CN1700044A - 彩色滤光片基板的制法、电光学装置及其制法、电子仪器 - Google Patents

Abstract

提供一种可以形成均匀膜厚的像素图案的电光学装置的制造方法。本发明的电光学装置的制造方法，是具有起着电光学元件作用的功能区域(2a)，和在该功能区域的周边形成的非功能区域(2b)的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括用液滴喷出法在基板上喷出溶剂中溶解乃至分散了构成电光学元件的功能材料的液状体的喷出工序，在该喷出工序中向所述非功能区域(2b)喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向所述功能区域(2a)喷出的与单位面积相当的溶剂量多。

Description

彩色滤光片基板的制法、电光学装置及其制法、电子仪器

技术领域

本发明涉及彩色滤光片基板的制造方法、电光学装置的制造方法、电光学装置及电子仪器。

背景技术

近年来开发了这样一种电光学装置，即采用将有机荧光材料等功能材料油墨化，采用在基材上喷出该油墨(组合物)的液滴喷出法，对功能材料进行图案化的方法，将由功能材料构成的功能层夹持在一对向电极之间构成的电光学装置，特别是利用有机发光材料作为功能材料的有机EL(电致发光)装置。

作为上述的功能材料的图案化法，采用的方法是：在基材上形成了由ITO构成的像素电极的周围形成隔壁部，同时对像素电极以及与此像素电极相邻的上述隔壁的一部分进行亲液性处理，对隔壁部的其余部分进行疏液性处理，然后通过在像素电极上喷出含有功能层构成材料的油墨后干燥，在像素电极上形成功能层。具体讲已知利用具有将多个喷嘴沿着副扫描方向排列而成的喷嘴列的液滴喷头，使此喷头相对于基板一边沿着主扫描方向进行扫描，一边从上述喷嘴喷出油墨，在像素电极上形成功能层的方法。这样的方法，由于能在像素区域配置微米级的液滴，所以若考虑到材料的利用效率，则与旋涂法等方法相比更加有效。

然而，在由像素区域构成的显示区域的周边部，从基体中蒸发的溶剂分子的分压往往比该显示区域的中央部减少。一旦产生这种现象，在周边部中溶剂的蒸发速度就会极度减慢，其结果就会使所制造的电光学装置中功能层的厚度产生不均。产生了这种膜厚不均的电光学装置，其电光学性能差，用其作为显示装置的情况下也往往会产生显示不均。于是为了解决此问题，公开了例如专利文献1之类的技术。

专利文献1：特开2002-252083号公报

上述专利文献1公开的技术，在周边部的更外侧形成无助于显示的虚设区域，在该虚设区域上也涂布与功能层相同的油墨，以此来防止乃至抑制功能层在显示区域的中央部和周边部产生厚度不均。然而，形成虚设区域并且仅与显示区域同样涂布油墨的情况下，往往不能充分消除膜厚不均。也就是说，即使在虚设区域涂布油墨，在显示区域的周边部往往会使溶剂的干燥比中央部加快，这种做法也往往不能充分避免膜厚不均的产生。

发明内容

本发明正是为解决上述问题而提出的，目的在于提供一种能够在基板面内形成均匀膜厚的着色图案的彩色滤光片基板的制造方法，和能够形成均匀膜厚的像素图案的电光学装置的制造方法。

而且本发明的目的还在于提供一种用这种制造方法制造的电光学装置以及备有其的电子仪器。

本发明为了解决上述课题，本发明的彩色滤光片基板的制造方法，是具有包含多个着色层、选择性透过所定颜色光并起彩色滤光片作用的功能区域，和该功能区域以外的非功能区域的彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，其中包括用液滴喷出法在基板上喷出溶剂中溶解乃至分散了构成着色层的着色材料的液状体的喷出工序，该喷出工序中事先向所述功能区域喷出所述液状体，向所述非功能区域喷出所述液状体或所述溶剂，向所述非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向所述功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多。

根据这种彩色滤光片基板的制造方法，由于向非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多，所以喷出后进行溶剂干燥的情况下，功能区域中蒸发溶剂分子的分压，与非功能区域中蒸发溶剂分子的分压相比不会变得过大，能够使非功能区域中溶剂蒸发速度与功能区域中溶剂蒸发速度接近。因此，功能区域中周边部内溶剂的蒸发速度，变得与中央部内的蒸发速度接近。于是在这种情况下，能够提供一种功能区域的全区域内，无论中央部还是周边部，颜色不均少、可靠性优良的彩色滤光片基板。

其次，为了解决上述课题，本发明的电光学装置的制造方法，是每个像素上均具有起电光学元件作用的功能区域，和在该功能区域的周边形成的非功能区域的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括用液滴喷出法在基板上喷出在溶剂中溶解乃至分散了构成所述电光学元件的功能材料的液状体的喷出工序，该喷出工序中，事先向所述功能区域喷出所述液状体，向所述非功能区域喷出所述液状体或所述溶剂，使向所述非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向所述功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多。

根据这种电光学的制造方法，由于向非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多，所以喷出后进行溶剂干燥的情况下，功能区域中蒸发溶剂分子的分压，与非功能区域中蒸发溶剂分子的分压相比不会变得过大，能够使非功能区域中溶剂蒸发速度与功能区域中溶剂蒸发速度接近。因此，功能区域中周边部内溶剂的蒸发速度，将会变得与中央部内的蒸发速度接近，能在该周边部和中央部形成由构成更均匀膜厚的电光学元件的层(电光学元件层)构成的像素图案。于是在这种情况下，能够提供一种在功能区域的全区域内，无论中央部还是周边部，元件特性的波动小、可靠性优良的电光学装置。

上述电光学装置的制造方法，可以包括在上述喷出工序之前，对于上述基板上的上功能区域和上述非功能区域，分别用相同图案形成喷出液状体和/或溶剂的液体容纳区域(即在各区域内以等间隔形成相同形状和相同面积的)的工序，这种情况下在上述喷出工序中，优选使对上述非功能区域的液体容纳区域喷出的溶剂量，比对上述功能区域的液体容纳区域喷出的溶剂量多。这种情况下，非功能区域中与单位面积相当的溶剂喷出量，能够比功能区域中与单位面积相当的溶剂喷出量更多，因而能够更好地实现本发明效果。

另一方面，其中可以包括在上述喷出工序之前，对于上述基板上的上述功能区域和上述非功能区域，形成喷出液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，这种情况下，在该液体容纳区域的形成工序中，优选使上述非功能区域中液体容纳区域的面积，形成得比上述非功能区域中液体容纳区域的面积大。当这样将非功能区域中的液体容纳区域面积加大的情况下，能使在该非功能区域被喷出的与单位面积相当的溶剂量，比功能区域中的更多。

或者其中可以包括在所述喷出工序之前，对于上述基板上的上述功能区域和上述非功能区域，形成喷出液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，进而使上述功能区域俯视呈长方形状，在该功能区域的长边方向和短边方向上使上述非功能区域中的上述液体容纳区域的密度不同，使对非功能区域中液体容纳区域密度大的部分喷出的与单位面积相当的溶剂量，比对上述非功能区域中液体容纳区域密度小的部分喷出的与单位面积相当的溶剂量多。由于液体容纳区域的密度若大则相邻的液体容纳区域间容易产生干扰，所以优选使对该密度大的部分喷出的溶剂量增大。

而且当上述功能区域俯视呈长方形状的情况下，就沿着其功能区域短边方向形成的第一非功能区域，和沿着功能区域长边方向形成的第二非功能区域而言，在上述喷出工序中，能使对上述第一非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比对上述第二非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量增多。也就是说，在第一非功能区域和第二非功能区域中，在远离功能区域中心部的第一非功能区域中溶剂量相对增多的情况下，在该功能区域的中心部内的溶剂蒸发速度，将变得与非功能区域中的溶剂蒸发速度更加接近，所以在使以俯视呈长方形状形成的功能区域中的电光学元件层的膜厚均匀化的角度来看是优选的。

此外，其中包括在上述喷出工序之前，对于上述基板上的上述功能区域和上述非功能区域，形成被喷出液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，这种情况下，在该液体容纳区域的形成工序中，优选使所述非功能区域的液体容纳区域沿着上述功能区域形成为带状。若这样沿着功能区域使非功能区域的液体容纳区域形成为带状，向该液体容纳区域喷出溶剂，则能以高效率增加非功能区域中的溶剂量(与单位面积相当的溶剂量)。

