CN1538385A - 磁头 - Google Patents

Abstract

一种磁头，在金属制的屏蔽箱(7)的内部，插入在具有保持架(10)的线圈骨架(17)上安装磁芯(11)构成的磁芯组件(8)，在形成在上述屏蔽箱的介质滑动面的窗部露出上述磁芯的磁隙部(G)，并将上述磁芯组件(8)固定在上述屏蔽箱(7)的内部；在屏蔽箱(7)的两侧壁的内面的至少一方形成卡合凹部(7f)，且该卡合凹部(7f)与上述保持架(10)的一部分卡合而进行上述磁隙部相对于屏蔽箱(7)的高度方向的定位。这种磁头，能够提高磁芯相对于屏蔽箱的安装位置精度，并能够减小阻抗的偏差。

Description

磁头

技术领域

本发明涉及一种在具有介质滑动面的屏蔽箱的内部具有磁芯结构的磁头，具体涉及一种能够提高磁芯与屏蔽箱的窗部的定位精度的结构。

背景技术

作为影像相关的声频控制型磁头的一例，如图14、图15所示，已知有如下形成的磁头A，准备一对在线圈骨架101上安装C字型的磁芯100，在线圈骨架101上形成绕线部102的磁芯部件103，使上述磁芯部件103、103沿着板状的保持壳体104的一侧上下，然后插入屏蔽箱105的内部。

此外，对于该磁头A，将U字状的压紧部件106与线圈骨架101一齐插入屏蔽箱105的内部，以在屏蔽箱105的内部压紧磁芯部件103。此外，在上述保持壳体104的侧部形成凸部107，在屏蔽箱105的入口部周边形成接受该凸部107的凹部108，在将此芯部件103、103和保持壳体104完全插入屏蔽箱105的状态下，通过在上述凹部108中嵌合上述凸部107，能够在屏蔽箱105内准确定位磁芯部件103，如此构成磁头A。(参照专利文献1，图1、图2)

另外，已知有，构成如图17所示的磁头，通过将屏蔽箱120的周壁形成由坡莫合金等磁性体构成的内层121、非磁性的不锈钢材构成的中间层122和坡莫合金等磁性体构成的外层123组成的3层结构，使磁芯126的顶端部面对屏蔽箱120的窗部125，同时，将窗部125的内周边部作为顶端窄状的带斜面的导入口127。(参照专利文献2)

对于此构成的磁头，以导入口127作引导，相对于窗部125，插入磁芯126的顶端部，在利用夹具临时定位后，在屏蔽箱120的内部填充树脂并使之固化，正式固定磁芯126，实施研磨加工，研磨到沿通过中间层122部分的研磨线K的位置，构成介质滑动面。

专利文献1：实公平4-45124号公报

专利文献2：特开平11-144206号公报

对于图14和图15所示构成的磁头A，在将上述磁芯部件103插入到屏蔽箱105的内部后，在屏蔽箱105的内部填充固定用的树脂，使填充的树脂干燥固化、正式固定磁头部件103、103，形成制品化。此外，通过研磨加工，在屏蔽箱105的前面侧，形成相对于磁带的滑动面109，在形成在该滑动面109的中央部的窗部110，露出磁芯100的部分磁隙G，一边在滑动面109相对滑动磁带，一边通过从磁隙G作用漏磁场，记录磁信息，从磁隙G读出记录在滑动的磁带上的磁信息，如此构成进行磁信息的记录和再生的磁头A。

可是，对于图14和图15所示的构成的磁头A，重要的是在窗部110内的磁芯100的定位精度，在磁芯100的定位不准确时，由于未正确规定与磁带的相对位置关系，所以，磁记录再生特性有产生问题的危险。

图16是记录影像和声音的磁带的表面放大图，但在此种磁带111中，在表示宽度方向中央部的大部分的区域B，在倾斜方向，以并列状态形成影像信号用的磁道112，在宽度方向两端部侧形成声音信号用的磁道113、控制信号用磁道114。

此外，如以上说明构成的声频用磁头A中的一方的磁芯100与磁带111的一方的磁道113对应，另一方的磁芯100与磁带111的另一方的磁道114对应，如此，相对于磁带111，磁头A相对滑动。此外，在一般的磁记录再生装置中，构成是，通过相对于磁带111相对滑动另外设在转动圆柱上的另一磁头，记录再生上述磁道112的影像信号记录。

