态；

当检测到所述条带的扰曲状态时，停止用于向所述检测对象涂敷涂层液的狭缝喷嘴的操作。

18、根据权利要求17所述的表面检测方法，其特征在于还包含在停止所述狭缝喷嘴的操作之后将所述条带及所述狭缝喷嘴移送到涂敷初始位置或涂敷终止位置的步骤。

19、根据权利要求18所述的表面检测方法，其特征在于将所述条带及所述狭缝喷嘴移送到涂敷终止位置时，提升所述条带及所述狭缝喷嘴并移送到前方。

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