其次，本发明的电光学装置，其特征在于，是采用上述制造方法制造的。这样的电光学装置，电光学元件层的膜厚由于由均匀的像素图案构成，所以可靠性增高，特别是将其用作显示装置的情况下，将形成一种显示不均少的视觉性优良的显示装置。而且本发明的电子仪器，由于具备上述的电光学装置，所以能够制成以其作为显示部的仪器。这种情况下，该电子仪器将形成一种具备可靠性高、视觉性能优良的显示部的仪器。

另外，作为本发明的电光学装置，可以适当举出有机电致发光装置(以下也可以将电致发光叫作EL)。在这种有机EL装置中，将有助于显示的区域叫作功能区域，将无助于显示的区域叫作非功能区域。而且作为该有机EL装置的制造方法，可以采用其中包括：例如在基板上的功能区域和非功能区域形成液体容纳区域用的隔壁部形成工序，和向被该隔壁部包围的液体容纳区域喷出由有机EL元件(电光学元件)形成用组合物组成的液状体的工序的。

另外，作为有机EL元件形成用组合物，例如可以采用发光层乃至空穴注入/输送层等功能层形成材料，详细讲采用在所定溶剂中分散或溶解了功能层形成用有机材料的。而且液状体的喷出，例如可以采用备有液滴喷头的液滴喷出装置进行。

附图说明

图1是本发明的第一种实施方式的显示装置中配线结构的平面示意图。

图2是图1的显示装置的平面示意图和剖面示意图。

图3是图1的显示装置要部的剖面示意图。

图4是说明图1的显示装置的制造方法的工序图。

图5是说明图4后续的制造方法的工序图。

图6是表示等离子体处理装置一例的平面示意图。

图7是表示等离子体处理装置中第一等离子体处理室内部结构的示意图。

图8是说明图5后续的制造方法的工序图。

图9是说明图8后续的制造方法的工序图。

图10是表示等离子体处理装置的另一实例的平面示意图。

图11是表示液滴喷出用喷头一例的平面示意图。

图12是表示液滴喷出装置一例的平面图。

图13是表示液滴喷出用喷头一例的立体图。

图14是表示图13所示液滴喷头内部结构的立体图和剖面图。

图15是表示液滴喷头相对于基体配置状态的平面图

图16是表示图15要部的放大图。

图17是表示经液滴喷头一次扫描形成空穴注入/输送层时工序的工序图。

图18是说明图9后续的制造方法的工序图。

图19是说明图18后续的制造方法的工序图。

图20是说明图19后续的制造方法的工序图。

图21是说明图20后续的制造方法的工序图。

图22是说明图21后续的制造方法的工序图。

图23是说明图22后续的制造方法的工序图。

图24是说明图23后续的制造方法的工序图。

图25是表示就液滴喷出方式所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图26是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图27是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图28是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图29是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图30是表示作为本发明第二种实施方式的电子仪器的立体图。

图31是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图32是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图33是表示就液滴喷出方式的变形例所示的平面图和剖面图与蒸汽压值的曲线图。

图中：

1…显示装置(有机EL装置、电光学装置)，2a...显示区域(功能区域)，2b…虚设区域(非功能区域)，2…基体(基板)

具体实施方式

(第一种实施方式)

以下说明作为本发明的电光学装置的第一种实施方式的有机EL显示装置，以及有机EL显示装置的制造方法。

图1是表示本实施方式中有机EL显示装置配线结构的说明图。图2是本实施方式中有机EL显示装置的俯视示意图(a)和剖面示意图(b)。

如图1所示，本实施方式的有机EL显示装置1，具有分别布有多个扫描线101、在与扫描线101交叉方向延伸的多个信号线102、和与信号线101并列延伸的多个电源线103的构成，同时在扫描101与信号线102的各交点附近设有像素区域A。

在信号线102上连接有具备移位寄存器、电位移位器、视频线和模拟开关的数据侧驱动电路104。而且在扫描线101上连接有具备移位寄存器和电位移位器的扫描侧驱动电路105。

此外，在各像素区域A上，设有借助于扫描线101向栅电极供给扫描信号的开关用薄膜晶体管112；对借助于此开关用薄膜晶体管112从信号线102供给的像素信号进行保持的保持电容cap；将被该保持电容cap保持的像素信号供给栅电极的驱动用薄膜晶体管113；借助于此驱动用薄膜晶体管113当与电源线103电连接时从该电源线103流入驱动电流的像素电极(电极)111；和被夹持在此像素电极111与阴极(对向电极(电极))12之间的功能层110。而且发光元件，由电极111、对向电极12和功能层110而构成的。

按照所涉及的构成，一旦驱动扫描线101，使开关用薄膜晶体管112处于开启状态下，此时信号线102的电位将被保持电容cap所保持，根据保持电容cap的状态，决定驱动用薄膜晶体管113的开启·关闭状态。而且，电流通过驱动用薄膜晶体管113的通道从电源线103流到像素电极111，电流进而通过功能层110流到阴极12。功能层110根据流过其的电流量而发光。

进而如图2(a)和图2(b)所示，本实施方式的显示装置1，备有玻璃等透明的基体2、以矩阵状配置的发光元件和密封基板604。在基体2上形成的发光元件，由像素电极111、功能层110和阴极12而形成的。

基体2例如是剥离等透明基板，被区分为位于基体2中央的显示区域2a，和位于基体2的周边、被配置在显示区域2a的外侧的非显示区域2b。

显示区域2a是由以矩阵状排列的发光元件形成的区域，也叫作有效显示区域或功能区域。而且非显示区域2b与显示区域2a相邻形成以无助于显示的虚设区域(非功能区域)形式构成。

而且如图2(b)所示，在基体2的厚度方向上，在发光元件及隔壁部构成的发光部分11与基体2之间备有电路元件部14，在此电路元件部14上备有上述的扫描线、信号线、保持电容、开关用薄膜晶体管和驱动用薄膜晶体管113等。

而且阴极12，其一端与在基体2上形成的阴极用配线(未图示)连接着，此配线的一端12a与柔性基板5上的配线5a相连接的。而且配线5a，与柔性基板5上具备的驱动IC6(驱动电路)相连接的。

如图2(a)和图2(b)所示，在电路元件14的非显示区域2b上布有上述电源线103(103R、103G和103B)。

而且在图2(a)所示的显示区域2a的图示的两横侧，配置有上述的扫描驱动电路105、105，这种扫描驱动电路105、105被设置在虚设区域2b下侧的电路元件14之内。在电路元件14内还设有与扫描侧驱动电路105、105连接的驱动电路用控制信号配线105a和驱动电路用电源配线105b。

此外，在图2(a)所示的显示区域2a的图示的上侧配置有检查电路106。通过这种检查电路106，能够对制造过程中和出厂时显示装置的品质和缺陷进行检查。

而且如图2(b)所示，在发光元件11上备有密封部3。这种密封部3由在基体2上涂布的密封树脂603和罐密封基板604构成。密封树脂603由热固性树脂或紫外线固化性树脂构成，特别优选由作为一种热固性树脂的环氧树脂而成。

这种密封树脂603，在基体2的周围涂布成环状，例如是用微分配器等涂布的。这种密封树脂603，由于是将基体2与罐密封基板604接合的，所以能够防止水或氧从基体2与罐密封基板604之间进行罐密封基板604的内部，进而能防止在阴极12或发光元件11内形成的发光层的氧化。

罐密封基板604是由玻璃或金属构成的，借助于密封树脂603与基体2接合的，在其内部设置有容纳显示元件10的凹部604a。而且在凹部604a内装有吸收水、氧等的吸气剂605，因而能够吸收侵入罐密封基板604内部的水分或氧。其中，也可以省略这种吸气剂605。

接着图3表示放大了显示装置中显示区域的剖面结构的图。此图3中图示出三个像素区域A。这种显示装置1由在基体2上依次层叠形成了TFT等电路等的电路元件14，和形成了功能层110的发光元件部11构成。

在显示装置1中，从功能层110向基体侧发出的光，透过电路元件14和基体2，朝着基体2的下侧(观察者侧)出射，同时从功能层110向基体2的反侧发出的光被阴极12反射后，透过电路元件部14和基体2，朝着基体2的下侧(观察者侧)出射。

另外，通过采用透明材料作为阴极12，能使从阴极侧发出的光出射。可以采用ITO、Pt、Ir、Ni或Pd作为透明材料。膜厚优选75纳米，更优选比此膜厚更薄。

在电路元件部14上，形成由基体2上形成有由硅氧化膜构成的基底保护膜2c，在此基底保护膜2c上形成有由多晶硅组成的岛状半导体膜141。而且，通过高浓度P离子注入法在半导体膜141上形成有源区141a和漏区141b，未导入P的部分成为通道区域141c。此外在电路元件部14上形成覆盖基底保护膜2c和半导体膜141的透明的栅绝缘膜142，在栅绝缘膜142上形成由Al、Mo、Ta、Ti、W等组成的栅电极143(扫描线101)，在栅电极143和栅绝缘膜142上形成有透明的第一层间绝缘膜144a和第二层间绝缘膜144b。栅电极143被设置在与半导体膜141的通道区域141c对应的位置上。