因此，在未正确规定与沿磁带111的宽度方向的一方的磁芯100的位置精度或另一方的磁芯100的位置精度时，磁芯100、100的任何一方都有对信号用磁道112产生不良磁影响的危险。此外，在磁芯100的安装精度中，特别是，如果降低磁芯深度方向的精度，有涉及到阻抗的偏差危险。

下面，对于图17所示的以往构成的磁头，通过研磨加工到研磨线K。在介质滑动面露出耐磨性优良的中间层122，但由于全部研磨外层123的厚度部分，所以，研磨量大，存在研磨工序费时费工的问题。

此外，在图17所示构成的屏蔽箱120中，如要加工形成在窗部125的内周边部的带斜面的导入口127，需要进行采用冲床的冲压加工，但此时，在导入口127的内面侧，内侧层121的材料朝导入口127的外侧延伸，同时塑性变形，结果，必然要向导入口127的开口部侧延伸，形成由内层121的材料构成的延出部128。在沿研磨线K研磨加工包括该延出部128的屏蔽箱120时，作为磁性体的内层121的延出部128的前端部位于磁芯126的顶端部附近。

因此，在通过从磁芯126的磁隙部分作用磁场，对磁记录介质体进行磁记录时，从磁芯126的顶端部侧向上述延出部128侧作用漏磁通，有影响记录再生特性的危险。即，如果延出部128形成到研磨线K的附近，如果从磁芯126的顶端部向上述延出部128侧产生漏磁通，有向介质滑动面侧泄漏该磁场，影响磁记录介质的危险。

发明内容

本发明是针对上述问题而提出的，目的是提供一种磁头，其构成能够提高磁芯相对于屏蔽箱的安装位置精度，能够减小阻抗的偏差。

本发明是针对上述问题而提出的，目的是提供一种磁头，其构成能够提高相对于屏蔽箱的磁芯的安装位置精度，能够减小阻抗的偏差，同时，能够降低从磁芯的顶端部侧向与之相邻的屏蔽箱的窗部侧产生漏磁场的危险。

本发明是针对上述问题而提出的，目的是提供一种磁头，其构成能够提高相对于屏蔽箱的磁芯的安装位置精度，同时，能够确实形成磁芯和屏蔽箱的电导通。

本发明的磁头为解决上述课题，采用了以下方案。

本发明的磁头，在金属制的屏蔽箱的内部，插入在具有保持架的线圈骨架上安装磁芯构成的磁芯组件，在形成在上述屏蔽箱的介质滑动面的窗部，露出上述磁芯的磁隙部，将上述磁芯组件固定在上述屏蔽箱的内部；在上述屏蔽箱的两侧壁的内面的至少一方，形成卡合凹部，该卡合凹部与上述保持架嵌合而进行上述磁隙部的相对于上述介质滑动方向的直角方向的定位。

通过嵌合保持架来定位保持架，进行上述磁隙部的相对于上述窗部的高度方向的定位，由此，能够谋求提高特别是影响大的方向的磁芯的定位精度及磁隙部的定位精度。例如，当在磁记录介质上区分记录影像信号和声音信号时，窗部高度方向的定位精度，由于影响影像信号和声音信号磁道的边界位置，所以特别重要。

本发明的磁头，在上述构成中，其特征在于：在上述卡合凹部的上述窗部侧的端部，形成与上述保持架接触并定位上述磁隙部的相对于上述窗部的深度方向的缘部。

关于磁隙部的位置，除上述窗部的高度方向外，由于也能够提高对窗部深度方向的定位精度，在研磨屏蔽箱的一面形成介质滑动面时，能够提供包括具有正确间隙深度的磁隙部的磁头。这样，由于能够正确规定间隙深度，所以，能够提供不产生阻抗偏差的磁头。

本发明的磁头，由磁性体构成上述屏蔽箱，在上述保持架的两端部侧分别安装磁芯组件，在上述屏蔽箱的介质滑动面的宽度方向两侧分别形成窗部，以各自定位的状态，在上述两窗部内分别设置上述两磁芯组件的磁隙部，在位于上述两窗部的之间的上述屏蔽箱的前面壁上形成凹槽，在该凹槽上，设置构成上述两窗部间的介质滑动面的非磁性体的保护件。

