CN1357500A - 镀膜玻璃生产抽真空的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于镀膜玻璃生产技术。本发明提出的方法为:在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时,通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持,将钛靶送电使之溅射,保持电流为30A,每次2－4分钟,每半小时一次,至镀膜室真空度达到要求(1.2×10－3Pa)。采用本发明方法,镀膜室真空度在短时通大气后抽真空到满足生产要求,可节约时间10小时左右,在更换镀膜室护板和辊子后抽真空到满足生产要求,可节约时间30小时左右。增加了相应的生产时间,减少了相应的抽真空能耗。
Description
本发明属于镀膜玻璃生产技术领域，主要提出一种镀膜玻璃生产抽真空的方法。
镀膜玻璃生产工艺要求镀膜室的真空度达到1.2×10-3Pa左右开始生产，才能保证生产的产品质量。现在镀膜玻璃生产抽真空的方法是采用真空泵抽真空。采用这种方法在镀膜室短时通大气后抽到1.2×10-3Pa时需要16～20小时；在更换镀膜室护板和辊子后，因上面吸附的水汽、油汽较多，抽到要求的真空度(1.2×10-3Pa)时，需要36～48小时。
本发明的目的即是提出一种镀膜玻璃生产抽真空的方法，使用该方法可节约抽真空所需时间并减少相应的抽真空能耗。
本发明提出的镀膜玻璃生产抽真空的方法为：在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时，通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持，将钛靶送电使之溅射，保持电流为30A，每次2～4分钟， 每半小时一次，直至达到要求的真空度(1.2×10-3Pa)。
本发明提出在真空泵抽真空时，通入氩气，并将钛靶送电使之溅射的抽真空方法。钛靶溅射既用荷能粒子(通常为气体正离子)轰击靶体，从而引起靶体表面原子从母体逸出现象，因钛原子具有很强的吸附性，真空室顶部的钛靶原子被溅射出来，向底部运动的过程中，吸附原本在真空室内做自由运动的气体分子一同向底部运动(真空泵抽气口在底部)，有效地提高了抽气速度。钛原子溅射到镀膜室护板和辊子上后，因其具有一定的能量，迫使护板和辊子上吸附的水汽、油气逸出(否则为缓慢放气)，缩短了抽真空时间。本发明使用的氩气纯度为99.99％。氩气的加入是为了保证真空室的压力满足钛靶的溅射要求。
采用本发明方法，镀膜室真空度在短时通大气后抽真空到满足生产要求，可节约时间10小时左右，在更换镀膜室护板和辊子后抽真空到满足生产要求，可节约时间30小时左右。增加了相应的生产时间，减少了相应的抽真空能耗。
实施例：
在真空泵将镀膜室真空度抽到0.12Pa时，(真空泵继续工作)通入氩气(99.99％)使镀膜室压力为0.26Pa并保持，将钛靶送电使之溅射，保持电流为30A，每次3分钟，每半小时一次。至真空度达到要求(1.2×10-3Pa)。
该方法中涉及到的钛靶，是镀膜玻璃生产中已有的设备，钛靶在镀膜玻璃生产中用以将氮化钛溅射到玻璃表面，形成生产工艺要求的膜层，氩气通入和控制装置是为钛靶溅射所提供，也为原有镀膜玻璃生产中已有的设备。
Claims (1)
1、一种镀膜玻璃生产抽真空的方法，其特征是：使用真空泵将镀膜室抽真空，在抽到真空度为0.12Pa时，通入氩气使镀膜室压力为0.26Pa并保持，将钛靶送电使之溅射，保持电流为30A，每次2-4分钟，每半小时一次，至镀膜室真空度达到要求(1.2×10-3Pa)。
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