而且形成有将第一、第二层间绝缘膜144a、144b贯通，分别与半导体膜141的源区、漏区141a、141b连接的接触孔145、146。而且在第二层叠绝缘膜144b上形成由ITO等组成的透明的、被图案化成所定形状的像素电极111，一方的接触孔145连接在此像素电极111。而且另一方的接触孔146与电源线103连接的。这样可以在电路元件部14上形成有与各像素电极111连接的驱动用薄膜晶体管113。而且，在电路元件部14上也可以形成有上述保持电容cap和开关用薄膜晶体管112，但是在图3中却省略了对其的图示。

进而如图3所示，发光元件部11，以分别在多个像素电极111…上层叠的功能层110、在各像素电极111及功能层110之间具备区分各功能层110的隔壁部122、和在功能层110上形成的阴极12作为主体构成。由这些像素电极111(第一电极)、功能层110及阴极12(对向电极(电极))构成发光元件。其中像素电极111，例如由ITO形成，被图案化后形成俯视大体呈矩形。这种像素电极111的厚度，优选为50～200纳米范围内，特别优选为150纳米左右。各像素电极111…之间备有隔壁部112。

隔壁部112如图3所示，由位于基体2侧的无机物隔壁层(第一隔壁层)112a，和位置远离基体2的有机物隔壁层(第二隔壁层)112b层叠而构成。

无机物隔壁层、有机物隔壁层(112a、112b)，形成得处于像素电极111的周边部上。俯视观察时，像素电极111的周围与无机物隔壁层112a将变成平面上重叠配置的结构。而且有机物隔壁层112b也是同样，与像素电极111的一部分配置得平面上重叠。而且无机物隔壁层112a，与有机物隔壁层112b相比，形成得更靠近像素电极111的中央侧。这样，通过使无机物隔壁层112a的各第一层叠部112e在像素电极111的内侧形成，可以设置有与像素电极111的形成位置对应的下部开口部112c。

而且在有机物隔壁层112b上形成有上部开口部112d。这种上部开口部112d与像素电极111的形成位置和下部开口部112c对应设置的。上部开口部112d，如图3所示，形成得比下部开口部112c更宽但比像素电极111更窄。而且上部开口部112d的上部位置，有时也可以形成得与像素电极111的端部处于同一位置上。这种情况下，如图3所示，有机物隔壁层112b的上部开口部112d的剖面将会变成倾斜形状。

而且在隔壁部122上，通过将下部开口部112c与上部开口部112d连通，可以形成着将无机物隔壁层112a与有机物隔壁层112b贯通的开口部112g。

无机物隔壁层112a，例如优选由SiO₂、TiO₂等无机材料构成。这种无机物隔壁层112a的膜厚，优选为50～200纳米范围内，特别优选为150纳米。膜厚低于50纳米时，无机物隔壁层112a将变得比后述的空穴注入/输送层更薄，往往不能确保空穴注入/输送层的平坦性。而且膜厚一旦超过200纳米，就会使由下部开口部112c引起的阶差增大，不能确保在空穴注入/输送层上层叠的后述的发光层的平坦性，因而不太好。

此外，有机物隔壁层112b可以用丙烯树脂、聚酰亚胺树脂等具有耐热性、耐溶剂性的材料形成，这种有机物隔壁层112b的厚度，优选为0.1～3.5微米范围内，特别优选2微米左右。厚度不足0.1微米的情况下，有机物隔壁层112b的厚度将比后述的空穴注入/输送层和发光层的总厚度薄，由于有发光层从上部开口部112D溢出之虞而不优选。而且厚度超过3.5微米，由上部开口部112d引起的阶差将会增大，由于往往不能确保在有机物隔壁层112b上形成的阴极12的分步覆盖作用，因而不优选。而且若将有机物隔壁层112b的厚度设定在2微米以上，则从能够提高与驱动用薄膜晶体管113之间的绝缘性的观点来看更优选。

而且在隔壁部122上形成有显示亲液性的区域和显示疏液性的区域。显示亲液性的区域，是无机物隔壁层112a的第一层叠部112e和像素电极111的电极面111a，这些区域通过以氧作处理气体的等离子体处理，将表面处理成亲液性。而且显示疏液性的区域，是上部开口部112d的壁面和有机物隔壁层112b的上面112f，这些区域通过以四氟代甲烷、四氟甲烷或四氟化碳作为处理气体的等离子体处理，将表面处理(疏液性处理)成疏液性。其中有机物隔壁层也可以用含有含氟聚合物的材料形成。

接着如图3所示，功能层110由在像素电极111上层叠的空穴注入/输送层110a，和与空穴注入/输送层110a相邻形成的发光层110b构成。其中还可以形成与发光层110b相邻并具有电子注入输送层功能的其他功能层。空穴注入/输送层110a，具有将空穴注入发光层110b的功能，同时具有在空穴注入/输送层110a内部输送空穴的功能。通过将这种空穴注入/输送层110a设置在像素电极111与发光层110b之间，发光层110b的发光效率和寿命等元件特性将会提高。而且在发光层110b中，当从空穴注入/输送层110a注入的空穴与从阴极12注入的电子在发光层中再结合时，可以发光。

空穴注入/输送层110a，由位于下部开口部112c内并在像素电极面111a上形成的平坦部110a1，和位于上部开口部112d内并在无机物隔壁层的第一层叠部112e上形成的周边部110a2构成。而且空穴注入/输送层110a，因其结构而处于像素电极111上，而且仅在无机物隔壁层110a之间(下部开口部110c)形成(也有仅在上述记载的平坦部形成的情况)的。这种平坦部110a1，其厚度形成得一定，例如形成为50～70纳米范围内。

形成周边部110a2的情况下，周边部110a2位于第一层叠部112e上，同时与上部开口部112d的壁面，即密接在有机物隔壁层112b上。而且周边部110a2的厚度，靠近电极面111a的一侧薄，并沿着远离电极面111a的方向增大，在靠近下部开口部112d的壁面处变得最厚。周边部110a2显示上述那

样形状的理由是因为，空穴注入/输送层110a是将含有空穴注入/输送层形成材料和极性溶剂的第一组合物向开口部112内喷出，除去溶剂后形成的，极性溶剂的挥发主要在无机物隔壁层的第一层叠部112e上产生，空穴注入/输送层形成材料在此第一层叠部112e上集中浓缩和析出的缘故。

而且发光层110b，形成在遍及空穴注入/输送层110a的平坦部110a1及周边部110a2上，平坦部110a1上的厚度被设定为50～80纳米范围内。发光层110b，具有红色(R)发光的红色发光层110b1、绿色(G)发光的绿色发光层110b2、和蓝色(B)发光的蓝色发光层110b3等三种，各发光层110b1～110b3是均以条状配置的。

如上所述，空穴注入/输送层110a的周边部110a2，由于密接在上部开口部112d的壁面(有机物隔壁层112b)上，所以发光层110b与有机物隔壁层112d不直接接触。因此，周边部110a2能够阻止有机物隔壁层112b中以杂质形式含有的水向发光层110b一侧移动，因而能够防止水引起发光层110b的氧化。而且，由于在无机物隔壁层的第一层叠部112e上形成厚度不均的周边部110a2，所以周边部110a2将因第一层叠部112e而形成与像素电极111绝缘的状态，不能从周边部110a2向发光层110b注入空穴。由此，来自像素电极111的电流仅仅流过平坦部112a1，能够将空穴均匀地从平坦部112a1输送到发光层110b，仅使发光层110b的中央部发光，同时能使发光层110b内的发光量一定。而且，无机物隔壁层112a与有机物隔壁层112b相比，由于进一步向像素电极111的中央一侧延伸，所以这种无机物隔壁层112a能够对像素电极111与平坦部112a1之间的接合部分的形状进行修整，因而能够抑制各发光层110b间发光强度上的波动。

此外，像素电极111的电极面111a及无机物隔壁层的第一层叠部112e由于显示亲液性，所以功能层110在像素电极111及无机物隔壁层112a上密接，在无机物隔壁层112a上功能层110不会变得极薄，就能防止像素电极111与阴极12之间的短路。而且，由于有机物隔壁层112b的上面112f及上部开口部112d的壁面显示疏液性，所以功能层110与有机物隔壁层112b间的密接性降低，功能层110不会从开口部112g溢出形成。