由于沿两窗部间的介质滑动面构成保持部件，所以，如果由耐磨性优良的材料构成保持部件，能够提高耐磨性。此外，如果由磁性体构成屏蔽箱，在介质滑动面设置非磁性体的保持部件，磁通不会从位于窗部内侧的磁芯的顶端部跳到保持部件侧，不产生不需要的漏磁场。此外，假设即使漏磁通从磁芯的顶端部跳到保持部件的底侧的屏蔽箱构成部件侧，与由屏蔽箱的构成材料直接构成介质滑动面的结构相比，也能够抑制漏磁通的量，而且，产生漏磁通的主要位置由于从介质滑动面朝向屏蔽箱的内侧，所以能够减小影响。

本发明的磁头，其特征在于：在位于上述屏蔽箱的窗部的两侧的屏蔽箱的两侧壁内面中，在一方侧壁内面形成卡合凹部，其卡合在上述保持架的一部分，定位上述磁隙部的相对于上述窗部的高度方向，在另一方侧壁内面形成与上述卡合凹部对向的第2凹部。

在从1块板材，利用冲压深冲加工等塑性加工制造屏蔽箱的情况下，通过在一方的侧壁内面形成卡合凹部，在另一方侧壁内面形成第2凹部，与只在一方的侧壁内面形成卡合凹部时相比，能够顺利进行屏蔽箱形成时的塑性加工，能够在正确的位置形成卡合凹部和第2凹部。由于能够在屏蔽箱的内侧壁上正确形成卡合凹部，所以能够提高磁芯的定位精度。

本发明的磁头，其特征在于：在形成在上述另一方侧壁内面的第2凹部的两侧，形成搭接在上述保持架的一部分上，与上述侧壁内面一同夹持上述线圈骨架的托面。

由于用上述一方的侧壁和对向的托面夹持线圈骨架，所以，在屏蔽箱的内部，线圈骨架不会不稳定，能够稳定保持线圈骨架。

本发明的磁头，其特征在于：上述保持架，由导电材料构成，由在上述屏蔽箱和上述磁芯夹持，插入在屏蔽箱内部，同时，在上述磁芯的外周部，形成嵌合凹部或嵌合凸部，在上述保持架，形成与上述磁芯的嵌合凹部或嵌合凸部嵌合的嵌合凸部或嵌合凹部，上述磁芯借助上述保持架，与屏蔽箱自由电导通。

由于磁芯借助导电性的保持架与屏蔽箱内导通，能够发挥屏蔽箱本来的屏蔽性。此外，如果利用设在磁芯和保持架上的嵌合凹部或嵌合凸部的嵌合，提高磁芯和保持架的接合性，能够确实保证导电性。另外，当在屏蔽箱的内部填充、硬化树脂，固定磁芯、线圈骨架和保持架时，虽有因浸入在磁芯和保持架的之间的树脂，而影响磁芯和保持架的电导通危险，但是，通过利用嵌合凹部或嵌合凸部的嵌合，强固地机械嵌合磁芯和保持架，能够确保确实导通。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的磁头的主视图。

图2是图1所示的磁头的俯视图。

图3是沿图1所示的磁头的III-III线的剖视图。

图4是沿图2所示的磁头的IV-IV线的剖视图。

图5是沿图1所示的磁头的V-V线的剖视图。

图6是该磁头的屏蔽箱部分的局部剖视图。

图7是沿图1所示的磁头的VII-VII线的剖视图。

图8是该磁头的局部剖视图。

图9是设在该磁头上的保持架的俯视图。

图10是设在该磁头上的线圈骨架的侧视图。

图11是该线圈骨架的主视图。

图12是该线圈骨架的仰视图。

图13是表示在保持架中嵌合磁芯半体的状态的侧视图。

图14是表示一例以往的磁头的分解斜视图。

图15是该以往的磁头的剖视图。

图16是表示磁带的磁道的俯视图。

图17是表示另一例以往的磁头的主要部位的概略图。

图中：1-磁头，2-消去磁头，3-磁头本体，5、7-屏蔽箱，7B、7C-窗部，G-磁隙部，7a-侧壁，7f-卡合凹部，7g-第2凹部，7i、7j-托面，7m-端部，7p-凹槽，6、8、9-磁芯组件，10-保持架，10A-顶端部，10a-嵌合凸部，10B-端面，11、12-磁芯，16、21-磁芯半体，17、22-线圈骨架，30-嵌合凹部。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式的磁头。