另外，作为空穴注入/输送层形成材料，例如可以使用例如聚乙烯二氧噻吩(PEDOT)等的聚噻吩衍生物与聚苯乙烯磺酸(PSS)等的混合物。

而且作为发光层110b的材料，例如可以使用聚芴衍生物、聚苯撑衍生物、

聚乙烯基咔唑、聚噻吩衍生物，或者在这些高分子材料中掺杂紫苏烯色素、香豆素系色素、罗丹明系色素，例如红荧烯、紫苏烯、9，10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼罗红、香豆素6、喹吖酮等后使用。

进而在发光元件11的全面形成阴极12，与像素电极成对后起着使电流流过功能层110的作用。这种阴极12，例如由钙层和铝层层叠而成。此时，优选在靠近发光层一侧设置功函数低的，特别是在这种方式中，起着与发光层110b直接接触向发光层110b注入电子的作用。而且为使氟化锂因发光层材料高效发光，所以也往往在发光层110b与阴极12之间形成LiF。而且在红色和绿色发光层110b1、110b2中并不限于氟化锂，也可以使用其他材料。因此这种情况下，也可以仅在蓝色(B)发光层110b3上形成氟化锂层，在其他的红色和绿色发光层110b1、110b2上也可以层叠氟化锂以外的层。而且还可以在红色和绿色发光层110b1、110b2上不形成氟化锂，而仅仅形成钙层。

另外，氟化锂的厚度例如优选为2～5纳米范围内，特别优选是2纳米左右。而且钙的厚度例如优选为2～50纳米范围内，特别优选是20纳米左右。而且形成阴极12的铝，是使发光层110b发出的光向基体2一侧反射用的，除Al膜以外，优选由Ag膜、Al与Ag的层叠膜等构成。而且其厚度例如优选为100～1000纳米范围内，特别优选200纳米左右。此外还可以在铝上设置由SiO、SiO₂、SiN等构成的防止氧化用的保护层。其中，在这样形成的发光元件上配置密封罐604。如图2(b)所示，利用密封树脂将密封罐粘结后，形成显示装置1。

以下参照附图说明本实施方式的显示装置的制造方法。

本实施方式的显示装置，是由包括以下工序制成的：在基板上形成隔壁部的隔壁部形成工序；对隔壁的表面进行处理的等离子体处理工序；在隔壁部的内侧形成功能层的功能层形成工序；以及对向电极形成工序和密封工序。而且，本发明的制造方法并不限于这些，必要时也可以除去其他工序或者追加其他工序。

隔壁部形成工序

隔壁部形成工序，是在基体2上形成隔壁部112的工序。隔壁部112的结构是，包括作为第一隔壁层形成无机物隔壁层112a，作为第二隔壁层形成有机物隔壁层112b。以下说明各层的形成方法。

(1)-1无机物隔壁层112a的形成

首先如图4所示，在形成了层间绝缘膜144a、144b的基体2的所定位置上，形成所定图案的无机物隔壁层112a。形成无机物隔壁层112a的位置，处于第二层间绝缘膜144b及电极(这里是像素电极)111之上。其中虽然在显示区域2a上形成了薄膜晶体管113，但是在虚设区域2b上却不一定形成薄膜晶体管113。

无机物隔壁层112a，例如可以采用SiO₂、TiO₂等无机物膜作为材料。这些材料例如可以采用CVD法、涂布法、溅射法、蒸镀法等形成。

此外，无机物隔壁层112a的膜厚，优选为50～200纳米范围内，特别优选150纳米。

无机物隔壁层112a，可以采用在层间绝缘膜114及像素电极111的全面上形成无机物膜，然后通过光刻法等将无机物膜图案化，形成具有开口部的无机物隔壁层112a。开口部的设置与像素电极111的电极面111a的形成位置对应，如图4所示作为下部开口部112c。

此时，无机物隔壁层112a形成得与像素电极111的周边部(一部分)重叠。如图4所示，无机物隔壁层112a形成得使一部分像素电极111与无机物隔壁层112a重叠，能够控制发光层110的发光区域。

(1)-2有机物隔壁层112b的形成

接着形成作为第二隔壁层用的有机物隔壁层112b。

如图5所示，在显示区域2a及虚设区域2b上形成了无机物隔壁层112a上形成有机物隔壁层112b。作为有机物隔壁层112b，可以采用丙烯树脂、聚酰亚胺树脂等具有耐热性和耐溶剂性的材料。利用这些材料，可以采用光刻技术将有机物隔壁层112b图案化的方式形成。其中在图案化时，在有机物隔壁层112b上形成上部开口部112d。上部开口部112d被设置在与电极面111a和下部开口部112c对应的位置上。

上部开口部112d，如图5所示，优选比在无机物隔壁层112a上形成的下部开口部112c更宽。此外，有机物隔壁层112b优选具有锥形的形状，有机物隔壁层112b的开口部优选形成得比像素电极111的宽度窄，而且在有机物隔壁层112b的最上面与像素电极111具有大体相同的宽度。这样，包围无机物隔壁层112a下部开口部112c的第一层叠部112e，将成为从有机物隔壁层112b向像素电极111的中央一侧延伸的形状。

这样通过将在有机物隔壁层112b上形成的上部开口部112d、在无机物隔壁层112a上形成的下部开口部112c连通，可以形成贯通无机物隔壁层112a和有机物隔壁层112b的开口部112g，对于显示区域2a和虚设区域2b将形成各自的隔壁部122。

另外，有机物隔壁层112b的厚度优选为0.1～3.5微米范围内，更优选为2微米左右。设定在此范围内的理由如下。

也就是说，低于0.1微米时，与后述的空穴注入/输送层及发光层的总厚度相比，有机物隔壁层112b变薄，由于有发光层110b从上部开口部112d溢出之虞而不好。而且厚度一旦超过3.5微米，上部开口部112d引起的阶差就会增大，由于不能确保上部开口部112d中阴极12的逐级覆盖而不优选。另外，若将有机物隔壁层112b的厚度定为2微米以上，则从能够提高阴极12与驱动用薄膜晶体管113之间的绝缘性来看是优选的。

等离子体处理工序

进而在等离子体处理工序中，目的在于使像素电极111的表面活化，进而对隔壁部122的表面进行表面处理。特别是在活化工序中，主要目的是将像素电极111(ITO)上洗净，进而调整功函数。此外，还要对像素电极111的表面进行亲液化处理(亲液化工序)，对隔壁部122的表面进行疏液化处理(疏液化工序)。

这种等离子体处理工序，例如分为(2)-1预热工序、  (2)-2活化处理工序(亲液化处理工序)、(2)-3疏液化处理工序(亲液化工序)及(2)-4冷却工序。而且并不限于这些工序，也可以根据需要削减或追加工序。

首先，图6是表示在等离子体处理工序中使用的等离子体处理装置。

图6所示的等离子体处理装置50，由预热处理室51、第一等离子体处理室52、第二等离子体处理室53、冷却处理室54、向这些处理室51～54输送基体2的输送装置55构成。各处理室51～54，以输送装置55为中心呈放射状而配置的。

首先说明使用这些装置的大体工序。预热工序在图6所示的预热处理室51中进行。而且利用这种处理室51，将从隔壁部形成工序输送来的基体2加热至所定温度下。预热工序之后，进行亲液化处理工序和疏液化处理工序。即，依次将基体2输送到第一和第二等离子体处理室52、53中，在各自处理室52、53内通过对隔壁部122进行等离子体处理而亲液化。这种亲液化处理后进行疏液化处理。疏液化处理后将基体输送到冷却处理室中，在冷却处理室内将基体冷却到室温下。这种冷却工序之后，利用输送装置将基体输送到作为下一工序的空穴注入/输送层形成工序。

以下分别就各工序进行说明。

2)-1预热工序

预热工序在预热处理室51内进行。在此处理室51内，将包括隔壁部122的基体2加热至所定温度。

基体2的加热方法，例如可以采用将加热器安装在处理室51内承载基体2的台架上，用这种加热器对该台架上的每个基体2进行加热的方法，其中也可以采用其他方法。

在预热处理室51内，例如将基体2加热到70～80℃范围内。此温度是下一工序的等离子体处理工序中的处理温度，按照下一工序事先将基体2加热，目的在于消除基体2的温度波动。

这里若没有预热工序，则基体2将从室温被加热至上述温度下，从工序开始至工序终止的等离子体处理工序中就会在温度经常变动的情况下进行处理。这样在基体温度变化下进行等离子体处理，有可能使有机EL元件的特性变得不均。因此，这是为了使处理条件保持一定，获得均匀特性而进行的预热。