图1～图8表示本发明的磁头，图9～图13表示构成该磁头的部分部件，本实施方式的磁头1，如图1和图2所示，形成左右邻接地一体化消去磁头2和本体磁头3的基本构成，成为磁记录介质的未图示的磁带向图1中的箭头方向滑动。

上述消去磁头2具有背面开口型的箱状的屏蔽箱5、在其内部上方收容的消去用磁芯组件6，在屏蔽箱5的前面侧形成凸曲面状的介质滑动面5A，在形成于介质滑动面5A的上部侧的窗部5B的内侧设置消去用磁芯组件6的磁芯部6A。另外，在本实施方式中设置消去磁头2，但也可以省略该消去磁头2，此外，也可以代替消去磁头2，采用设置仿真磁头等结构。

上述本体磁头3，具有背面开口型的箱状的屏蔽箱7、设置在其内上部及内下部的图4所示的磁芯组件8、9及从其侧部侧保持固定上述磁芯组件8、9的保持架10，在屏蔽箱7的前面侧形成凸曲面状的介质滑动面7A，在其上部侧形成的窗部7B的内侧面对消去用磁芯组件8的磁芯11，在介质滑动面7A的下部侧形成的窗部7C的内侧面对磁芯组件9的磁芯12。此外，在图3、图5、图6、图7和图8所示的磁头中，由于表示研磨加工介质滑动面之前工序的磁头，所以，沿上述图中的研磨线R的面为制品工序的最终的介质滑动面。此外，在制品工序，如图1所示，在屏蔽箱7的内部填充树脂，正式固定磁芯11、12，但在图3以后的各图中，省略树脂层，主体表示屏蔽箱7的内部结构。此外，在本实施方式中，磁芯11为声频磁头，磁芯12为控制磁头，即以声频·控制磁头形成。

上述磁芯组件8，如图4、图5、图6等所示，具有圆环状组合一对通过多层叠层C型磁性体基板构成的C型磁芯半体16而形成的磁芯11和具有截面矩形状的中空部17a的树脂制的线圈骨架17，上述磁芯半体16、16，通过将其一端部插入贯通在上述线圈骨架17的中空部17a，组合成圆环状，借助未图示的绝缘层，对正各磁芯半体16、16的一端侧相互间的部分，形成磁隙部G，以将该磁隙部G置于上述屏蔽箱7的窗部7B的中央侧的形式，在屏蔽箱7的内部定位磁芯组件8，并保持固定。

上述磁芯组件9，具有圆环状组合一对通过多层叠层C型磁性体基板构成的C型磁芯半体21而形成的磁芯12和具有中空部22a的线圈骨架22，上述磁芯半体21、21，通过将其一端部插入贯通在上述线圈骨架22的中空部22a，组合成圆环状，并借助未图示的绝缘层，对正各磁芯半体21、21的一端侧相互间的部分，形成磁隙部G，以将该磁隙部G置于上述屏蔽箱5的窗部7C的中央侧的形式，在屏蔽箱5的内部定位磁芯组件9，并保持固定。另外，在上述叠层结构的磁芯半体16、21的外周部的基端侧的局部，形成图7或图13所示的嵌合凹部。

下面，详细介绍上述磁芯组件8、9的定位、保持、固定的结构。

首先，图9表示保持架10的平面形状，但本实施方式的保持架10具有由细长的长方形状的黄铜板等导电性金属材料构成的本体部10d，在其一面侧的长度方向两端部侧，形成形状向该本体部10d的厚度方向一侧突出的嵌合凸部10a，然后，形成形状向本体部10d的基端一侧的侧部延出的突出部10b，在上述突出部10b的基端部侧，在靠近本体部10d的中央的部分，形成圆形的凹部10c。

下面，线圈骨架17，如图10～图12所示，主体构成有围绕中空部17a的筒型的绕线部25、延伸设置在该绕线部25的长度方向两端部的凸缘部26、26、部分贯通上述凸缘部26设置的端子销钉27、突出形成在上述一方的凸缘部26的一端的卡合凸起28。另外，在上述绕线部25形成线圈部，卷绕未图示的通电用的线圈。此外，在另外的线圈骨架22上，也形成与上述线圈骨架17相同的构成，具有绕线部25、凸缘部26、26、端子销钉27、卡合凸起28和通电用的线圈。

在上述线圈骨架17、22，在装有磁芯11、12的状态下，在保持架10的凹部10c插入各磁芯组件8、9的线圈骨架17、22的卡合凸起28，沿着保持架10的两端部侧的侧面，配置线圈骨架17、22，在保持架10的突出部10b的肋上，与突出部10b平行地配置端子销钉27，在分别形成在磁芯11、12上的嵌合凹部30，嵌合保持架10的突出部10a，进行临时固定，并在此状态下，与具有2个磁芯组件8、9的保持架10一起整体插入屏蔽箱7的内部，临时固定上述部件。

下面，详细叙述，在屏蔽箱7中，在沿磁带滑动方向并列的侧壁7a、7a中的一方的侧壁7a上，以从屏蔽箱7的背面侧的开口部7b侧延出到接近窗部7B、7C的位置，以达到接近屏蔽箱7的顶壁7d和底壁7e的位置的幅宽，形成浅槽型的卡合凹部7f；在另外一方的侧壁7a上，以比上述卡合凹部7f减小纵宽的大致相同的深度，在与卡合凹部7f对向的位置形成比上述卡合凹部7f浅的槽型的第2凹部7g。此外，上述的卡合凹部7f的高度(从屏蔽箱7的顶壁7d侧朝底壁7e侧的方向的纵宽)形成与上述保持架10的高度(长度、纵宽)相同的高度，但是，上述凹部7g的高度(纵宽)形成低于上述卡合凹部7f，在该凹部7g的下方侧的部分，形成平面状的托面7h，以与线圈骨架22的一部分接触并与上述保持架10一同夹持线圈骨架22；在凹部7g的上方侧部分，形成平面状的托面7i，以与线圈骨架17的一部分接触并与上述保持架10一同夹持线圈骨架17。

此外，关于保持架10，在纵长配置其自身的状态下，在屏蔽箱7的卡合凹部7f的上下的端部7m，无间隙地搭接保持架10的上下两端面10B、10B，如此将保持架10插入屏蔽箱7的内部。此外，优选以无间隙地搭接在上述的屏蔽箱7的卡合凹部7f的最深部的顶端缘7j的形式，搭接顶端面10A。这样，通过在卡合凹部7f的顶端缘7j搭接保持架10的顶端面10A，能够进行屏蔽箱7的深度方向(换句话讲，窗口7B的深度方向)的定位。此外，通过在卡合凹部7f的上下的端部7m无间隙地搭接两壁面10B、10B，能够正确进行屏蔽箱7的上下方向(换句话讲，与介质滑动方向的直角方向)的定位。

能够如此利用卡合凹部7f正确定位保持架10，是因为在制造屏蔽箱7时，由于利用金属模对1块板材实施深冲加工，能够配合金属模的形成精度，在正确的位置形成卡合凹部7f。即，能够用目前通用的金属模加工技术，以超微粒级，高精度加工金属模的形成精度，这样，在实施深冲加工，制造屏蔽箱7时，能够以超微粒级的误差精度制造屏蔽箱7。

其中，由于能够正确进行屏蔽箱7的高度方向(图1、图4的上下方向，换句话讲，与介质滑动方向的直角方向)的定位，所以，能够正确规定从图1所示的屏蔽箱7的上面位置到磁芯11的底面位置的间隔L。该间隔L，在误差大时，在将上述基于图16说明的磁带用作磁记录介质时，由于有影响影像信号磁道112的危险，所以，为了不产生间隔L的位置偏移，需要严格管理，制造磁头1。对于此点，如果是将上述保持架10嵌合在卡合凹部7f进行定位的结构，与以往相比，能够大大降低上述间隔L的误差，例如，能够以超微粒级的误差精度进行调整。由此，能够相对于磁带的宽度方向的正确位置，使磁头1的磁隙部G相对滑动。