在等离子体处理工序中，在将基体2放置在第一、第二等离子体处理装置52、53内的样品台架上的状态下进行亲液化处理或疏液化处理的情况下，优选使预热温度与连续进行亲液化工序或疏液化工序的样品台架56的温度大体一致。例如通过事先将基板材料预热至第一、第二等离子体处理装置52、53内样品台架的上升温度，例如70～80℃，即使对多个基板连续进行等离子体处理的情况下，也能使处理开始后与处理终止前的等离子体处理条件几乎保持一定。这样能使基体2的表面处理条件一致，使隔壁部122对组合物的湿润性均匀，能够制造出具有一定品质的显示装置。而且通过事先对基体2进行预热，能够缩短后面的等离子体处理中的处理时间。

(2)-2活化处理(亲液化工序)

然后在第一等离子体处理室52内进行活化处理。活化处理包括对像素电极111中的功函数进行调整和控制，像素电极表面的洗涤，和像素电极表面的亲液化工序。

作为亲液化工序，在大气气氛中以氧作为等离子气体进行等离子体处理(O₂等离子体处理)。图7是说明第一等离子体处理方式的示意图。如图7所示，将包括隔壁部122的基体2置于内藏加热器的样品台架56上，在基体2的上侧以间隙间隔为0.5～2毫米左右的距离将等离子放电电极57配置在与基体2相对向的位置上。基体2一边被台架56加热，一边被样品台架56以所定的输送速度沿着箭头方向输送，在此期间对基体2照射等离子状态的氧。

O₂等离子体处理条件，例如可以在等离子功率100～800kW、氧气流量50～100毫升/分钟、板输送速度0.5～10毫米/秒钟、基体温度70～90℃的条件下进行。其中，由样品台架56的加热，主要是为对被预热的基体2进行保温。

通过这种O₂等离子体处理，如图8所示，可以对像素电极111的电极面111a、无机物隔壁层112a的第一层叠部112e和有机物隔壁层112b的上部开口部112d的壁面及上面112f进行亲液化处理。通过这种亲液处理，可以对这些面导入羟基赋予亲液性。图8中，亲液处理的部分用一点划线表示。而且，这种O₂等离子体处理，不但能赋予亲液性，而且还能兼有对作为如上所述像素电极的ITO进行洗涤和调整功函数的作用。

(2)-3疏液化处理工序(亲液化工序)

接着在第二等离子体处理室53内，在大气气氛中进行以四氟甲烷作为处理气体的等离子体处理(CF₄等离子体处理)。第二等离子体处理室53的内部结构，与图7所示的第一等离子体处理室52的内部结构相同。即，基体2一边被台架加热，一边被样品台架56以所定的输送速度输送，在此期间对基体2照射等离子状态的四氟甲烷(四氟化碳)。

CF₄等离子体处理条件，例如可以在等离子功率100～800kW、四氟甲烷气体流量50～100毫升/分钟、基体输送速度0.5～1020毫米/秒钟、基体温度70～90℃的条件下进行。其中样品台架56的加热，与第一等离子体处理室52的情况同样，主要是为对被预热的基体2进行保温。而且处理气体并不限于四氟甲烷(四氟化碳)，也可以使用其他氟碳系气体。

通过这种CF₄等离子体处理，如图9所示，可以对上部开口部112d的壁面及有机物隔壁层的上面112f进行疏液化处理。通过这种疏液处理，可以对这些面导入含氟基团赋予亲液性。图9中，显示疏液的区域用二点划线表示。构成有机物隔壁层112b的丙烯树脂、聚酰亚胺树脂等有机物，通过照射等离子状态的四氟化碳容易被疏液化。而且经过O₂等离子前处理的部分具有容易被疏液化的特征，在本实施方式中是特别有效的。其中，像素电极111的电极面111a和无机物隔壁层112a的第一层叠部112e虽然也会多少受这种CF₄等离子体处理的影响，但是却对湿润性没有影响。图9中，显示亲液性的区域用一点划线表示。

(2)-4冷却工序

其次作为冷却工序，利用冷却处理室54将为等离子体处理而被加热的基体2冷却到管理温度下。这是为了冷却到作为下一工序的液滴喷出工序(功能层形成工序)的管理温度下而进行的工序。

这种冷却处理室54，具有配置基体2用的框架，该框架具有内藏冷却基体2用的水冷装置的结构。

而且，通过将等离子体处理后的基体2冷却到室温或者所定温度(例如进行液滴喷出的管理温度)，能够在随后的功能层形成工序中，使基板材料的温度变得一定，在基板2的温度不变化的温度下进行下工序。因此，通过附加这种冷却工序，能够使利用液滴喷出法等喷出手段喷出的材料变得均匀。例如当喷出含有形成作为功能层的空穴注入/输送层用材料的第一组合物时，能够以一定容积连续喷出第一组合物，均匀形成空穴注入/输送层。

上述的等离子体处理工序中，对于材质不同的无机物隔壁层112a和有机物隔壁层112b，通过依次进行O₂等离子体处理和CF₄等离子体处理，能够容易在隔壁层122上设置亲液性区域和疏液性区域。

另外，等离子体处理用的等离子体处理装置，并不限于图6所示的那种，也可以采用图10所示的那种等离子体处理装置60。

图10所示的等离子体处理装置60，由预热处理室61、第一等离子体处理室62、第二等离子体处理室63、冷却室64和向这些处理室61～64输送基体2的输送装置65构成，各处理室61～64被配置在输送装置65输送方向的两侧(图中箭头方向的两侧)。

这种等离子体处理装置60中，与图6所示的等离子体处理装置50同样，将从隔壁部形成工序中输送来的基体2，依次输送到预热处理室61、第一、第二等离子体处理室62和63、冷却处理室64，在各处理室进行与上述同样处理后，将基体2输送到其后的空穴注入/输送层形成工序(功能层形成工序)中。

而且上述等离子体处理装置，尽管不是大气压下的装置，但是也可以使用真空下的等离子体装置。

(3)空穴注入/输送层形成工序(功能层形成工序)

在空穴注入/输送层形成工序中，借助于采用喷墨装置(液滴喷出装置)的喷墨法(液滴喷出法)，在电极面111a上喷出含有空穴注入/输送层形成材料的第一组合物(液状体)，然后进行干燥，在像素电极111上及无机物隔壁层112a上形成空穴注入/输送层形成工序110a。这里将形成了空穴注入/输送层110a的无机物隔壁层112a叫作第一层叠部112e。包括这种空穴注入/输送层形成工序的以后的工序，优选在无水、无氧的气氛中进行。例如在氮气、氩气等惰性气体气氛下进行。其中，也可以不在第一层叠部112e上形成空穴注入/输送层110a。也就是说，又可以有在像素电极111上仅仅形成空穴注入/输送层的实施方式。利用液滴喷出法的制造方法如下。

作为适合本实施方式的显示装置采用的液滴喷头的一个实例，可以举出图11所示的那种喷头H。这种喷头H，如图11所示，主要由多个液滴喷头H1和支持这些液滴喷头H1的支持基板H7构成。此外，关于基体与上述0喷头H的配置优选采用如图12所示的那种。在图12所示的液滴喷出装置中，符号1115是承载基体2的支架，符号1116是沿着图中X轴方向(主扫描方向)将支架1115导向的导轨。而且喷头H借助于支持部件能够在导轨1113的引导下在图中向Y轴方向(副扫描方向)移动，喷头H进而能够在图中朝着θ方向旋转，能够相对于主扫描方向使液滴喷头H1以所定角度倾斜。

图12所示的基体2，成为在母基板上配置了多个芯片的结构。也就是说，一个芯片的区域相当于一个显示装置。这里虽然形成了三个显示区域(显示用像素形成区域)2a，但是并不限于三个。例如，对基体2上的左侧显示区域2a涂布组合物的情况下，借助于导轨1113使喷头H在图中向左侧移动，同时借助于导轨1116使基体2在图中向上侧移动，这样一边对基体2扫描一边进行涂布。接着使喷头H在图中向右侧移动，对基体2中央的显示区域2a涂布组合物。对于处于图中右端的显示区域2a也与上述相同。还有，图11所示的喷头和图12所示的液滴喷出装置，不仅在空穴注入/输送层形成工序中，而且在发光层形成工序中也可以采用。

图13是从油墨喷出面的一侧观察液滴喷头H1看到的立体图。如图13所示，在液滴喷头H1的油墨喷出面(基体2的对面)上，设有多个沿着喷头长度方向排列成列状，而且在喷头宽度方向具有间隔的两列喷嘴n。因此，多个喷嘴n通过以列状排列，构成两个喷嘴列N，N。一个喷嘴列所包括的喷嘴n的数目例如为180个，所以一个液滴喷头H1上形成了360个喷嘴n。而且喷嘴n的孔径例如为28微米，喷嘴间的间距例如为141微米。

液滴喷头H1，例如具有图14(a)和图14(b)所示的内部结构。具体讲，液滴喷头H1例如具有不锈钢制的喷嘴板229、与其相对向配置的振动板231和将其互相接合的分隔部件232。在喷嘴板229和振动板231之间，由分隔部件232形成多个组合物室233和液状体贮留室234。多个组合物室233和液状体贮留室234借助于通路238互相连通的。

在振动板23 1的适当处形成组合物供给孔236，此组合物供给孔236与组合物供给装置237连接。组合物供给装置237向组合物供给孔236供给含有空穴注入/输送层形成材料的第一组合物(液状体)。被供给的第一组合物充满液状体贮留室234，进而通过通路238充满组合物室233。

在喷嘴板229上设有以射流状从组合物室233喷射第一组合物用的喷嘴n。而且在振动板231的组合物室233的形成面的背面上，安装有与组合物室233对应的组合物加压体239。这种组合物加压体239，如图14(b)所示，具有压电元件241和将其夹持的一对向电极242a和242b。压电元件241因对向电极242a和242b通电而以箭头C所示产生挠性而变形得向外侧突出，这样使组合物室的容积增大。于是与增大容积所相当的第一组合物，就会从贮留室234经过通路238流入组合物室233。

接着一旦停止向压电元件241通电，压电元件241和振动板231都会恢复原状。由此，由于组合物室233也恢复到原有的容积而使处于组合物233室内部的第一组合物的压力上升，从而导致第一组合物从喷嘴n向基体2以液滴110c喷出。

图15表示使液滴喷头H1相对于基体2扫描的状态。如图15所示，液滴喷头H1一边沿着图中X方向相对移动一边喷出第一组合物(液状体)，此时喷嘴列N的排列方向Z形成相对于主扫描方向(X方向)倾斜的状态。

图16表示从液滴喷头H1一侧看到的图15要部的放大图。图16中，图示的是沿着图中Y方向(副扫描方向)配置的三个像素区域A1～A3。而且图示出用符号n1a～n3b表示的在一部分液滴喷头H1上设置的六个喷嘴。六个喷嘴中的三个喷嘴n1a、n2a和n3a，当液滴喷头H1在图示的X方向移动的情况下，被配置得位置分别处于各像素区域A1～A3上，其余的三个喷嘴n1b、n2b和n3b，当液滴喷头H1在图示的X方向移动的情况下，被配置得位于相邻像素区域A1～A3之间。而且，这六个喷嘴n1 a～n3b都是一列喷嘴列N所包括的。这种液滴喷头H1，通过未图示的驱动机构能够沿着图示的Y方向和图示的Y方向的反向移动。因此，通过将液滴喷头H1的喷嘴列N相对于主扫描方向倾斜配置，能使喷嘴间距与像素区域A对应。而且通过调整倾角，也能与任何像素区域A的间距对应。

以下说明使液滴喷头H1扫描，在所定区域形成空穴注入/输送层110a的工序。这种工序中，虽然可以采用以下任何一种方法：(1)使液滴喷头H1扫描一次的方法，(2)使液滴喷头H1扫描数次，而且在每次扫描中采用多个喷嘴的方法，和(3)使液滴喷头H1扫描数次，而且每次扫描采用个别喷嘴的方法，但是在本实施方式中采用了方法(1)。

图17是表示用液滴喷头H1扫描一次的情况下，形成空穴注入/输送层110a时工序的工序图。图17(a)表示液滴喷头H1沿着图示的X方向从图16中的位置扫描后的状态，图17(b)表示液滴喷头H1从图17(a)所示的状态仅仅沿着图示的X方向扫描，同时沿着图示Y方向的反向移动的状态，图17(c)表示液滴喷头H1从图17(b)所示的状态仅仅沿着图示的X方向扫描，同时沿着图示Y方向移动的状态。而且图18表示被隔壁部122包围的被喷出区域的剖面构成。

在图17(a)中，在液滴喷头H1上形成的各喷嘴中，从三个喷嘴n1a～n3a向像素区域A1～A3喷出含有空穴注入/输送层110a形成材料的第一组合物(液状体)。其中，在本实施方式中虽然是通过使液滴喷头H1扫描喷出第一组合物，但是也可以采用使基体2扫描的方法。此外即使通过液滴喷头H1与基体2的相对移动，也能喷出第一组合物。而且在此以后采用液滴喷头进行的工序中上述的观点也同样。

液滴喷头H1的喷出如下。也就是说，如图17(a)和图18所示，将液滴喷头H1上形成的喷嘴n1a～n3a与电极面111a相对向配置，从喷嘴n1a～n3a喷出第一组合物的最初液滴110c1。像素区域A1～A3由像素电极111和区划出该像素电极111周围的隔壁部122构成，从喷嘴n1a～n3a对这些像素区域A1～A3喷出每滴液量得到控制的第一组合物的最初的液滴110c1。

进而如图17(b)所示，仅使液滴喷头H1在图示的X方向扫描，同时通过在图示的Y方向的方向移动，使喷嘴n1b～n3b位于各像素区域A1～A3上。而且从各喷嘴n1b～n3b向像素区域A1～A3喷出第一组合物的第二滴液滴110c2。

然后如图17(c)所示，仅使液滴喷头H1在图示的X方向扫描，同时通过沿着图示Y方向的移动，使喷嘴n1a～n3a的位置再次处于各像素区域A1～A3上。而且从各喷嘴n1a～n3a向像素区域A1～A3喷出第一组合物的第三滴液滴110c3。

这样一来，通过一边使液滴喷头H1沿着图示X方向扫描，一边仅仅沿着图示的Y方向移动，能够从两个喷嘴对一个像素区域A1喷出第一组合物的液滴。对于一个像素喷出的液滴数目例如可以是6～20滴范围内，但是此范围可以用像素面积代替，所以也可以比此范围多或少。在各像素区域(电极面111a)上喷出的第一组合物的总量，取决于下部、上部开口部112c、112d的大小，要形成的空穴注入/输送层的厚度，和第一组合物中空穴注入/输送层形成材料的浓度等。

这样通过一次扫描形成空穴注入/输送层的情况下，每当喷出第一组合物时进行喷嘴的更换，对各像素区域A1～A3分别用两个喷嘴喷出第一组合物，正像过去那样，与对一个像素A1用一个喷嘴多次喷出的情况相比，因喷嘴间喷出量的波动互相抵消，所以各像素电极111…中第一组合物喷出量的波动减小，能以同样厚度形成空穴注入/输送层。因此，能使每个像素的发光量保持一定，制成显示品质优良的显示装置。

以下说明实际喷出操作。本实施方式中，首先如图18所示，仅在虚设区域2b喷出第一组合物的液滴110c，然后如图19所示，对显示区域2a喷出第一组合物的液滴110c。

其中，在本实施方式中，尤其将喷出条件设定得使对虚设区域2b喷出的第一组合物的总体积除以该虚设区域2b的面积的数值，比对显示区域2a喷出的第一组合物的总体积除以该显示区域2a的面积的数值大。而且，虚设区域2b的面积和显示区域2a的面积，是指被属于各自区域的隔壁部122所包围区域的总面积。采用这种喷出条件，喷出后进行干燥的情况下，显示区域2a中的蒸发溶剂分子的分压，与虚设区域2b中的蒸发溶剂分子的分压相比不会变得过大，能使虚设区域2b中的溶剂的蒸发速度与显示区域2a中的溶剂的蒸发速度接近。

另外，这里作为使用的第一组合物，可以使用将例如聚乙烯二氧噻吩(PEDOT)等的聚噻吩衍生物与聚苯乙烯磺酸(PSS)等的混合物溶解在极性溶剂中的组合物。

作为极性溶剂，例如可以举出异丙醇(IPA)、正丁醇、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(MDI)及其衍生物、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯等乙二醇醚类等。

还有，空穴注入/输送层形成材料，对于红(R)、绿(G)、蓝(B)各发光层110b1～110b3而言，既可以用相同材料，每个发光层也可以用不同的材料。

然后进行干燥工序。通过进行干燥工序，使第一组合物中所含的极性溶剂蒸发，形成如图20所示的空穴注入/输送层110a。进行干燥处理时，第一组合物的液滴110c所含极性溶剂的蒸发，主要在无机物隔壁层112a及有机物隔壁层112b附近产生，随着极性溶剂的蒸发空穴注入/输送层形成材料因被浓缩而析出。因此如图20所示，可以在第一层叠部112e上形成由空穴注入/输送层形成材料构成的周边部110a2。这种周边部110a2，密接在上部开口部112d的壁面(有机物隔壁层112b)上，其厚度在靠近电极面111a的一侧薄，远离电极面111a的一侧，即靠近有机物隔壁层112b的一侧变厚。