此外，能够正确控制上述距离L，在具有消去磁头时，对于确定消去磁头2和本体磁头3的高度方向的定位，也很重要。即，重要的是消去磁头2的磁芯6A的高度方向位置和本体磁头3的磁芯12的高度方向的定位，在考虑到作为磁记录介质的如图16所示的磁带111的影像信号用磁道112和声音信号用磁道113的干涉时，必须高精度严格规定。对于此点，重要的是能够正确控制上述距离L。

此外，通过在卡合凹部7f的顶端缘7j搭接保持架10的顶端面10A，正确进行屏蔽箱7的深度方向的保持架10的定位，能够正确定位研磨线R，以形成屏蔽箱7的介质对向面。这是因为，在规定研磨线R时，能够以从屏蔽箱7的背面侧向外突出一些的保持架10的突出部10b的顶端作为基点，正确确定从此基点到研磨线R的如图5所示的距离M。

这样，通过采用卡合凹部7f正确进行保持架10的定位，能够正确进行屏蔽箱7的介质对向面的研磨。

另外，在本实施方式的磁头中，将保持架10的顶端部10A搭接在顶端缘7j上，但也可以相隔规定间隔地进行定位。因为能够按每种搭接磁头的不同的VTR等的磁记录再生装置，调整到适当深度的位置，配合阻抗。

下面，在采用如上所述的金属模，利用深冲加工制造屏蔽箱时，如果是在相互对向地在屏蔽箱7的两侧壁7a、7a的一方形成卡合凹部7f，在另一方形成凹部7g，利用深冲加工制造屏蔽箱7的情况下，能够在正确的位置形成卡合凹部7f。对于此点，例如，如果采用只在一方的侧壁7a上形成卡合凹部7f，在另一方的侧壁7a上不形成凹部7g的结构，如要从1块板材利用深冲加工制造屏蔽箱7，深冲板材使之变形，则深冲加工中的金属材料有从金属模的卡合凹部形成位置脱离、同时产生塑性变形的危险，容易产生卡合凹部7f的位置偏移。对于此点，如果在两侧壁7a、7a，在相互对向的位置，将凹部7f、7g形成如存在的金属模形状，就能够在两侧壁间掌握塑性变形时的金属材料的脱离量的平衡，能够在目标位置上正确形成凹部7f、7g。所以，如上所述，能够正确形成卡合凹部7f，结果，能够提供间隔L的误差小的磁头1。

另外，在上述屏蔽箱7的介质对向面侧的窗部7B、7C之间的部分，形成在利用深冲加工制造屏蔽箱7时形成的纵长的凹槽7p，利用焊接等手段，在该凹槽7p中固定由不锈钢材等耐磨材料构成的保护件30，保护件30的表面作为窗部7B、7C之间的介质滑动面的一部分。

采用该构成，由于沿两窗部间的介质滑动面构成保护件30，所以，能够提高耐磨性。此外，如果由磁性体构成屏蔽箱7，在介质滑动面设置非磁性体的保护件30，磁通从位于窗部7B、7C之间的内侧的磁芯11、12的顶端部跳到保护件30侧的危险小，不产生不需要的漏磁场。此外，假设即使漏磁通从磁芯11、12的顶端部侧跳到保持部件30的底侧的凹槽7p的端部的构成部件侧，与由屏蔽箱的构成材料直接构成介质滑动面的图17所示的以往结构相比，也能够抑制漏磁通的量，而且，由于能够将产生漏磁通的主要位置从介质滑动面7A朝向屏蔽箱7的内侧，所以能够将不需要的漏磁通减小到几乎没有影响。

下面，通过在磁芯半体16、22的嵌合凹部30，嵌合保持架10的嵌合凸部10a，能够确保相对于保持架10的磁芯11、12的高定位精度。此时，嵌合凹部30的嵌合凸部10a的形成位置精度，依赖于制造保持架10时的金属板的加工方法，除能使嵌合凸部10a的形成位置精度充分达到高精度外，由于也能使磁芯半体16、22的嵌合凹部30的形成位置精度充分达到高精度，所以，能够容易确保高精度。由此，如前所述，能够正确进行保持架10的定位，也能够正确进行相对于保持架10的磁芯11、12的安装位置精度，结果，能够正确进行相对于屏蔽箱7的深度方向(窗部7B、7C的深度方向)的定位。由此，也能够正确把握按图3、图7、图8所示的研磨线R研磨加工时的研磨深度位置，能够进行研磨深度准确的加工。

此外，例如，在形成图17所示的以往的3层结构的屏蔽箱120时，由于需要实施研磨加工到沿通过中间层122部分的研磨线K的位置，形成介质对向面，所以需要以规定的研磨深度研磨。然而，在采用本实施方式的结构进行屏蔽箱7的介质滑动面制作用的研磨加工时，由于能够利用保持架10，按如上说明，正确定位磁芯11、12的位置，所以，作为研磨深度的比较，如果按以往6成的程度进行研磨，就能够结束规定介质滑动面的研磨加工，能够完成介质滑动面的形成。因此，能够缩短研磨加工的时间，能够使研磨加工量减半。

此外，如果利用设在磁芯11、12和保持架10上的嵌合凹部30和嵌合凸部10a、10a的嵌合，可提高磁芯11、12和保持架10的接合性，则在通过在屏蔽箱7的内部填充树脂并使之硬化，正式固定磁芯11、12、线圈骨架17、22及保持架10时，虽有因浸入在磁芯11、12和保持架10的之间的树脂，影响磁芯11、12和保持架10的电导通的危险，但是，通过利用嵌合凹部30或嵌合凸部10a的嵌合，牢固地机械嵌合磁芯11、12和保持架10，能够确保确实导通。

另外，在本实施方式中，在保持架10上形成嵌合凸部10a，在磁芯11、12侧形成嵌合凹部30，当然也可以相反，在保持架10上形成嵌合凹部30，在磁芯11、12侧形成嵌合凸部，然后嵌合两者。

(发明的效果)

如果采用本发明，通过嵌合具有磁芯的保持架，在屏蔽箱的内部定位保持架，进行磁隙部的相对于屏蔽箱的高度方向的定位，由此，能够谋求提高特别是影响大的方向的磁芯的定位精度及磁隙部的定位精度。例如，当是在磁记录介质上区分记录影像信号和声音信号的方式时，由于窗部高度方向的定位精度影响到影像信号和声音信号磁道的边界位置，所以特别重要，由此能够提供在磁道间无产生相互干涉的危险的磁头。

本发明，关于磁隙部的位置，除上述窗部的高度方向外，由于也能够提高对窗部深度方向的定位精度，提高磁隙部的深度位置的精度，结果，能够提供抑制阻抗偏差的磁头。

关于磁隙部的位置，除上述窗部的高度方向外，由于也能够提高对窗部深度方向的定位精度，例如，在研磨屏蔽箱的一面，形成介质滑动面时，能够提供包括具有正确间隙深度的磁隙部的磁头。

本发明，由于在屏蔽箱的另外一方的侧壁内面的第2凹部的两侧，形成搭接在线圈骨架的一部分上并与一方的侧壁内面一同夹持线圈骨架的托面，由于用上述一方的侧壁和对向的托面夹持线圈骨架，所以，在屏蔽箱的内部，线圈骨架不会不稳定，在屏蔽箱的内部，能够稳定保持线圈骨架，能够稳定保持磁芯。

本发明，由于在磁芯的外周部的嵌合凹部或嵌合凸部，在上述保持架的嵌合凹部或嵌合凸部进行嵌合，借助保持架，使磁芯与屏蔽箱自由电导通，所以，能够相对于屏蔽箱，使磁芯形成导通状态。由此，能够发挥屏蔽箱本来的屏蔽性。

此外，如果利用设在磁芯和保持架的嵌合凹部或嵌合凸部，提高磁芯和保持架的接合性，当在屏蔽箱的内部填充、硬化树脂，正式固定磁芯、线圈骨架和保持架时，虽有因浸入在磁芯和保持架的之间的树脂，影响磁芯和保持架的电导通危险，但是，通过利用嵌合凹部或嵌合凸部的嵌合，强固地机械嵌合磁芯和保持架，能够确保确实导通。

Claims (12)

1.一种磁头，其特征在于：在金属制的屏蔽箱的内部，插入在线圈骨架上安装磁芯构成的磁芯组件和保持架，在形成在上述屏蔽箱的介质滑动面的窗部露出上述磁芯的磁隙部，并将上述磁芯组件固定在上述屏蔽箱的内部；