另外，与此同时，即使电极面111a上因干燥处理而产生极性溶剂的蒸发，也可以在电极面111a上形成由空穴注入/输送层形成材料构成的平坦部110a1。由于极性溶剂在电极面111a上的蒸发速度大体均匀，所以空穴注入/输送层形成材料在电极面111a上被均匀浓缩，这样能够形成具有均匀厚度的平坦部110a。这样一来可以形成由周边部110a2和平坦部110a1构成的空穴注入/输送层110a。而且，也可以是在周边部110a2上不形成，而是仅在电极面111a上形成空穴注入/输送层的方式。而且在图20中，在虚设区域2b上也形成了空穴注入/输送层110a，但是该虚设区域2b的空穴注入/输送层110a实际上不被驱动，也就是说不会发挥空穴的注入/输送作用。

其中，在本实施方式中，如上所述，使喷出的与单位面积所相当的溶剂量在虚设区域2b和显示区域2a中不同。因此，在干燥工序中，显示区域2a中的蒸发溶剂分子的分压，与虚设区域2b中的蒸发溶剂分子的分压相比不会变得过大，能使虚设区域2b中的溶剂分子的蒸发速度与显示区域2a中溶剂分子的蒸发速度接近。因此，采用这种喷出条件，显示区域2a中周边部的溶剂蒸发速度，将会与中央部的蒸发速度接近，能形成在该周边部和中央部具有均匀膜厚的空穴注入/输送层110a。

另外，干燥处理，例如在氮气气氛中，室温下，例如使压力处于133

.3～13.3Pa(1～0.1乇)左右的情况下进行。其中一旦使压力急剧降低将会使第一组合物的液滴110c产生爆沸，因而不好。而且一旦将温度提高到高温，极性溶剂的蒸发速度就会太快，不能形成平坦的膜。因此优选为30～80℃范围内。

干燥处理是在氮气中，优选在真空中，在200℃下加热10分钟左右，优选进行这样的热处理以除去空穴注入/输送层110a内残留极性溶剂或水。

(4)发光层形成工序

进而是发光层形成工序，该工序由表面改质工序、发光层形成材料喷出工序和干燥工序构成。

首先进行表面改质工序，以便将空穴注入/输送层110a的表面改质。进而与上述的空穴注入/输送层形成工序同样，通过液滴喷出法在空穴注入/输送层110a上喷出含有发光层形成材料的第二组合物(发光层形成材料喷出工序)。然后对喷出的第二组合物进行干燥处理(及热处理)，在空穴注入/输送层110a上形成发光层110b(干燥工序)。而且，在发光层形成材料喷出工序中，也和喷出第一组合物的情况同样，对于虚设区域2b喷出与显示区域2a相比相对较多容量(相当于单位面积的容量)的溶剂。

喷出含有发光层形成材料的第二组合物时，如图21所示，使喷头H6对着位于下部、上部开口部112c、112d内的空穴注入/输送层110a，一边使液滴喷头H5与基体作相对移动，一边喷出第二组合物110e。这种情况下，与空穴注入/输送层形成工序同样，对于一个像素区域用多个喷嘴进行第二组合物110e的喷出。

作为发光层110b形成材料，例如可以使用聚芴衍生物、聚苯撑衍生物、聚乙烯基咔唑、聚噻吩衍生物，或者在这些高分子材料中掺杂紫苏烯系色素、香豆素系色素、罗丹明系色素，例如红荧烯、紫苏烯、9，10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼罗红、香豆素6、喹吖酮等后使用。

而且作为溶解乃至分散发光层形成材料用的溶剂，优选对于空穴注入/输送层110a是不溶性的，例如可以使用环己基苯、二羟基苯并呋喃、三甲基苯、四甲基苯等。通过使用这种溶剂(非极性溶剂)，能够在使空穴注入/输送层110a不再溶解的情况下喷出第二组合物。

被喷出的第二组合物110e，在空穴注入/输送层110a上扩展后在下部和上部开口部112c、112d内充满。另一方面，在被疏液化处理的上面112f，即使被喷出的液滴从所定的喷出位置离开而被喷在上面112f，上面112f也不会该液滴湿润，该液滴将转入下部和上部开口部112c、112d内。

接着第二组合物在所定位置喷出终止后，通过对喷出后第二组合物进行干燥处理可以形成发光层110b3。也就是说，通过干燥使第二组合物所含的个极性溶剂蒸发，形成图22所示的蓝色(B)发光的发光层110b3。而且在图22中，虽然仅仅示出一个蓝色发光的发光层，但是正如图1和其他图中所图示的那样，发光元件本来是以矩阵状形成的，所以在未图示的像素区域也形成多个发光层(与蓝色对应的)。

另外，如上所述，在发光层形成工序中，在虚设区域2b和显示区域2a中喷出与单位面积相当的溶剂量不同。因此，在干燥工序中，显示区域2a中的蒸发溶剂分子的分压，与虚设区域2b中的蒸发溶剂分子的分压相比不会变得过大，能使虚设区域2b中的溶剂分子的蒸发速度与显示区域2a中的溶剂分子的蒸发速度接近。因此通过导入这种喷出条件，能使显示区域2a中的周边部的溶剂的蒸发速度，变得与中央部的蒸发速度接近，能形成在该周边部和中央部有均匀膜厚的发光层110b3。

进而如图23所示，采用与上述的蓝色(B)发光层110b3时同样的工序，形成红色(R)发光层110b1，最后形成绿色(G)发光层110b2。其中，发光层110b的形成顺序，并不限于上述顺序，可以采用任何顺序形成。例如也可以采用与发光层形成材料对应的形成顺序。

而且发光层的第二组合物的干燥条件，在蓝色110b3的情况下，例如

在氮气气氛中室温下，使压力处于133.3～13.3Pa(1～0.1乇)进行5～10分钟左右。压力一旦过低会使第二组合物产生爆沸因而不好。而且一旦将温度提高到高温，非极性溶剂的蒸发速度就会太快，往往使发光层形成材料在上部开口部112d避面上附着许多。优选为30～80℃范围内。

而且在绿色发光层110b2及红色发光层110b1的情况下，由于发光层形成材料的成分数目多而优选尽快干燥，例如可以将条件设定为在40℃下用氮气喷吹5～10分钟。作为其他干燥条件，可以举出远红外线照射法、高温氮气喷吹法等。这样可以在像素电极111上形成空穴注入/输送层110a及发光层110b。

(5)对向电极(阴极)形成工序

接着在对向电极形成工序中，如图24所示，在发光层110b和有机物隔壁层112b的全面上形成阴极(对向电极)12。其中阴极12也可以由层叠多个材料形成。例如，优选在靠近发光层一侧形成功函数小的材料，例如可以采用Ca、Ba等，而且也往往可以因材料不同而在下层形成薄的氟化锂层等。此外，在上部一侧(密封侧)可以采用比下部一侧功函数高的材料，例如Al等。

阴极12优选例如采用溅射法、CVD法等形成，尤其是用蒸镀法形成从能够防止发光层110b热致损伤的观点来看特别优选。而且氟化锂也可以仅在发光层110b上形成，进而与所定颜色对应形成。例如，也可以仅在蓝色(B)发光层110b3上形成。这种情况下，其他的红色(R)发光层和绿色发光层(G)110b1、110b2与由钙组成的上部阴极层连接。

而且在阴极12的上部优选采用蒸镀法、溅射法、CVD法形成的Al膜、Ag膜等。而且该膜的厚度例如优选100纳米～1000纳米，更优选200纳米～500纳米。此外还可以在阴极12上设置放置氧化用的SiO₂、SiN等保护层。

(6)密封工序

最后，密封工序，是用密封树脂603将形成了包括功能层110的发光元件的基体2和密封基板604(参见图2)密封的工序。例如在基体2的全面上涂布热固性树脂或紫外线固化性树脂组成的密封树脂603，将密封基体604层叠在密封树脂603上。借助于此工序在基体2上形成密封部3。

密封工序，优选在氮气、氩气、氦气等惰性气体气氛中进行。一旦在大气中进行，当阴极12上产生了针孔等缺陷的情况下，水或氧等就会从此缺陷部分侵入阴极12，有使阴极12被氧化之虞，因而不好。