在上述屏蔽箱的两侧壁的内面的至少一方形成卡合凹部，且该卡合凹部嵌合上述保持架而进行上述磁隙部相对于上述介质滑动方向的直角方向的定位。

2.如权利要求1所述的磁头，其特征在于：在上述卡合凹部的上述窗部侧的端部，形成与上述保持架的端部接触、使上述磁隙部相对于上述窗部进行深度方向的定位的缘部。

3.如权利要求1所述的磁头，其特征在于：上述屏蔽箱由磁性体构成，在上述保持架的两端部侧分别安装磁芯组件，在上述屏蔽箱的介质滑动面的宽度方向两侧分别形成窗部，并以分别定位的状态在上述两窗部内分别设置上述两磁芯组件的磁隙部，在位于上述两窗部的之间的上述屏蔽箱的前面壁上形成凹槽，在该凹槽上设置构成上述两窗部间的介质滑动面的非磁性体的保护件。

4.如权利要求1所述的磁头，其特征在于：在位于上述屏蔽箱的窗部的两侧的屏蔽箱的两侧壁内面中的一方侧壁内面形成卡合凹部，该卡合凹部与上述保持架的一部分卡合并定位上述磁隙部相对于上述窗部的高度方向，在另一方侧壁内面形成与上述卡合凹部对向的第2凹部。

5.如权利要求4所述的磁头，其特征在于：在形成在上述另一方侧壁内面的第2凹部的两侧，形成搭接在上述保持架的一部分上并与上述一方侧壁一同夹持上述线圈骨架的托面。

6.如权利要求2所述的磁头，其特征在于：上述屏蔽箱由磁性体构成，在上述保持架的两端部侧分别安装磁芯组件，在上述屏蔽箱的介质滑动面的宽度方向两侧分别形成窗部，以各自定位的状态在上述两窗部内分别设置上述两磁芯组件的磁隙部，在位于上述两窗部的之间的上述屏蔽箱的前面壁上形成凹槽，在该凹槽上设置构成上述两窗部间的介质滑动面的非磁性体的保护件。

7.如权利要求6所述的磁头，其特征在于：在位于上述屏蔽箱的窗部的两侧的屏蔽箱的两侧壁内面中的一方侧壁内面形成卡合凹部，且该卡合凹部卡合在上述保持架的一部分上并定位上述磁隙部的相对于上述窗部的高度方向，在另一方侧壁内面形成与上述卡合凹部对向的第2凹部。

8.如权利要求7所述的磁头，其特征在于：在形成在上述另一方侧壁内面的第2凹部的两侧，形成搭接在上述保持架的一部分上并与上述一方侧壁一同夹持上述线圈骨架的托面。

9.如权利要求3所述的磁头，其特征在于：在位于上述屏蔽箱的窗部的两侧的屏蔽箱的两侧壁内面中的一方侧壁内面形成卡合凹部，且该卡合凹部卡合在上述保持架的一部分上并定位上述磁隙部的相对于上述窗部的高度方向，在另一方侧壁内面形成与上述卡合凹部对向的第2凹部。

10.如权利要求4所述的磁头，其特征在于：在形成在上述另一方侧壁内面的第2凹部的两侧，形成搭接在上述保持架的一部分上并与上述一方侧壁一同夹持上述线圈骨架的托面。

11.如权利要求1所述的磁头，其特征在于：上述保持架，由导电材料构成，被上述屏蔽箱和上述磁芯夹持，插入在屏蔽箱内部，同时，在上述磁芯的外周部，形成嵌合凹部或嵌合凸部，在上述保持架上形成与上述磁芯的嵌合凹部或嵌合凸部相嵌合的嵌合凸部或嵌合凹部，上述磁芯借助上述保持架，可与屏蔽箱自由电导通。

12.如权利要求2所述的磁头，其特征在于：上述保持架，由导电材料构成，被上述屏蔽箱和上述磁芯夹持，插入在屏蔽箱内部，同时，在上述磁芯的外周部，形成嵌合凹部或嵌合凸部，在上述保持架上形成与上述磁芯的嵌合凹部或嵌合凸部相嵌合的嵌合凸部或嵌合凹部，上述磁芯借助上述保持架，可与屏蔽箱自由电导通。

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