此外，当将阴极12连接在图2所示的基板5的配线5a上，同时将电路元件部14的配线与驱动IC6相连后，得到本实施方式的显示装置1。

以上示出了本实施方式显示装置1的制造方法，本实施方式中在发光元件中功能层的形成工序中采用了液滴喷出法，就喷出的溶剂体积(相当于单位面积的体积)而言，与显示区域2a相比对虚设区域2b喷出相对较多的溶剂。具体讲，如图25所示，在虚设区域2b上滴下的第一组合物(第二组合物)9b的与单位面积相当的量，比在显示区域2a上滴下的第一组合物(第二组合物)9a的与单位面积相当的量多，结果溶剂量在虚设区域2b中将会变得相对较多(图25(a)、(b))。

由此，如图25(c)所示，虚设区域2b的蒸发溶剂分子的蒸气压就会变得比显示区域2a的蒸发溶剂分子的蒸气压大，而且显示区域2a中周边部内的溶剂的蒸发速度就会变得与中央部的蒸发速度接近。其结果，能够在周边部和中央部形成均匀相等膜厚的空穴注入/输送层110b及发光层110c(功能层110)。于是在这种情况下，可以提供一种在显示区域2a的全域内，不论中央部还是周边部，元件特性(显示特性)不均少、可靠性优良的有机EL装置1。

以下就形成上述空穴注入/输送层110b或发光层110c(功能层110)时的液滴喷出方式的变形例进行说明。而且在以下中单独提到喷出量时，是指相当于单位面积的喷出量。

首先，如图26所示，当采用使虚设区域2b中喷出区域的面积(即能被隔壁部122包围的开口部的面积)，比显示区域2a中的喷出区域的面积大的构成的情况下，能将喷出量在虚设区域2b中相对较多。特别是对位于以矩形形状形成的显示区域2a角部的虚设区域2b中，优选比其他虚设区域2b的喷出量更多。

而且如图27所示，也可以在虚设区域2b的大体全部区域上均喷出第一组合物(第二组合物)9b、9c。这种情况下，确实能使在虚设区域2b中的喷出量比显示区域2a的喷出量多。特别是显示区域2a是长方形的情况下，在短边方向上的虚设区域A中，优选比长边方向的虚设区域B的喷出量多。这样能使蒸发溶剂分子的蒸汽压在基体面内更加均匀。而且，不在虚设区域2b的全部区域内喷出液滴的情况下，以及如图28所示仅在被隔壁部(图示略)包围的区域喷出液滴的情况下，当显示区域2a为长方形时，也均优选在短边方向上虚设区域A上的喷出量，比长边方向虚设区域B的喷出量多。

另外，如图29所示，当显示区域2a为长方形，在长边方向排列着同一颜色(例如红(R)、绿(G)或蓝(B))发光层110C的情况下，优选使在短边方向虚设区域A中的喷出量，比长边方向虚设区域B的喷出量多。这样，例如对每种颜色进行溶剂干燥时，能使蒸发溶剂分子的蒸汽压在基体面内更加均匀。

此外如图31所示，还可以构成得使虚设区域2b中的喷出区域的面积(即能被隔壁部122包围的开口部的面积)比显示区域2a中喷出区域的面积小。这种情况下，当使虚设区域2b中的喷出量比显示区域2a的喷出量相对较多的情况下，也能够提高该虚设区域2b中蒸发溶剂分子的蒸汽压，而且能使显示区域2a中蒸发溶剂分子的蒸汽压在面内均匀化。

而且如图32所示，还能够采用使虚设区域2b中喷出区域的面积(即能被隔壁部122包围的开口部的面积)，比显示区域2a中喷出区域的面积小的构成，将该虚设区域2b的喷出区域配置得更密。这种情况下，当虚设区域2b的喷出量比显示区域2a的喷出量相对较多的情况下，能够提高该虚设区域2b中的蒸发溶剂分子的蒸汽压，而且能使显示区域2a中的蒸发溶剂分子的蒸汽压在面内均匀化。

进而，如图33所示，当构成得使虚设区域2b中喷出区域的面积(即能被隔壁部122包围的开口部的面积)，比显示区域2a中喷出区域的面积小的构成，将该虚设区域2b的喷出区域配置密的情况下，能使该虚设区域2b中喷出区域，形成为与显示区域2a的喷出区域在同一列和/或同一行。这种情况下，当使虚设区域2b的喷出量比显示区域2a的喷出量相对较多时，能够提高该虚设区域2b中的蒸发溶剂分子的蒸汽压，而且能使显示区域2a中的蒸发溶剂分子的蒸汽压在面内均匀化。而且这种情况下，因为可以对于同一列和/或同一行进行喷出，所以与图32的实例相比喷出工序将变得非常简便。

以上在本实施方式中虽然在形成功能层110之际采用本发明涉及的方法，但是对于例如液晶显示装置等用的彩色滤光片基板而言也可以采用本发明。具体讲，在具有作为选择性透过所定颜色光的彩色滤光片功能的功能区域(上述实施方式中相当于显示区域2a)和该功能区域以外非功能区域(上述实施方式中相当于虚设区域2b)的彩色滤光片基板的制造方法中，能够采用液滴喷出法在基板上喷出将构成着色层的着色材料溶解乃至分散在溶剂中的组合物(液状体)。而且在这种喷出工序中，与上述功能层的形成工序同样，若使在非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比在功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多，则能够产生与上述实施方式同样的效果，因而能够制造在功能区域内膜厚均匀的彩色滤光片基板。

(第二种实施方式)

以下说明备有第一种实施方式的显示装置的电子仪器的具体实例。图30是表示移动电话机一个实例的立体图。图30中，符号600表示移动电话机主体，符号601表示采用了显示装置1的显示部。这种电子仪器，是具备采用了第一种实施方式的显示装置1的显示部的，由于具有前面第一种实施方式显示装置1的特征，所以将是一种具有显示不均少、显示品质优良的效果的电子仪器。

Claims (9)

1.一种彩色滤光片基板的制造方法，是具有包含多个着色层、选择性透过所定颜色光并起彩色滤光片作用的功能区域，和该功能区域以外的非功能区域的彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，其中包括：

用液滴喷出法在基板上喷出溶剂中溶解乃至分散了构成所述着色层的着色材料的液状体的喷出工序，

该喷出工序中向所述功能区域喷出所述液状体，向所述非功能区域喷出所述液状体或所述溶剂，向所述非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向所述功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多。

2.一种电光学装置的制造方法，是每个像素上均具有起电光学元件作用的功能区域，和在该功能区域的周边形成的非功能区域的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括：

用液滴喷出法在基板上喷出在溶剂中溶解乃至分散了构成所述电光学元件的功能材料的液状体的喷出工序，

该喷出工序中，向所述功能区域喷出所述液状体，向所述非功能区域喷出所述液状体或所述溶剂，使向所述非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比向所述功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多。

3.根据权利要求2所述的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括：

在所述喷出工序之前，对于所述基板上的所述功能区域和所述非功能区域，分别用相同图案形成喷出所述液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，

在该喷出工序中，使对所述非功能区域的液体容纳区域喷出的溶剂量，比对所述功能区域的液体容纳区域喷出的溶剂量多。

4.根据权利要求2所述的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括：

在所述喷出工序之前，对于所述基板上的所述功能区域和所述非功能区域，形成喷出所述液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，

在该液体容纳区域的形成工序中，使所述非功能区域中液状体容纳区域的面积形成得比所述非功能区域中液体容纳区域的面积大。

5.根据权利要求2所述的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括：

在所述喷出工序之前，对于所述基板上的所述功能区域和所述非功能区域，形成喷出液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，

所述功能区域俯视呈长方形状，在该功能区域的长边方向和短边方向上，使所述非功能区域中所述液体容纳区域的密度不同，

使对所述非功能区域中的液体容纳区域密度大的部分喷出的、与单位面积相当的溶剂量，比对所述非功能区域中的液体容纳区域密度小的部分喷出的、与单位面积相当的溶剂量多。

6.根据权利要求2所述的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中

在所述功能区域俯视呈长方形状的情况下，就沿着其功能区域短边方向形成的第一非功能区域，和沿着功能区域长边方向形成的第二非功能区域而言，在所述喷出工序中，使对所述第一非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量，比对所述第二非功能区域喷出的与单位面积相当的溶剂量多。

7.根据权利要求2所述的电光学装置的制造方法，其特征在于，其中包括：

在所述喷出工序之前，对于所述基板上的所述功能区域和所述非功能区域，形成喷出液状体和/或溶剂的液体容纳区域的工序，

在该液体容纳区域的形成工序中，使所述非功能区域的液状体容纳区域沿着所述功能区域形成为带状。

8.一种电光学装置，其特征在于，是采用权利要求2～7中任何一项所述制造方法制造的。

9.一种电子仪器，其特征在于，其中具备权利要求8所述的电光学装置。

Images